способ возведения оснований для зданий на просадочных грунтах

Формула изобретения

СПОСОБ ВОЗВЕДЕНИЯ ОСНОВАНИЙ ДЛЯ ЗДАНИЙ НА ПРОСАДОЧНЫХ ГРУНТАХ, включающий бурение в грунте основания скважин, заполнение их сыпучим материалом и выполнение уплотненной подушки, содержащей материал заполнения скважин, с размещением при этом подушки и крайних скважин выходящими за пределы контура здания, отличающийся тем, что, с целью повышения надежности фундамента, материал заполнения скважин размещают в подушке в виде промежуточного слоя, причем промежуточный слой и расположенную на нем верхнюю часть подушки выполняют после бурения скважин, при этом подушку и крайние скважины размещают выходящими за пределами контура здания не менее чем на 0,2 H_sl, а скважины выполняют глубиной (1 - 2)H_sl и с шагом (5-15) d tg , где H_sl - глубина залегания просадочных грунтов, d - диаметр скважины, - угол растекания воды.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к строительству, а именно к способам возведения оснований для зданий, сооружений преимущественно в грунтах П типа просадочности.

Известен способ подготовки оснований на просадочных грунтах, заключающийся в том, что бурят скважины, засыпают их дренирующим материалом, замачивают грунты и после стабилизации просадки устраивают уплотненную грунтовую подушку.

Недостатком этого способа является то, что необходимо затрачивать значительное количество времени и воды для уплотнения грунта с тем, чтобы вызвать просадку, кроме того, при применении этого способа часто происходит общее обводнение площадок строительства с формированием купола грунтовых вод.

Наиболее близким является способ возведения оснований для зданий на просадочных грунтах, который включает бурение в грунте основания скважин, заполнение их сыпучим материалом и выполнение уплотненной подушки, содержащей материал заполнения скважин, с размещением при этом подушки и крайних скважин выходящими за пределы контура здания.

Недостатком этого способа является необходимость в устройстве дорогостоящих свай и возможность неравномерного замачивания грунтов.

Целью изобретения является повышение надежности фундамента.

На чертеже изображен поперечный разрез возведенного фундамента зданий на просадочных грунтах.

Способ возведения оснований для зданий на просадочных грунтах включает бурение в грунте основания скважин 1, заполнение их сыпучим материалом 2 и выполнение уплотненной подушки 3, содержащей материал заполнения скважин, с размещением при этом подушки 3 и крайних скважин выходящих за пределы контура здания. Материал заполнения 2 скважин 1 размещают в подушке в виде промежуточного слоя 4. Промежуточный слой 4 и расположенную на нем верхнюю часть подушки 3 выполняют после бурения скважин 1. Подушку 3 и крайние скважины 2 размещают выходящими за пределы контуры здания не менее, чем на 0,2 Н_sl, а скважины 1 выполняют глубиной 1-2 Н_sl и с шагом 5-15 dtg , где H_sl - глубина залегания просадочных грунтов;

d - диаметр скважины;

- угол растекания воды.