устройство для формирования пучка монохроматического излучения
Классы МПК: | G02B27/44 системы с дифракционными решетками; системы с зонными пластинами G02B27/48 лазерная оптика |
Автор(ы): | Голуб М.А., Сисакян И.Н., Сойфер В.А. |
Патентообладатель(и): | Самарский филиал Центрального конструкторского бюро уникального приборостроения РАН |
Приоритеты: |
подача заявки:
1990-05-15 публикация патента:
30.04.1995 |
Использование: в оптическом приборостроении, лазерной технологии, применяемой в машиностроении и электронной промышленности, в неразрушающем контроле оптических поверхностей, а также в медицине при контроле роговицы и лазерной хирургии глаза. Сущность изобретения: устройство содержит фокусатор и компенсатор, выполненные в виде пропускающих фазовых пластинок с непрерывным микрорельефом, нанесенным по зонам. Высота микрорельефов компенсатора и фокусатора определяется по формулам. 1 ил.
Рисунок 1
Формула изобретения
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ ПУЧКА МОНОХРОМАТИЧЕСКОГО ИЗЛУЧЕНИЯ, содержащее фокусатор и компенсатор, выполненные в виде пропускающих фазовых пластинок с непрерывным микрорельефом, нанесенным по зонам, отличающееся тем, что, с целью обеспечения формирования в заданной области асферического волнового фронта с заданным распределением интенсивности, высота микрорельефа компенсатора определяется выражениема высота микрорельефа фокусатора в соответствии с выражением
местные координаты на поверхности подложки компенсатора;
длина волны монохроматического излучения;
n показатель преломления материала микрорельефа;
nо показатель преломления окружающей среды;
к угол между оптической осью устройства и нормалью к поверхности подложки компенсатора в точке пересечения этой поверхности с оптической осью;
l заданное расстояние по оптической оси от компенсатора до области формирования волнового фронта;
уравнение поверхности подложки компенсатора;
вектор, определяемый по из уравнения
-уклонение поверхности заданного волнового фронта от плоскости, проходящей через его вершину;
координаты точки на компенсаторе, связанные с координатами точки на фокусаторе соответствием, определяемым из уравнения
заданное распределение интенсивности преобразуемого пучка;
заданное распределение интенсивности на формируемом волновом фронте;
заданные главные радиусы кривизны формируемого волнового фронта;
якобиан-преобразования;
fо расстояние по оптической оси от фокусатора до компенсатора;
ф угол между оптической осью устройства и нормалью к поверхности подложки фокусатора в точке пересечения этой поверхности с оптической осью;
заданный эйконал преобразуемого пучка.
Описание изобретения к патенту
Изобретение относится к оптике и может быть использовано в оптическом приборостроении, лазерной технологии, применяемой в машиностроении и электронной промышленности, в неразрушающем контроле оптических поверхностей, а также в медицине при контроле роговицы и лазерной хирургии глаза. Известна оптическая система для расширения, коллимации и выравнивания интенсивности лазерного гауссова пучка, содержащая две последовательно установленные по ходу луча фазовые корректирующие пластинки, фазовая функция которых задается математическим выражением [1] в которой гауссов освещающий пучок преобразуется в плоский волновой фронт с равномерным распределением интенсивности. К недостаткам данного устройства относится невозможность достижения требуемого пространственного распределения интенсивности на поверхности заданного волнового фронта. Наиболее близким по технической сущности к предлагаемому изобретению является оптический фазовый элемент, содержащий пропускающую или отражающую пластинку с непрерывным микрорельефом, нанесенным по зонам так, что высота микрорельефа и форма зон изменяется в соответствии с фазой и интенсивностью освещающего монохроматического излучения и заданным распределением интенсивности в области фокусировки [2]Недостатком указанного устройства является невозможность воздействовать на форму волнового фронта формируемого излучения, обусловленная наличием лишь одного фазового элемента, в микрорельефе которого учтена лишь информация о заданном распределении интенсивности. Целью изобретения является обеспечение возможности формирования в заданной области асферического волнового фронта с заданным распределением интенсивности. На чертеже изображена оптическая схема устройства. Устройство представляет собой оптический каскад из двух фазовых элементов: фокусатора 1, который освещается световым пучком 2, и компенсатора 3, расположенного на расстоянии от фокусатора. Фокусатор 1 выполнен в виде пропускающей или отражающей пластинки с непрерывным микрорельефом, высота которого описывается выражением
hф() mod2mф() (1) где
ф() ф() k d K1() (2) где o константа, может быть выбрана равной нулю;
(Up, vp)(Up, Vp) местные координаты на поверхности подложки компенсатора;
уравнение поверхности под- ложки компенсатора;
() вектор, определяемый по из уравнения:
+ [l+f()-()]xf() () где где x= ; (x,y)
nо показатель преломления среды за компенсатором, в котором формируется волновой фронт
(n, k) nocosk, где n показатель преломления материала микрорельефа;
к средний угол падения излучения на подложку компенсатора;
l расстояние от центра компенсатора до вершины волнового фронта;
f() уклонение поверхности заданного волнового фронта от плоскости П, проходящей через его вершину;
K
длина волны монохроматического излучения;
m 1,2. целое число;
mod2m (t) функция, равная наименьшему остатку от деления t на 2 m;
= () точка на компенсаторе, связанная с точкой на фокусаторе соотношением, определяемым из уравнения:
I1() Io() (3) где якобиан преобразования = Up();
I1() интенсивность освещающего пучка;
1() эйконал освещающего пучка;
Io() I() 1 1 перечисленная в плоскость компенсатора интенсивность на волновом фронте;
I() требуемая интенсивность на волновом фронте;
L(, ) (l+f()-) ;
R1(), R2() главные радиусы кривизны волнового фронта;
o(, ) эйконал светового пучка, сформированного фокусатором;
ф средний угол падения излучения на подложку фокусатора;
U10 начальная точка в плоскости фокусатора, может быть выбрана в начале координат. Компенсатор 3 выполнен в виде пропускающей и отражающей пластинки с микрорельефом, высота которого изменяется в соответствии с выражением
hk() mod2mk(), (4) где k() o-k{no[l+f( ())-()]
+ o[(), ()] (5)
Область 4 формирования заданного волнового фронта расположена за компенсатором 3 на расстоянии l от центра компенсатора. Микрорельеф на подложке изготавливают методом компьютерной оптики. Для изготовления микрорельефа делается фотошаблон в соответствии с расчетными формулами. Затем методом фотолитографии получают зонированную пластинку с требуемым микрорельефом. Данное устройство работает cледую- щим образом. При оcвещении фокусатора 1 размером 25,6 х 25,6 мм световым пучком 2 0,63 мкм с интенсивностью () и эйконалом 1() происходит дифракция света на микрорельефе, высота которого определяется формулой (1). При этом по определению фазовой функции сразу за фокусатором формируется световой пучок с интенсивностью I1I1() и фазой ko(-f) k1()+ф(). В силу уравнений (1) и (3) на поверхности фокусатора 3 размером 25,6 х 25,6 мм создается световое поле с интенсивностью IоIo() и некоторой фазой ko[(), ()] В силу уравнения (5) сразу за компенсатором световое поле будет иметь фазу o-k [(), ()] где функция определена уравнением
(, Z) -no[l-Z+f()]
Далее при распространении поверхности диаметром 100 мм световой пучок получит набег фазы K no и будет o-K + 2 no =o, т.е. фаза на принимает постоянное значение o. Следовательно, действительно сформирована в виде заданного волнового фронта. Пространственное распределение интенсивноcти по волновому фронту рассчитывается по интенсивности IоIo().
Класс G02B27/44 системы с дифракционными решетками; системы с зонными пластинами
Класс G02B27/48 лазерная оптика