устройство для нанесения покрытий (варианты)

Формула изобретения

1. Устройство для нанесения покрытий, содержащее вакуумную камеру, магнитную систему, электродную систему из распыляемого металла, источник питания и подложкодержатель с подложками, отличающееся тем, что электродная система выполнена в виде чередующихся колец с ребристой внутренней поверхностью и с углом каждого ребра при вершине 20 45^o, установленных с зазором 1 3 мм относительно друг друга, а магнитная система расположена коаксиально камере.

2. Устройство для нанесения покрытий, содержащее вакуумную камеру, магнитную систему, электродную систему из распыляемого металла, источник питания и подложкодержатель с подложками, отличающееся тем, что электродная система выполнена в виде чередующихся пластин, выполненных с ребристой поверхностью и установленных в одной плоскости, а подложкодержатель выполнен в виде плоского элемента для крепления плоских подложек, установленного на расстоянии 10 20 мм от поверхности пластин электродной системы.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к ионно-плазменным устройствам для покрытия металлами различных материалов и может быть использовано в светотехнике, оптике, электронике, в частности микроэлектронике, для получения тонких покрытий катодным распылением.

Наиболее близким к предлагаемому является устройство по авт.св. 796248 "Устройство для нанесения покрытий", 1981 г. Устройство содержит вакуумную камеру, электродную систему из распыляемого металла, источник питания, магнитную систему, газовый коллектор для подачи реактивного газа, а также подложку и подложкодержатель.

Недостатком устройства является невозможность покрытия подложки большой площади.

Целью изобретения является повышение производительности устройства, а также увеличение площади подложек, покрываемых металлом.

Поставленная цель достигается тем, что для нанесения покрытий на подложки цилиндрической или близкой к ней формы в известном устройстве, состоящем из вакуумной камеры с давлением 0,01 0,1 мм рт.ст. магнитной системы, электродной системы из распыляемых металлов, источника питания, подложкодержателя, подложки, электродная система выполнена в виде чередующихся колец, расположенных на расстоянии 1 3 мм друг от друга, а внутренняя поверхность колец выполнена ребристой с углом ребра при вершине 20^o- 45^o. Магнитная система расположена коаксиально и обеспечивает индукцию магнитного поля 0,03 0,1 Тл. Во втором варианте для нанесения покрытий на подложки плоской геометрии электродная система выполнена в виде чередующихся пластин, расположенных в одной плоскости, а подложкодержатель представляет собой плоскость для крепления подложек на расстоянии 10 20 мм от плоскости электродов, при этом поверхность электродной системы выполнена ребристой.

на фиг. 1 представлен вариант устройства для нанесения покрытия на подложки цилиндрической формы, в котором электродная система выполнена в виде чередующихся колец; на фиг.2 вариант выполнения устройства.

Устройство состоит из вакуумной камеры 1, магнитной системы 2, электродной системы 3 с ребрами 4, подложкодержателя 5 с подложками 6, источника питания 7, герметичной крышки 8.

В вакуумной камере 1 не подложкодержатель 5 устанавливают подложку 6. Герметично закрывает крышку 8. Откачивает камеру до давления 0,1 0,01 мм рт. ст. Включают питание от источника 7 переменного напряжения 1 3 кВ, магнитную систему 2, и подложка покрывается слоем металла катода.

Для покрытия металлом крупногабаритных плоских подложек в вакуумную камеру устанавливают электродную систему с ребрами, изготовленную в виде чередующихся пластин, расположенных в одной плоскости. Подложкодержатель устанавливают на внутреннюю поверхность герметичной крышки. Подложкодержатель 5 представляет собой плоскость для крепления плоских подложек на расстоянии 10 20 мм от поверхности электродов.