способ получения трихлорсилана

Классы МПК:C01B33/107 галогензамещенные силаны
Автор(ы):, , ,
Патентообладатель(и):Институт химии высокочистых веществ РАН,
Институт общей физики РАН
Приоритеты:
подача заявки:
1993-04-16
публикация патента:

Изобретение относится к способам получения высокочистого трихлорсилана, применяемого в качестве источника кремния в технологиях микроэлектроники. Сущность изобретения: трихлорсилан получают взаимодействием тетрахлорида кремния с техническим кремнием и хлористым водородом при 380 - 450°С и разделением смеси хлорсиланов на диффузионных мембранах. Получают трихлорсилан с содержанием SiCl46способ получения трихлорсилана, патент № 203829710-2 об.% и примесей металлов менее 1способ получения трихлорсилана, патент № 203829710-6 мас.%.

Формула изобретения

СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ТРИХЛОРСИЛАНА, включающий взаимодействие тетрахлорида кремния с техническим кремнием и хлористым водородом с последующим разделением смеси хлорсиланов и рециркуляцией непрореагировавшего тетрахлорида кремния, отличающийся тем, что взаимодействие проводят при 380 450oС и разделение смеси хлорсиланов проводят на диффузионных мембранах.

Описание изобретения к патенту

Предлагаемое изобретение относится к получению кремнийсодержащих материалов и может быть использовано в производстве хлорсиланов, применяемых в качестве источника кремния в технологиях микроэлектроники.

Известны способы получения трихлорсилана по реакции взаимодействия тетрахлорида кремния с техническим кремнием и водородом в присутствии хлористого водорода при способ получения трихлорсилана, патент № 2038297 300оС и катализаторов меди и/или ее соединений или расплавов галогенидов (например, AlCl3 и NaCl или KCl), катионного материала на основе гетерополикислот и др. с последующим разделением смеси хлорсиланов дистилляцией и/или ректификацией и рециркуляцией непрореагировавшего тетрахлорида кремния.

Недостатком этих способов является использование водорода, что усложняет проведение процесса с точки зрения его безопасности, и катализаторов, загрязняющих трихлорсилан примесями за счет хлорирования материала катализатора. Кроме того, под действием трихлорсилана катализаторы разрушаются.

Наиболее близким по совокупности признаков к предлагаемому изобретению является способ получения трихлорсилана по реакции взаимодействия тетрахлорида кремния с техническим кремнием и водородом в присутствии хлористого водорода при 1100-1300оС с последующим разделением смеси хлорсиланов ректификацией и дистилляцией и рециркуляцией непрореагировавшего тетрахлорида кремния.

Недостатком этого способа является также использование водорода и высокая температура проведения реакции, в связи с чем материал аппаратуры подвергается коррозии, происходит загрязнение получаемого трихлорсилана примесями из материала аппаратуры и технического кремния, а также значительные энергозатраты. Проведена оценка скорости поступления примесей в трихлорсилан из материала аппаратуры в зависимости от температуры его получения. Например, для стали Х20Н6ЗМ16Б, содержание железа в поверхностном слое которой составляет 6 .10-2 мас. скорость поступления примесей при 400 и 1200оС может отличаться в 16 раз.

Из-за близости значений температуры кипения тетрахлорида кремния и трихлорсилана их трудно разделить методами дистилляции или ректификации (коэффициент разделения способ получения трихлорсилана, патент № 2038297 2,5 для смеси трихлорсилана и тетрахлорида кремния).

Для упрощения процесса с точки зрения его безопасности, увеличения срока службы аппаратуры, предотвращения загрязнения трихлорсилана материалом аппаратуры и снижения энергозатрат в предлагаемом способе трихлорсилан получают по реакции взаимодействия тетрахлорида кремния с техническим кремнием и хлористым водородом при 380-450оС и разделением смеси хлорсиланов на диффузионных мембранах.

В соответствии с предлагаемым способом получают трихлорсилан с суммарным содержанием SiCl4 6.10-2 об. и примесей металлов менее 1.10-6мас.

Сопоставительный анализ предлагаемого изобретения с известным показывает, что предлагаемый способ отличается от известного отсутствием водорода в реакционной смеси, температурой проведения реакции, которая значительно ниже и составляет 380-450оС, а также способом разделения смеси хлорсилана, в частности с помощью диффузионных мембран; при этом одновременно происходит глубокая очистка трихлорсилана.

Температура 380-450оС, при которой идет реакция образования смеси хлорсиланов, была подобрана экспериментальным путем и, как показали опыты, является оптимальной с точки зрения выхода трихлорсилана 30-40% При температуре менее 380оС реакция не идет с заметным выходом, а при температуре выше 450оС выход трихлорсилана снижается. Кроме того, при температуре выше 450оС сказывается загрязняющее действие материала аппаратуры, например при температуре 500оС скорость поступления примесей в трихлорсилан увеличивается способ получения трихлорсилана, патент № 2038297 на 40% по сравнению со скоростью поступления примесей в трихлорсилан при температуре 450оС. Поэтому температура, выбранная в интервале 380-450оС, является оптимальной еще и с точки зрения поступления примесей в получаемый трихлорсилан, т.е. при возможно максимальном выходе трихлорсилана 30-40% происходит минимальное загрязнение продукта материалом аппаратуры. Метод разделения смеси хлорсиланов с помощью диффузионных мембран был подобран эксперименталным путем (определены коэффициенты разделения способ получения трихлорсилана, патент № 2038297 например, для смеси трихлорсилана и тетрахлорида кремния, для трихлорсилана и силана, для смеси трихлорсилана и примесей металлов Fe. Mg, Mn, Cr и др.) и, как показали опыты, является оптимальным с точки зрения получения высокочистого трихлорсилана, т. е. эффективным методом разделения трихлорсилана от тетрахлорида кремния и других хлорсиланов и одновременно его глубокой очистки от молекулярных примесей и примесей металлов. Расчетами и теоретическими предпосылками нельзя было предсказать, что разделение с помощью диффузионных мембран будет наиболее эффективным для получения высокочистого трихлорсилана.

Таким образом, подобранная экспериментально температура 380-450оС, при которой идет реакция образования смеси хлорсилана (на этой стадии до минимума снижено загрязняющее действие материала аппаратуры) и метод разделения смеси с помощью диффузионных мембран с одновременной глубокой очисткой выделенного трихлорсилана от молекулярных примесей и примесей в виде взвешенных частиц, очень существенны, так как они обуславливают получение высокочистого трихлорсилана.

Ниже приводятся примеры, иллюстрирующие предлагаемый способ.

П р и м е р 1. В кварцевый реактор загружают 4 г технического кремния и нагревают до 380оС. Затем готовят парогазовую смесь, состоящую из 27 г тетрахлорида кремния с хлористым водородом, которую пропускают через реактор. Через 2 ч получают 27 г продукта, который анализируют на содержание трихлорсилана. По данным газохроматографического анализа содержание трихлорсилана в смеси составляет 30% Затем полученную смесь разделяют на диффузионных мембранах при комнатной температуре. Непрореагировавший тетрахлорид кремния возвращают в реактор. По данным газохроматографического анализа содержание SiCl4 составляет 6.10-2 об. по данным химико-спектрального анализа содержание металла составляет, мас. Mn < 1способ получения трихлорсилана, патент № 203829710-7, Cu < 1способ получения трихлорсилана, патент № 203829710-7; Fe < 4способ получения трихлорсилана, патент № 203829710-7; Ni < 2способ получения трихлорсилана, патент № 203829710-6, Cr < 3способ получения трихлорсилана, патент № 203829710-7.

П р и м е р 2. Условия опыта аналогичны условиям примера 1, только реактор с кремнием нагревают до 450оС. По данным газохроматографического анализа содержание трихлорсилана в смеси составляет 40% Содержание SiCl4 и металлов в полученном трихлорсилане, как в примере 1.

П р и м е р 3. Условия опыта аналогичны условиям примера 1, только в реактор с техническим кремнием нагревают до 420оС. По данным газохроматографического анализа содержание трихлорсилана в смеси составляет 37% Содержание SiCl4 и металлов в полученном трихлорсилане, как в примере 1.

В сравнении с известными предлагаемый способ позволяет

значительно упростить процесс получения трихлорсилана с точки зрения безопасности благодаря отсутствию водорода в реакционной смеси;

снизить загрязняющее действие материала аппаратуры в 16 раз за счет проведения процесса при температуре 380-450оС вместо 1100-1300о;

увеличить срок службы, уменьшить энергозатраты.

Класс C01B33/107 галогензамещенные силаны

способ получения трихлорсилана и кремний для использования в получении трихлорсилана -  патент 2529224 (27.09.2014)
способ уменьшения содержания элементов типа бора в галогенсиланах и устройство для его осуществления -  патент 2504515 (20.01.2014)
способ и система для получения чистого кремния -  патент 2503616 (10.01.2014)
устройство и способ уменьшения содержания элементов типа бора в галогенсиланах -  патент 2502669 (27.12.2013)
галогенированный полисилан и плазмохимический способ его получения -  патент 2502555 (27.12.2013)
способ получения трихлорсилана и тетрахлорсилана -  патент 2499801 (27.11.2013)
катализатор и способ дисмутации содержащих водород галогенсиланов -  патент 2492924 (20.09.2013)
эжекторная форсунка для газа хлористого водорода, реакционное устройство для получения трихлорсилана и способ получения трихлорсилана -  патент 2486954 (10.07.2013)
установка производства трихлорсилана и способ производства трихлорсилана -  патент 2477171 (10.03.2013)
способ каталитического гидрирования тетрахлорида кремния -  патент 2472704 (20.01.2013)
Наверх