Получение плазмы, управление плазмой: ...и с использованием внешних магнитных полей, например для фокусирования или вращения дуги – H05H 1/50

Изобретение относится к области вакуумно-плазменной технологии и может быть использовано для нанесения покрытий в вакууме. Технический результат: обеспечение стабильной безаварийной работы источника плазмы протяженной конструкции, повышение равномерности толщины формируемого покрытия на обрабатываемых изделиях, ускоренный выход катода в рабочий режим. В вакуумно-дуговом устройстве в электрическую цепь питания дуги включены аналоговый блок управления, коммутирующее устройство и дополнительные балластные сопротивления, величина которых соответственно определяет ток очистки и ток разогрева катода. 3 ил.

Изобретение относится к нанотехнологии. Нагревают реактор. Вводят плазменный газ через инъекционный аппарат. На магнитные катушки, расположенные в верхней и нижней частях реактора, подают ток. Объемную термическую плазму генерируют вращением электрической дуги с использованием приложенного снаружи магнитного поля. Состояние плазменной дуги наблюдают и записывают с помощью видеокамеры через блок визуального наблюдения. Углеродсодержащий материал испаряется и конденсируется на электродах и подложке, а также рециркулируется через объемную плазму. Из охлажденного реактора извлекают углеродные нанотрубки. Изобретение позволяет увеличить масштаб непрерывного или полунепрерывного массового производства углеродных нанотрубок. 2 н. и 20 з.п. ф-лы, 1 табл., 19 ил.

Изобретение относится к вакуумно-дуговому источнику плазмы и может найти применение для нанесения различного рода металлических покрытий на поверхность изделий. Источник содержит испаряемый металлический катод (2), анод (1), в качестве которого используется корпус, устройство поджига разряда и токоподвод, соединяющий источник электропитания разряда с катодом (2) со стороны, противоположной его рабочей поверхности. Токоподвод является средством стабилизации катодного пятна на рабочей поверхности катода и выполнен в виде проводника (10) в форме пространственной винтовой линии с углом подъема витков, не превышающим 20°. Устройство поджига разряда включает в свой состав поджигающий электрод (9). В состав устройства входит дополнительное средство стабилизации катодного пятна в виде электромагнитной катушки (11) или кольцевого электростатического экрана, установленного соосно катоду. На корпусе устройства установлена фокусирующая электромагнитная катушка (12). Катод (2) и токопровод снабжены системой принудительного охлаждения. При использовании изобретения повышается надежность вакуумно-дугового источника плазмы, а также стабильность генерации потоков эрозионной плазмы, упрощается конструкция устройства и повышается энергетическая эффективность генерации плазмы. 9 з.п. ф-лы, 3 ил.

Изобретение относится к плазменной технике, в частности к способам и устройствам с управляемой плазмой, и может быть использовано для решения широкого круга технических задач. Способ получения плазменного источника излучения на основе дугового разряда эрозионного типа включает инициирование разряда, формирование плазменного разряда в канале и формирование магнитного поля пондеромоторного давления. Магнитное поле создают пространственно однородным до формирования плазменного разряда. Плазменный разряд начинают формировать при достижении определенной величины индукции магнитного поля. Одновременно управляют амплитудой и временной формой светового импульса и варьируют условия формирования электромагнитных характеристик разряда. Плазменный источник излучения включает источник питания и формирователь излучающей плазмы из разрядного узла и узла создания прижимающего магнитного поля. Разрядный узел выполнен в виде лотка из диэлектрического материала с покрытием с плоским дном и сквозными отверстиями в боковых стенках. В открытых торцах лотка расположены соединенные инициатором разряда электроды. Узел создания прижимного магнитного поля - в виде электромагнита с сердечником. Лоток установлен в зазоре сердечника электромагнита. Покрытие лотка выбрано из термостойкого материала на основе соединений легкоионизируемых элементов. Изобретение позволяет повысить эффективность источника излучения при относительно малых токах с длительным излучением и возможностью управления в широком диапазоне параметрами источника излучения. 2 н. и 1 з.п. ф-лы, 5 ил.