состав для обработки фотоматериалов

Формула изобретения

СОСТАВ ДЛЯ ОБРАБОТКИ ФОТОМАТЕРИАЛОВ, включающий воду и антистатик, отличающийся тем, что, с целью повышения качества обработки фотоматериалов, состав содержит в качестве антистатика четвертичную аммониевую соль формулы



где R₁, R₂, R₃ = C₁ - C₃-алкил;

R₄ = C₁₆ - C₁₈-алкил;

A^- = Cl, Br, J, CH₃COO, HCOO или их смесь,

при следующем соотношении компонентов, мас.%:

Четвертичная аммониевая соль - 0,001 - 0,100

Вода - Остальное

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к процессам химико-фотографической обработки материалов, в частности к составам для обработки листовых и пленочных фотоматериалов, и может быть использовано в области фотокинотехники.

Известны составы для обработки фотоматериалов на основе поверхностно-активных веществ (ПАВ). Эти составы, содержащие ПАВ ионогенной и неиногенной природы, применяют для лучшей смачиваемости поверхности фотослоя; ПАВ концентрируются на поверхности раздела химических фаз и вызывает снижение поверхностного (межфазного) натяжения. В качестве таких ПАВ чаще всего применяют бытовые моющие средства, практически не обладающие антистатическими свойствами, или бытовые антистатики [1-3].

Наиболее близкими по технической сущности являются антистатики, рекомендованные для обработки фотопленок, типа "Лана", "Чародейка", "Антистатик", "Анэл", алкамоны и т.п. [4].

Эти антистатические составы предназначены для обработки текстильных материалов с целью снижения их электризуемости. Они в основном представляют собой 30-50%-ные водные растворы неионогенных ПАВ - стеарокса-920 и стеарокса-20 (оксиэтилированные производные стеариновой кислоты, отличающиеся по содержанию оксиэтильных групп).

Алкамоны, являясь ионогенными ПАВ, также содержат в своем составе оксиэтилированные группы.

Указанные составы обладают слабым антистатическим действием, для достижения хорошего антистатического эффекта их приходится использовать в высоких концентрациях (1-5 мас.%), что очень часто приводит к образованию дефектов на поверхности фотоматериалов. Используемые в этих составах специальные добавки для тканей - отдушки, оптические отбеливатели, красители и т.п. - также отрицательно влияют на качество обработанных фотопленок.

Цель изобретения - повышение качества обработки фотоматериалов.

Поставленная цель достигается тем, что в предлагаемом составе для обработки фотоматериалов в качестве антистатика используется четвертичная аммониевая соль (ЧАС) общей формулы I

R₁--RA^- где R₁,R₂,R₃ = алкил С₁-С₃; R₄ = алкил С₁₆-C₁₈;

А^- = Cl, Br, I, CH₃COO, HCOO или их смесь), в количестве 0,001-0,1 мас. %, остальное - вода.

Сопоставительный анализ заявляемого технического решения с прототипом показывает, что заявляемый состав отличается от известного тем, что в нем используются ионогенные ПАВ, являющиеся одновременно чрезвычайно эффективными антистатиками, обеспечивающими снижение удельного поверхностного электрического сопротивления обработанной ими поверхности до 10⁶-10⁷ Ом (по ГОСТ 6433.24-71 при относительной влажности 605% и температуре 202^оС). Такие антистатики позволяют при их использовании в очень низких концентрациях устранить вредное воздействие статического электричества с поверхности обрабатываемых фотоматериалов и обеспечить повышение качества изображения.

Таким образом, заявляемый объект соответствует критерию "новизна".

Известны технические решения [1-4], в которых используются ПАВ или бытовые антистатики, которые, как правило, выполняют одну функцию -смачивателей или антистатиков. Предлагаемый состав обладает сочетанным действием - ПАВ как смачиватель и одновременно как эффективный антистатик. Он пригоден для обработки листовых и пленочных фотоматериалов, включая негативные, позитивные и обращаемые; черно-белые, цветные и специальные, любительские и профессиональные, отечественные и импортные и т.п. Состав не изменяет механических свойств фотоматериалов, не влияет на их цветотехнические свойства.

Обработка фотоматериалов предлагаемым составом перед началом сушки позволяет исключить их электризуемость и, следовательно, повреждение их поверхности электростатическими разрядами, обеспечивает равномерность сушки и устранение дефектов, которые могут образоваться от оставшихся на эмульсионном слое капель воды, а также предотвращает притягивание пыли.

Сказанное позволяет сделать вывод о том, что предлагаемое техническое решение соответствует критерию "существенные отличия".

Для экспериментальной проверки заявляемого состава для обработки фотоматериалов предварительно готовят концентрат - раствор, содержащий 7-10 мас. % антистатика в алифатическом спирте типа этилового, изопропилового, бутилового и т.п.

Полученный раствор разбавляют дистиллированной, деионизованной или кипяченой водой до рабочей концентрации, фильтруют и используют для обработки фотоматериалов в течение 0,3-1 мин при 14-23^оС. После извлечения из раствора фотоматериала, например фотопленки, со стороны, на которую не нанесен эмульсионный слой, удаляют капли состава стряхиванием, с помощью кисти или хлопчатобумажной салфетки. Удаление капель со стороны эмульсионного слоя не требуется. В дальнейшем фотоматериал сушат и оценивают качество обработки по его внешнему виду (наличие дефектов), по разности потенциалов на обработанной поверхности, измеренной с помощью прибора ПК-2-3А, а также по количеству притягиваемой пыли.

Использование состава, содержащего антистатик, позволяет устранить дефекты, остающиеся от капель воды, предотвратить накопление пыли и снизить электризумость до 0-20 В.

П р и м е р 1. В 1000 мл дистиллированной воды вводят 0,1 г предварительно приготовленного раствора в изопропиловом спирте, содержащего 10 мас. % триметилоктадециламмоний формиата. Полученным рабочим раствором, содержащим 0,001 мас.% антистатика, обрабатывают цветную пленку NC-19, проявленную и обработанную комплектом химреактивов по процессу ORWOCOLOR С 5168 в течение 20 с при 20^оС. После окончания обработки пленки хлопчатобумажной салфеткой удаляют оставшиеся капли со стороны, не содержащей эмульсии, сушат пленку по стандартному процессу и оценивают ее качество (наличие дефектов, способность к сбору пыли и электризуемость, а также разность потенциалов на поверхности).

Наименование антистатика, значения R₁-R₄ и A^-, данные по концентрации антистатика в составе, тип фотоматериала и его качество после сушки приведены в таблице.

П р и м е р ы 2-9. Приготовление растворов, обработку фотоматериалов и оценку качества обработанного фотоматериала осуществляют, как описано в примере 1. Соответствующие результаты приведены в таблице.

Как видно из данных, приведенных в таблице (примеры 1-7), во всех случаях наблюдается улучшение качества обработанных фотоматериалов. При использовании концентрации антистатика в составе ниже 0,001 мас.% (пример 8) не обеспечивается достаточно эффективная диэлектризация поверхности фотоматериалов, что приводит к появлению дефектов на их поверхности, а также к накапливанию пыли. При использовании состава, содержащего свыше 0,1 мас.% антистатика (пример 9), на поверхности фотоматериала появляются жирные пятна и разводы, при этом ухудшается качество фотоматериала, положительный эффект не достигается.

Технико-экономические преимущества предлагаемого состава заключаются в следующем:

в отличие от прототипа состав обеспечивает существенное снижение отрицательного воздействия статического электричества;

позволяет повысить качество обработки фотоматериалов без применения специального оборудования, оснастки и режимов; легко реализуется в существующих процессах химобработки фотоматериалов;

при использовании состава для обработки профессиональных кино- и фотоматериалов повышается производительность труда и гигиена производства.