устройство для воздействия на биологический объект

Формула изобретения

1 1. Устройство для воздействия на биологический объект, содержащее источник управляемого магнитного поля и источник управляемого низкоинтенсивного электромагнитного поля, включающего N >> 1 единичных облучателей, при этом источники конструктивно объединены в единый блок направленного воздействия, отличающееся тем, что в него введен программный блок управления для управления источниками магнитного и электромагнитного полей с возможностью пространственной и временной модуляций последнего, каждый N единичный облучатель включает по крайней мере три источника излучения, один из которых является пассивным в виде селективной отражающей поверхности, а два других - активными с различными характеристиками спектральной плотности излучения и выполненными с возможностью управления, единичные облучатели объединены конструктивно в групповой облучатель для создания сконцентрированного в зоне воздействия электромагнитного поля, а источник управляемого магнитного поля выполнен в виде электромагнитного контура, охватывающего групповой облучатель.2 2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что блок направленного воздействия выполнен с возможностью перемещения.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к медицинской технике, а именно к устройствам, предназначенным для облучения низкоинтенсивным электромагнитным полем (ЭМП), и может быть использовано в физиотерапевтической врачебной практике, а также в биологических, физиологических, селекционных и т.п. исследованиях, направленных на определение влияния ЭМП на биологические объекты.

Техническим результатом является повышение эффективности воздействующего фактора электромагнитного поля.

Поставленная задача решается следующей сущностью предлагаемого изобретения. В заданном объеме пространства концентрируется ЭМП, которое в этом объеме имеет следующие управляемые характеристики:

1) спектральный состав ЭМП и его плотность,

2) направление поляризации (статическое, динамическое),

3) пространственная модуляция ЭМП (статическое, динамическое распределение мощности ЭМП в заданном объеме),

4) временная модуляция сконцентрированного ЭМП (изменение мощности сконцентрированного ЭМП с течением времени),

5) селективные отражающие свойства поверхности объема концентрирующего ЭМП.

Заданный объем, в котором концентрируется ЭМП, формируется групповым облучателем, состоящим из N единичных облучателей, в состав которых входит по крайней мере три источника излучения ЭМП, один из которых является пассивным в виде селективной отражающей поверхности. Групповой облучатель концентрирующий ЭМП охвачен электромагнитным контуром, создающим в объеме концентрированного ЭМП управляемое магнитное поле заданного направления.

На фиг.1 представлен возможный вариант конструкции предлагаемого устройства, где

1) групповой облучатель,

2) объединенный блок управления,

3) механизм продольного перемещения группового облучателя. На фиг.2 представлена структурная схема группового облучателя и объединенного блока управления. Устройство группового облучателя содержит N единичных облучателей 1 с линейной поляризацией излучения ЭМП. Все единичные излучатели имеют по три автономных канала управления. Все 3N автономных каналов управления единичными облучателями подключены к программному блоку управления 2 (фиг.2), который формирует команды для каждого канала управления, в соответствии с алгоритмом управляющей программы вычислителя 3 (ориг.2). Параметры управляющей программы редактируются оператором с пульта управления 4 (фиг.2). Каждый из N единичных облучателей, представленный схематично на фиг.3, состоит из источника лазерного излучения (ЛИ) 1, источника широкополосного излучения (ШПО) 2 и селективной отражающей поверхности 3. Спектральный состав активного излучения ЭМП единичного источника определяется суммой спектральных линий лазерного излучения, которая определяется количеством лазерных источников излучения каждый из которых работает на своей фиксированной частоте, и суммой спектральных линий излучения источника ШПО. На фиг.4 изображено одно из возможных состояний спектральной плотности ЭМП единичного облучателя, где

1) спектральная плотность активного излучателя ЛИ,

2) спектральная плотность активного излучателя ШПО,

3) спектральная плотность пассивного излучателя, являющегося селективной отражающей поверхностью.

Возможные состояния спектральной плотности ЭМП единичного облучателя задаются командами, поступающими из объединенного блока управления. При этом для лазерного поля единичного облучателя меняется число линий спектральных составляющих излучателя ЛИ и их мощность, а для источника ШПО по командам объединенного блока управления изменяется режим работы генератора возбуждающего излучатель ШПО, при этом изменяемыми параметрами спектральной плотности ШПО излучения являются закон изменения амплитуды спектральных составляющих от частоты и значение величины шага квантования спектральных составляющих w ШПО излучения. Для пассивного источника ЭМП одна из возможных характеристик спектральной плотности приведена на фиг.4 поз.3, все остальные возможные состояния определяются соответствующей конструкцией селективной отражающей поверхности. Для реализации управляемой характеристики концентрированного ЭМП по поляризации излучения единичные облучатели устанавливаются в групповой облучатель таким образом, чтобы плоскости линейной поляризации излучения двух соседних единичных облучателей отличались на угол равный 360/N, где N число единичных облучателей. Реализация остальных управляемых характеристик ЭМП, сконцентрированного групповым облучателем, является суперпозицией излучений единичных облучателей характеристики которых задаются объединенным блоком управления, конкретные параметры для которого определяет вычислитель, решая алгоритмическую задачу управляющей программы, определенные константы которой задаются оператором с пульта управления устройством для воздействия электромагнитным полем.