способ ик-дефектоскопии

Классы МПК:G01N25/72 обнаружение локальных дефектов
Автор(ы):, ,
Патентообладатель(и):Государственное научно-производственное предприятие "Исток"
Приоритеты:
подача заявки:
1992-11-27
публикация патента:

Изобретение относится к бесконтактным способам контроля дефектов и теплофизических параметров материалов. Способ заключается в регистрации фотоприемником, синхронно и независимо от одной и той же зоны объекта, имеющего температуру в диапазоне 400 - 600 К, в двух спектральных диапазонах 2 - 5 мкм и 8 - 14 мкм фотосигналов и скорости их изменения, вызванных ИК-излучением из нагретой коротким импульсом лазера точечной зоны объекта, и определении теплофизических параметров и глубины залегания дефектов путем деления отношения скорости изменения к сигналу одного спектрального диапазона на отношение скорости изменения к сигналу другого спектрального диапазона. Для этого используется двухспектральный ИК-фотоприемник типа сэндвич, чувствительные элементы которого имеют идентичные пространственно-частотные характеристики. Способ устраняет влияние излучательной способности объекта на результаты измерений и дает возможность повысить инструментальную точность за счет исключения аппаратных функций обоих спектральных диапазонов. 2 ил.
Рисунок 1, Рисунок 2

Формула изобретения

СПОСОБ ИК-ДЕФЕКТОСКОПИИ, заключающийся в подаче на объект теплового импульса от источника тепловых импульсов, регистрации фотоприемником скорости изменения фотосигнала и определении параметров дефектов, отличающийся тем, что регистрируют синхронно и независимо фотосигналы I1 и I2 и скорости их изменения dI1/dспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 и dI2/dспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 в двух спектральных диапазонах 2 5 и 8 14 мкм от одной и той же зоны объекта, имеющего температуру 400 600 К, а теплофизические параметры и глубину залегания дефектов определяют путем деления отношения (dI1/dспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230)/I1 одного спектрального диапазона на (dI2/dспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230)/I2 другого спектрального диапазона, при этом для регистрации используют двухспектральный фотоприемник типа "сэндвич" с чувствительными элементами, имеющими идентичные пространственно-частотные характеристики.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к измерительной технике, а именно к неразрушающему контролю качества материалов, и может быть использовано при разработке и производстве изделий электронной техники.

Известен способ определения коэффициента темпеpатуропроводности материала [1] заключающийся в подаче теплового импульса на поверхность исследуемого объекта, последующем измерении температуры в двух его точках и определении температуропроводности расчетным путем. Для повышения точности измерения производят измерение температуры в дополнительной точке, расположенной между основными.

Недостатки этого способа: область применения способа ограничена, так как неизбежны большие погрешности при измерении объектов неправильной формы из-за необходимости контактирования термодатчиков с объектом; низкая чувствительность способа к пространственным колебаниям коэффициента температуропроводности, так как измеряется усредненная величина температуропроводности по объекту между точками установления термодатчиков.

Известен способ контроля качества паяных соединений и устройство для его осуществления [2] Способ заключается в измерении скорости нагрева и охлаждения соединения при импульсном воздействии лазерного излучения и сравнении тепловых характеристик исследуемого соединения с эталонным, что позволяет обнаружить непропай, пустоты, трещины и отслаивание металлизации.

Устройство для осуществления способа содержит лазер, ИК-датчик и систему автоматического сканирования в соответствии с программой.

Указанные способ и устройство характеризуется низкой точностью. Введение операции сравнения с эталоном не устраняет этот недостаток, так как невозможно создать два идентичных образца, особенно в условиях производства паяных соединений с одинаковым распределением теплофизческих характеристик. Кроме того измеряемое среднее значение скорости охлаждения не дает возможности оценить глубину залегания дефекта.

Наиболее близким к предлагаемому является способ импульсной видеотермографии [3] в котором материалу сообщается тепловой импульс и в случае наличия дефектов в объекте (поры, включения и т.п.) на его поверхности возникнут соответствующие изменения температуры. Устройство, осуществляющее описанный способ, содержит источник теплового импульса, например лазер, нагревающий исследуемый объект; ИК-фотоприемник и устройство видеозаписи теплового изображения поверхности объекта. Покадровое воспроизведение видеозаписи позволяет обнаружить имеющиеся дефекты.

Недостатки этого способа: область применения способа ограничена, так как он не позволяет исследовать дефекты в объектах с неизвестными и неоднородными теплофизическими параметрами и излучательной способностью; способ не дает возможности определить теплофизические параметры исследуемых объектов, так как фотосигнал одного спектрального диапазона является сложной функцией по меньшей мере четырех параметров температуропроводности, теплопроводности, глубины залегания дефектов и излучательной способности объекта, три из которых должны быть известны, например, для определения глубины залегания дефекта.

Цель изобретения повышение чувствительности и информативности контроля дефектов и теплофизических параметров материалов.

Цель достигается тем, что в известном способе ИК-дефектоскопии, заключающемся в подаче на объект теплового импульса от источника тепловых импульсов, регистрации фотоприемником скорости изменения фотосигнала и определения параметров дефектов, регистрируют синхронно и независимо фотосигналы I1, I2 и скорости их изменения (dI1/dспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230), (dI2/d способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230) в двух спектральных диапазонах 2-5 мкм и 8-14 мкм от одной и той же зоны объекта, имеющего температуру в диапазоне 400-600 К, а теплофизические параметры и глубину залегания дефектов определяют путем деления отношения (dI1/dспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230)/I1 одного спектрального диапазона на (dI2/dспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230)/I2 другого спектрального диапазона, при этом для регистрации используют двухспектральный фотоприемник типа сэндвич, с чувствительными элементами, имеющими идентичные пространственно-частотные характеристики.

Сущность предложенного способа заключается в том, что указанные выше четыре измеренные величины позволяют устранить влияние излучательной способности поверхности объекта в том и другом спектральном диапазонах и определить два неизвестных параметра глубину залегания подповерхностных дефектов и температуропроводность материала объекта. Для этого рабочий диапазона температур объектов выбран равным 400-600 К, в котором для диапазонов 2-5 мкм и 8-14 мкм справедливы соответственно законы Вина и Релея-Джинса, что дает возможность получить в аналитическом виде выражения для четырех измеренных величин Ii и (dIi/d способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230) и произвести с ними необходимые математические операции для определения искомых параметров объекта. Способ дает возможность повысить инструментальную точность за счет исключения аппаратных функций обоих спектральных диапазонов.

Отметим особенность "сэндвич" ИК-фотоприемника, имеющего указанные спектральные диапазоны. Известно, что S2 (8-14 мкм)/S1 (2-5 мкм) способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 2,0 и [dWспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230/dT (8-14 мкм)]/[dWспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230/dT (2-5 мкм)] способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 10, например, для Т 330 К. Отсюда (dI2/dспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230)/(dI1/dспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230) способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 20. Поэтому, осуществляя предложенный способ с двухспектральным фотоприемником, получают два диапазона чувствительности: "Тонко" (8-14 мкм), чувствительного к слабым изменениям способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230Т, т.е. к мелким неоднородностям и дефектам на малой глубине от поверхности объекта: "Грубо" (2-5 мкм), чувствительного к большим изменениям способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230Т, т.е. только к средним неоднородностям и дефектам на средних глубинах.

На фиг.1 дана схема устройства для ИК-дефектоскопии, где приняты обозначения: объект 1, лазер 2, двухспектральный ИК-фотоприемник 3, система 4 сканирования, фокусирующая система 5, дифференциаторы 6, аналого-цифровые преобразователи (АЦП) 7, блок 8 накопления и отображения информации (БНО), ЭВМ 9, видеоконтрольное устройство (ВКУ) 10; на фиг.2 схема двухспектрального ИК-фотоприемника типа сэндвич, где обозначены: элемент 11 чувствительный в спектральном диапазоне 2-5 мкм. элемента 12, чувствительный в спектральном диапазоне 8-14 мкм; корпус структуры 13, диафрагма 14, электрические выводы 15.

Для пояснения сущности изобретения выведем ряд математических соотношений и подробно рассмотрим физические процессы, происходящие при осуществлении способа.

Допустим, на исследуемый непрозрачный объект (например, металлическая пленка на поверхности диэлектрика) подается короткий (примерно 10-9 с) импульс сфокусированного лазерного излучения, который приводит к нагреву локальной зоны на поверхности объекта до температуры Т (у 0, способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 0).

Изменение температуры нагретой поверхности объекта, который имеет поверхностный слой толщиной а или глубиной d, залегает дефект, описываемый зависимостью:

T(y= 0, способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230) t+ способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 20592301-hспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230(-h)n-1способ ик-дефектоскопии, патент № 20592302способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230expспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230- способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230, (1) где способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230- время; Q (Дж/см2) сила мгновенного источника тепла, действующего на поверхности в результате нагрева излучением лазера; а1 g1/q1способ ик-дефектоскопии, патент № 20592301 температуропроводность; g1 коэффициент теплопроводности; q1- удельная теплоемкость; способ ик-дефектоскопии, патент № 20592301 плотность поверхностного слоя объекта; h (1 Ke)/(1 + Ke); Ke e1/e2; e1 (g1q1способ ик-дефектоскопии, патент № 20592301)1/2; e2 (g2q2способ ик-дефектоскопии, патент № 20592302)1/2. Соответствующие величины с индексами 2 относятся к дефекту; t температура объекта до воздействия излучением лазера.

Если тепловое излучение ИК-диапазона от нагретой области, преобразуемой оптической системой, регистрируется фотоприемником, выполненным в виде двухспектральной "сэндвич"-структуры, элементы которой чувствительны в спектральных диапазонах способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230способ ик-дефектоскопии, патент № 20592301 и способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230способ ик-дефектоскопии, патент № 20592302, то выражения для фотосигналов на выходе элементов запишутся в виде:

I1= способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230S1(способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230)способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230Wспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230dспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 (2)

I2= способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230S2(способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230)способ ик-дефектоскопии, патент № 20592301(способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230)способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230Wспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230dспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 где Ао апертура оптической системы; способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 угловой размер чувствительного элемента; способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230i способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230is способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230ic спектральный диапазон чувствительности i-го элемента по уровню 0,1 от Simaх; Simax спектральная токовая чувствительность i-го элемента на длине волны, соответствующей максимуму чувствительности квантового фотоприемника; Si(способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230) спектральная токовая чувствительность i-го элемента на длине волны способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 в диапазоне способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230i; способ ик-дефектоскопии, патент № 20592301(способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230) спектральный коэффициент пропускания верхнего элемента в диапазоне способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 нижнего элемента; Wспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 спектральная плотность потока излучения АЧТ (формула Планка).

Особенность двухспектральных фотоприемников типа сэндвич заключается в том, что поток излучения от локально нагретой области объекта при прохождении через элементы сепарируется ими синхронно по спектральным диапазонам, они имеют идентичные пространственно-частотные характеристики и не требуется дополнительных оптических элементов для расщепления излучения, как это имеет место в двухспектральных фотоприемниках, элементы которых расположены в одной плоскости.

Скорости изменения сигналов, обусловленные изменением температуры (dT/dспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230) на поверхности объекта, получают, дифференцируя соотношения (2)

способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230S1(способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230)способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230dспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 (3)

способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230S2(способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230)способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230способ ик-дефектоскопии, патент № 20592301(способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230)способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230dспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230

Воспользуемся известной особенностью классической формулы Планка, которая заключается в том, что в области коротких длин волн, при условии способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230T способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 3 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 103 мкм град, с точностью не выше 1% она может быть заменена уравнением Вина Wспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 (способ ик-дефектоскопии, патент № 20592301T) C1 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230-5 exp(-C2/способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230T), где С1 3,7415.104 Вт способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 мкм4/см2, С2 1,4388 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 104 мкм, К константы. В области длинных волн при условии (способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230Т/C2) >> 1 формулу Планка можно заменить уравнением Рэлея-Джинса Wспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230(способ ик-дефектоскопии, патент № 20592301T) (C1/C2) способ ик-дефектоскопии, патент № 20592304T. Оценки показывают, что для способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 20592301 2-5 мкм, точнее для крайней длины волны способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230= 5 км, закон Вина справедлив при Т способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 600 К, а для способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 20592302 8-14 мкм, вернее для нижней длины волны способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230= 8 мкм, закон Рэлея-Джинса справедлив при T способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 500 К. То есть существует диапазон температур объектов 500 К способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 Т способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 600 К, а для практических целей этот диапазон можно расширить до 400 К способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 T способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 600 К, в котором выражения (2) и (3) существенно упрощаются и Ii, как и (dIi/dспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230), выражаются аналитически

I1= Mспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230Cспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 + 3 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 + 6 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 + 6xспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230expспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230- способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230

способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 + 3 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 + 6 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 + 6xспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230expспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230- способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 Mспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230C1способ ик-дефектоскопии, патент № 20592301способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230

I2= способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 Nспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230C1способ ик-дефектоскопии, патент № 20592302xспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230

Mспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230= способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230S1 max способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230K1(способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230)dспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 (4)

Nспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230= способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230S2 max способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230K2(способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230)способ ик-дефектоскопии, патент № 20592301(способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230)dспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230

x способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230

В соотношениях (4) M способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 и N способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 эффективные величины, в которые входят известные аппаратные функции оптической системы и фотоприемника, а Кi(способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230) относительные спектральные характеристики элементов. Кроме того способ ик-дефектоскопии, патент № 20592301 и способ ик-дефектоскопии, патент № 20592302 представляют эффективные излучательные способности поверхности объекта в соответствующих спектральных диапазонах способ ик-дефектоскопии, патент № 20592301= способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230dспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 и способ ик-дефектоскопии, патент № 20592302= способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230dспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230.

Аналогично упрощаются соотношения (3)

способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 Mспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230C1способ ик-дефектоскопии, патент № 20592301 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 +4 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 +12 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 +24 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 + 24xспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230

способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 expспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230- способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230-способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 +4 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 +12 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 +24 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 +24xспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230expспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230- способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230=

Mспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230C1способ ик-дефектоскопии, патент № 20592301 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 (5)

способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 Nспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230Cспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230

В соотношении (4) для I1 можно пренебречь последним членом в квадратных скобках, так же как и последним членом в соотношении (5) для (dI1/dспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230), что составит не более 1,5% относительной ошибки. Введение эффективных величин способ ик-дефектоскопии, патент № 20592301 и способ ик-дефектоскопии, патент № 20592302, также как учет коэффициента излучательной способности с погрешностью способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 1% невозможен даже при метрологических работах. И обычно 10%-ная точность определения коэффициента излучательной способности, например, в оптической пирометрии, считается удовлетворительной.

В соотношения (4) и (5) вводят четыре неизвестные величины способ ик-дефектоскопии, патент № 20592301, способ ик-дефектоскопии, патент № 20592302, Т и (dT/dспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 ). Две из них, способ ик-дефектоскопии, патент № 20592301 и способ ик-дефектоскопии, патент № 20592302, исключают, беря отношения

способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 (6)

способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 (7)

Из выражений (6) и (7) видно, что отношение

способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 / способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 f (x, способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230i) (8) зависит только от одной неизвестной величины Т (у 0, способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230), которая может быть найдена с использованием ЭВМ, одним из известных методом решения нелинейных трансцендентных уравнений по экспери- ментальным значениям ( способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230I1/способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230), (способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230I2/способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230) и I1(способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230), I2(способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 ), измеренным в момент времени способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230, равный способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230/2.

Оценки показали, что, например, для медной пленки толщиной а способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 3 мкм на текстолитовой подложке, если измерения проводятся при способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 10-7с, то в (1) можно, с погрешностью не выше примерно 2% ограничиться первым членом разложения n 1,

T способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 t + способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 20592301-2h expспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230- способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 (9)

Аналогично для производной

способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 20592301-2hспособ ик-дефектоскопии, патент № 20592301- способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230expспособ ик-дефектоскопии, патент № 2059230- способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 (10)

В рассмотренном примере (наибольшее расхождение по е1 и е2) параметр h способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 0,955, то есть для широкого класса объектов можно положить h 1, либо достаточно провести грубую оценку, параметра h, если имеются какие-нибудь косвенные данные об исследуемом объекте.

Из отношения

способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230 (11) подставляя в него найденное по соотношению (8) значение Т, определяют величину (dT/d способ ик-дефектоскопии, патент № 2059230) и, таким образом, имеют два уравнения (9) и (10), из которых находят два искомых параметра d и a1, например, при известном g1.

Способ осуществляют следующим образом.

Полученные фотосигналы по указанным спектральным диапазонам поступают в дифференциаторы 6 (фиг.1) и через АЦП 7 в БНО 8 и одновременно обрабатываются в ЭВМ 9. На дисплее ВКУ 10 получают изображение распределения дефектов по глубине залегания d либо распределение параметра а1 по поверхности объекта.

Таким образом, используя предлагаемый способ, можно проводить анализ, например, твердых растворов переменного состава, включающих разнородные металлы либо включения второй фазы.

Предлагаемый способ имеет следующие преимущества. Регистрация фотосигналов и их производных в нескольких спектральных диапазонах увеличивает степень свободы способа, т.е. увеличивает тем самым информативность, позволяя производить желаемую корреляционную обработку измеренных величин, которые к тому же принимаются синхронно и независимо по двум каналам из одной и той же локальной области объекта, что существенно упрощает его осуществление, так как устраняется сканирование по чувствительным элементам, необходимое при приеме теплового излучения, чувствительные элементы которых расположены в одной плоскости, а также устраняет необходимую в таких системах синхронизирующую электродную обработку сигналов. Кроме того, устраняется влияние излучательной способности поверхности реальных объектов на результаты измерений, а также повышается инструментальная точность за счет исключения аппаратных функций спектральных каналов.

Класс G01N25/72 обнаружение локальных дефектов

способ измерения теплопроводности и теплового сопротивления строительной конструкции -  патент 2527128 (27.08.2014)
способ определения степени повреждения силосного корпуса элеватора из сборного железобетона -  патент 2525313 (10.08.2014)
способ теплового контроля герметичности крупногабаритного сосуда -  патент 2520952 (27.06.2014)
способ теплового нагружения обтекателей ракет из неметаллических материалов -  патент 2517790 (27.05.2014)
способ контроля качества неразъемных соединений -  патент 2515425 (10.05.2014)
устройство определения сопротивления теплопередачи многослойной конструкции в реальных условиях эксплуатации -  патент 2512663 (10.04.2014)
способ активного одностороннего теплового контроля скрытых дефектов в твердых телах -  патент 2509300 (10.03.2014)
способ теплового контроля надежности конструкций из полимерных композиционных материалов по анализу внутренних напряжений и устройство для его осуществления -  патент 2506575 (10.02.2014)
термоэлектрический способ неразрушающего контроля качества поверхностного слоя металла -  патент 2498281 (10.11.2013)
способ управления промышленной безопасностью и диагностики эксплуатационного состояния промышленного объекта -  патент 2494434 (27.09.2013)
Наверх