способ измерения электрофизических параметров полупроводниковых материалов

Классы МПК:G01R31/26 испытание отдельных полупроводниковых приборов
Автор(ы):,
Патентообладатель(и):Ильичев Эдуард Анатольевич,
Лукьянченко Елена Степановна
Приоритеты:
подача заявки:
1993-09-17
публикация патента:

Использование: изобретение относится к измерительной технике. Сущность изобретения: предложен способ определения электрофизических параметров полупроводниковых и полуизолирующих материалов, основанный на локальных неразрушающих измерениях релаксационных процессов электронно-дырочной и ловушечной систем в образце в условиях периодического возбуждения их светом и квазиравновесного нагревания образца. Способ позволяет измерять время релаксации ловушек, их энергии и концентрации, а также распределения в плоскости пластины и по глубине. В легированных образцах определяется концентрация равновесных носителей и их распределение по глубине и в плоскости пластины. 1 з.п. ф-лы, 8 ил.
Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3, Рисунок 4, Рисунок 5, Рисунок 6, Рисунок 7, Рисунок 8

Формула изобретения

1. Способ определения электрофизических параметров полупроводниковых материалов, по которому предварительно охлаждают образец до температуры

способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

где E* и N*t- ориентировочные минимальные значения энергии ловушек и концентраций ловушек соответственно, выбранные из области возможных значений для заданного объекта измерений;

k постоянная Больцмана;

Ncv плотность состояний на уровне дна зоны проводимости - Nc и потолка валентной зоны Nv,

с последующим его квазиравновесным нагреванием в условиях периодического возмущения равновесия электронно-дырочной и ловушечной систем в образце, отличающийся тем, что измеряемый образец размещают между обкладками плоского конденсатора и контролируемый участок образца облучают электромагнитным излучением с энергией фотонов способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853v > Eg,

где Еg ширина запрещенной зоны исследуемого образца, изменяющимся во времени по периодическому закону с периодом способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 и регистрируют зависимость от времени и от температуры величин U1(t) и способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853, пропорциональных току через конденсатор и среднему току, протекающему через конденсатор за время способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 при этом регистрирующие приборы к контролируемым цепям подключают через усилитель, а средний ток определяют по формуле

способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

где I0 максимальный фототок через образец;

способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853p- время жизни носителей на ловушках;

t текущее время;

tи длительность светового импульса, определяют температуру способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853, соответствующую максимальной величине способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 затем устанавливают другой период модуляции излучения способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 регистрируют соответствующую зависимость способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 и определяют температуру способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853, отвечающую максимальной величине способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 затем для изолирующих и полуизолирующих образцов с концентрацией глубоких центров Nt, превышающей концентрацию равновесных носителей n0 увеличивают интенсивность облучения до величины U*, соответствующей максимальной величине сигнала U(t), а для образцов с концентрацией ловушек Nt, меньшей концентрации равновесных носителей n0, монотонно увеличивают мощность облучения до величины Р*, при которой постоянная времени релаксации способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853o становится зависимой от интенсивности облучения, затем рассчитывают по формулам время жизни носителей на ловушках при температурах способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 энергию ловушек

способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

сечение захвата ловушек способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

концентрацию ловушек способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

Концентрацию равновесных носителей способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

где способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

vt тепловая скорость носителей;

U*вх- напряжение на входе усилителя, соответствующее максимальной величине сигнала U(t),

Свх выходная емкость усилителя;

способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 - коэффициент поглощения излучения в образце;

g элементарный заряд;

Р* мощность излучения, приходящая на облучаемый участок образца;

f* степень заполнения ловушек;

t0 постоянная времени релаксации фотопотенциала;

способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 - квантовая эффективность;

Ec и En - диэлектрическая проницаемость окружающей среды и измеряемой среды соответственно, при этом тип ловушечных центров и тип полупроводника определяют по знаку регистрируемого фотопотенциала U(t) или по знаку функции способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что на обкладки плоского конденсатора подают электрическое напряжение U0 и рассчитывают глубину диагностируемой области в зависимости от величины напряжения и его полярности.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к измерительной технике.

Известен способ неразрушающих измерений параметров ловушек в полупроводниках, заключающийся в измерении интенсивности оптических спектров поглощения [1] Способ основан на поглощении квантов света при стимулировании переходов примесь зона, либо зона зона. К недостаткам способа относятся низкая чувствительность и, как следствие, неудовлетворительная разрешающая способность (локальность 1 мм). В случае ловушек, находящихся в нейтральном состоянии, пороговая концентрация обнаруживаемой примеси превышает 1016 1017 см-3, что связано с малым сечением фотоионизации примеси. В случае переходов примесь-зона порог чувствительности [2] не превышает 1017 см-3. В случае глубокой примеси обнаружительная способность 1016 см-3.

Известен способ определения параметров ловушек в полупроводниковых материалах, основанный на нестационарной спектроскопии глубоких уровней (ГУ), в процессе которой возбуждение ГУ осуществляется подачей на тестовую ячейку импульсов электрического напряжения [3] Образец для исследований изготавливают в виде емкостной ячейки, содержащей полевой электрод и омический контакт. Измерения осуществляют в следующей последовательности. Охлаждают образец до температуры способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 в процессе его квазиравновесного нагревания на полевой электрод подают периодическую систему импульсов обеднения и обогащения, регистрируя в период обеднения изменения емкости во времени; при этом время, в течение которого регистрируются изменения емкости, а также момент начала регистрации выбирают соответствующими максимумам изменения емкости а текущая температура образца является параметром, изменяющим соотношение между длительностью "временного окна" и характерными временами генерационно-рекомбинационных процессов, протекающих с участием измеряемых ловушек, обуславливающих динамику процесса изменения емкости.

Недостатком способа является то обстоятельство, что он относится к разрушающим методам, так как для проведения измерений требуется изготовить на образце барьерный и омический контакты. Кроме того, при диагностике приборных структур на полуизолирующих подложках из-за необходимости изготовить планарный омический контакт локальность способа неудовлетворительна (- 1 мм). И наконец, диагностировать полуизолирующие материалы указанным методом практически невозможно.

Из неразрушающих методов определения концентрации равновесных носителей в полупроводниковых материалах известен способ, основанный на поглощении длинноволнового излучения свободными носителями [4] Способ позволяет однако производить количественные измерения только при использовании эталонных образцов и используется поэтому лишь при контроле распределения легирования в плоскости пластины.

Целью предлагаемого изобретения является реализация способа неразрушающих измерений электрофизических параметров полупроводниковых и полуизолирующих материалов, позволяющего определять параметры глубоких уровней, их распределения в плоскости и по глубине пластины, а также абсолютных измерений концентрации свободных носителей в полупроводниках и их распределения в плоскости пластины.

Поставленная цель достигается тем, что при измерениях параметров ловушек квазиравновесно нагреваемый образец размещают между обкладками плоского конденсатора, а контролируемый участок образца облучают светом (способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853>Eд) изменяющимся во времени по периодическому закону с периодом способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 и регистрируют зависимость от времени и от температуры величин U1(t) и способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 пропорциональных току через конденсатор и среднему току, протекающему через конденсатор за время способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 при этом регистрирующие приборы к контролируемым цепям подключаются через усилитель, а средний ток способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 определяется по формуле

способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

где

I0 максимальный фототок через образец, способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853p время жизни носителей на ловушках, t текущее время, tи длительность светового импульса, затем определяют температуру способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 соответствующую максимальной величине способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 после чего устанавливают другой период модуляции излучения способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 регистрируют соответствующую зависимость способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 и определяют температуру способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 отвечающую максимальной величине способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 затем для изолирующих и полуизолирующих образцов с концентрацией глубоких центров Nt, превышающей концентрацию равновесных носителей U0, увеличивают интенсивность облучения до величины, соответствующей максимальной величине U* сигнала U(t), а для образцов с концентрацией ловушек Nt, меньшей концентрации равновесных носителей n0 (для полупроводников), монотонно увеличивают мощность облучения до величины P*, при которой постоянная времени релаксации способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853o становится зависимой от интенсивности облучения, затем рассчитывают по формулам способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 время жизни носителей на ловушках при температурах способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 энергию ловушек

способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

сечение захвата ловушек способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

концентрацию ловушек способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

концентрацию равновесных носителей

способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

при этом способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 а используемые обозначения имеют следующий смысл: Vт тепловая скорость носителей, U*вх напряжение на входе усилителя, соответствующее максимальной величине сигнала U(t), Cвх входная емкость усилителя, способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 коэффициент поглощения излучения в образце, g - элементарный заряд, Px мощность излучения, приходящая на облучаемый участок образца способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853x2, f* степень заполнения ловушек, способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853o постоянная времени релаксации фотопотенциала, способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 квантовая эффективность, способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853c и способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853п - диэлектрическая проницаемость окружающей среды и измеряемой среды соответственно, при этом тип ловушечных центров (ГУ) и тип полупроводника определяют по знаку регистрируемого фотопотенциала U(t) или по знаку функции способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

В случаях, когда концентрация носителей в образцах превышает концентрацию ловушек, а длительность возбуждающего импульса света превышает время релаксации измерительной системы и системы ловушек, при изменении интенсивности излучения регистрируют ту ее величину, которая отвечает моменту начала изменения постоянной времени релаксации фотопотенциала от интенсивности облучения и затем по приведенной выше формуле рассчитывают концентрацию свободных (равновесных) носителей.

В случаях приложения к обкладкам плоского концентратора электрического поля (напряжение U0) при проведении описанных выше процедур определяет глубину диагностируемой области в зависимости от величины и полярности напряжения U0 по формуле (5)

способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

где

lE эффективная длина экранирования (глубина зондирования),

E0 величина напряженности поля в конденсаторе, способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853, lэ - длина дебаевского экранирования; в случае наличия глубоких доноров и компенсирующих акцепторов эффективная длина экранирования равна

способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

Неразрушающий характер измерений обусловлен бесконтактным способом измерения тока через образец, связанного с фотопотенциалом, изменяющимся периодически во времени, а отсутствие контактов повышает локальность измерений.

Схема измерения (рис.1) включает:

образец 1, измерительный конденсатор 2, источник света 3 (способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853> Eg), блок питания 4, широкополосный усилитель 5, синхродетектор 6, термостат 7, датчик температуры 8, графопостроителе 9 и 12, стробоскопический усилитель-преобразователь 10, сканирующее устройство для образца 11, источник внешнего поля 13.

Измерения проводятся по следующей схеме (процедуре).

Образец 1 помещают между обкладками измерительного конденсатора 2, одна из обкладок которого прозрачна для излучения, и через нее облучают измеряемый участок образца электромагнитным излучением от источника 3 с изменяющейся интенсивностью с периодом способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 частота следования импульсов света). Напряжение, возникающее на входе усилителя, пропорциональное току, протекающему через образец, усиливается широкополосным усилителем 5 и соответствующий сигнал преобразуется стробоскопическим усилителем-преобразователем 10 и подается на вход "y" графопостроителя 9; на вход "x" графопостроителя 9 подается сигнал временной развертки стробоскопического преобразователя 10. Параллельно сигнал с выхода широкополосного усилителя 5 подается на вход синхродетектора 6, а с его выхода сигнал способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 ставший пропорциональным среднему току, протекающему через образец за период способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 подается на вход "y" второго графопостроителя 12, на вход "x" которого подается сигнал, пропорциональный температуре образца, формируемый датчиком 8.

Заметим, для измерений временных и температурных зависимостей можно использовать один и тот же графопостроитель, так как процедура измерений допускает как параллельное, так и последовательное проведение временного и температурного цикла измерений; при этом, в случае выбора последовательного варианта измерений, на вход "x" графопостроителя коммутируются соответственно выход временной развертки стробоскопического усилителя 10, либо сигнал с датчика температуры 8.

В процессе измерений энергетических параметров ловушек производятся квазиравновесный нагрев образца и регистрация сигнала с выхода синхродетектора 6 способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 для двух различных периодов возбуждения способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 а затем, используя значения способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 а также равенства способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 по формулам для Et и способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853t рассчитываем энергию ГУ и сечение захвата.

Для измерения концентрации производим монотонное изменение интенсивности импульсов облучения. При этом, в случае полуизоляторов (Nt > n0) увеличиваем интенсивность облучения до величины, соответствующей максимальной величине фотосигнала (до "насыщения"), и рассчитываем концентрацию ловушек по формуле для Nt. При измерении концентрации свободных носителей (равновесных) для случая Nt < n0 измеряем время релаксации в условиях слабых возбуждений (линейный режим рекомбинации), затем, увеличивая монотонно интенсивность облучения, регистрируем ту величину мощности облучения P*, при которой постоянная времени релаксации соответственного импульса фотопотенциала начинает зависеть от интенсивности облучения, и определяем концентрацию равновесных носителей по формуле для n0.

В основе метода лежит физический эффект, связанный с генерационно-рекомбинационными процессами в полупроводнике, с участием глубоких уровней, в условиях возбуждения неравновесных носителей в образце световыми импульсами. Падающий на образец свет проникает на глубину способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853-1 ( a коэффициент поглощения света образцом); при этом в области способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853-1 будет преобладать тот тип носителей, у которого больше время рекомбинации, что следует из справедливости стационарного уравнения способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

В процессе диффузии и самоиндуцированного дрейфа носителей, а также дрейфа их в приповерхностном "контактном" электрическом поле (на границе раздела полупроводник/воздух), доминирующие неравновесные носители распространяются вглубь образца, существенно меняя картину равновесной заселенности глубоких уровней на длине дебаевского экранирования, либо на эффективной длине дебаевского экранирования (при наличии внешнего поля) и создавая объемный заряд. В результате за время освещения импульсом АДБ (рис. 2а) образуется дрейфово-диффузионный потенциал способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853mDE (рис. 2б), приводящий при модулированном во времени освещении (облучении) к изменению во времени поверхностного потенциала способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853DE (рис. 2в). Последний изменяется от максимальной величины способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853m соответствующей моменту окончания импульса облучения, до величины способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853o соответствующей моменту окончания времени задержки между световыми импульсами. Эта вариация потенциала способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853= способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853m-способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853o создает во внешней цепи ток способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853j=способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853/Z, где Z Zi + Zn есть сумма сопротивлений измерительной емкости Zi и импеданса образца Zn. При наличии ловушек динамика изменений поверхностного потенциала определяется их энергией и сечением захвата, а при больших интенсивностях облучения и концентрацией неравновесных носителей. При этом можно показать, что функция способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 аппаратно реализующаяся в представленной схеме измерения (имеется в виду режим синхродетектирования), будет иметь максимум при равенстве времени релаксации фотопотенциала и длительности периода следования импульсов световых f-т1 Действительно, так как Iз=Ioспособ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853[1-exp(-t/способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853з)] функция тока "зарядки", а Iр=Ioспособ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853exp(-t/способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 )]p функция тока "разрядки" (тока релаксации фотопотенциала в темноте), то величина протекающего за временной интервал заряда ("среднего" тока) будет иметь вид: способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853.

При tи< f-т1, либо при способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853nспособ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 no, M, K, получим, что максимум этой величины реализуется при условии способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 = f-т1 (получаем из способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853). Значит в полученной зависимости способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 максимум функции соответствует температуре Tm, при которой f-т1= способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853(Tm) (рис. 3а). Таким образом, используя полученные на зависимостях способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 значения способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853, а также зная, что способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853, определяем энергию ГУ Et и их сечение захвата способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853t. Действительно, так как способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 и способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853o= (Utспособ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853tспособ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853Ncv)-1, то при двух периодах повторения способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 получаем: способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853, а так как способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 и способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853.

При измерениях концентрации ГУ предпочтительно реализовать следующие соотношения между импедансами измерительной емкости Zc, входным сопротивлением усилителя 5 Zвх и сопротивлением растекания и объемным сопротивлением измеряемого образца Zn: Zc>>Zn>>Zвх. Несложно показать, что упомянутые соотношения между указанными импедансами реализуются в области частот повторения импульсов возбуждения (102 106 Гц) и при характерных размерах зазора между образцом и полупрозрачной обкладкой емкости 0,1 1,0 мм и ее линейным размером 1 мм. В этом случае между величиной фотоЭДС и напряжением на входе усилителя справедливо следующее соотношение: способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

Эквивалентная схема измерения показана на фиг. 4.

Тогда, так как f-т1способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853из.сист и Cиз.им<, то для тока через образец можно написать следующее соотношение:

способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

Учитывая что способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853, имеем

способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

Отсюда окончательно имеем способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

Значит, для произведения концентрации ловушек на степень их заполнения можно написать следующее соотношение:

способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

При определении концентрации свободных равновесных носителей n0 (случай Nt<n) предлагаемый подход основан на следующем соотношении для стационарной концентрации неравновесных носителей: способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853nст.= способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853Iспособ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853-1.

При малых уровнях возбуждения (способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853n<n) реализуется линейный режим рекомбинации и способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 является постоянной величиной. В случае больших интенсивностей возбуждения (способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853n>no)способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 становится функцией концентрации неравновесных носителей и уменьшается при дальнейшем увеличении интенсивности облучения, рис.3б. Таким образом существует критическая величина, при превышении которой способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 перестает быть постоянной величиной. Такая величина P* соответствует ситуации, при которой концентрация неравновесных носителей становится равной концентрации равновесных носителей, Dnст.= no.

Отсюда для равновесной концентрации следует соотношение:

способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

где P* мощность светового облучения равная критической (пороговой) величине, способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 квантовая эффективность, t время жизни ловушек в возбужденном состоянии, способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 постоянная Планка, способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 частота электромагнитного излучения (способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 энергия кванта света), a коэффициент поглощения света образцом, Dx линейный размер пятна светового зонда.

Заметим, поверхностный потенциал способствует разделению дырок и электронов: дырки в поле поверхностного потенциала устремляются к поверхности и рекомбинируют с большой скоростью на ее множественных дефектах, усиливая корректность монополярного представления задачи. Учет контактного потенциала не влияет на энергетику ловушек и практически не влияет на темп захвата на ГУ, а будет определять только толщину диагностируемого слоя. А так как предложенный выше способ определения концентрации ГУ является оценкой "снизу", а истинная толщина зондируемого слоя не способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853-1, а равен длине экранирования, то способ точности оценки повышается и не хуже 2 раз.

Примеры измерений.

(а). Устанавливаем образец (Nt>n0, полуизолирующая подложка арсенида галлия) в измерительный конденсатор 2 и облучаем его импульсами света с способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853, с периодом 100 мкс (период повторения импульсов) и длительностью 10 мкс. Монотонно увеличивает температуру образца и регистрируем U(t) и способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 (кривые 1, 2 рис. 5а,б).

Повторяем эту процедуру при периоде следования импульсов света 300 мкс и получаем кривые 3 и 4 рис.5аб. Используя полученные выше соотношения для Et и способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853t, определяем энергию и сечение захвата ловушек.

В результате измерений получено:

способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

Используя вышеприведенные соотношения, получаем:

способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 (отсчет ведется от Ec).

Увеличивая интенсивность облучения, регистрируем максимальную величину фотопотенциала, U*ФП:U*ФП= 1500 мкВ. Учитывая геометрию эксперимента (диаметр прозрачной обкладки измерительного конденсатора 1 мм, зазор между образцом и обкладкой емкости 0,1 мм, диаметр светового пятна 500 мкм), рассчитываем

NtoCNt 5способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 20798531015 см-3.

(б). Устанавливаем образец (n0>Nt) полупроводниковой структуры в измерительную емкость, монотонно увеличиваем амплитуду импульсов облучения, измеряя при этом время релаксации способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853 импульсов фотопотенциала, и регистрируем ту величину мощности облучения P*, при которой величина времени релаксации становится зависящей от интенсивности облучения. Измерено: пороговая световая мощность 1,1способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 207985310-4 Вт, время релаксации to на участке с линейной рекомбинацией 2 мс (рис. 6, 1, 2). Используя полученную выше формулу для определения n0, получаем для равновесной концентрации значения 4способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 20798531015 см-3. Контрольные измерения образа с использованием метода ВФХ дали для концентрации свободных носителей значение 4,4способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 20798531015 см-3.

На рис. 7 представлены результаты измерений заявляемым методом полуизолирующей подложки арсенида галлия, содержащей один акцепторный центр: Et 0,82 эВ, способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853t=10-13 см2, Nt 4способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 20798531014 см-3, способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853o= 0,6 мс.

На рис.8 представлены результаты измерений полуизолирующей подложки арсенида галлия, содержащей донорный и акцепторный глубокие центры: способ измерения электрофизических параметров   полупроводниковых материалов, патент № 2079853

Источники информации, использованные при составлении заявки

1. W. Kohn. Sol. State Phys. v.5, p.257 (1957).

2. Ж. Панков. Оптические процессы в полупроводниках. Изд. "Мир", 1973, гл.3.

3. D.V. Lang. J. appl. Phys. v. 75, N7, p. 3014(1974).

4. Н. И. Фэн. Поглощение ИК-излучения в полупроводниках. Успехи физических наук, т.6, с.316, 1958.

5. Гинберг Н. Брынских П. Теория поглощения света свободными носителями, охватывающая квантовую и классические области. Физика и техника полупроводников, т.5, в.7, с.1271 (1971).

Класс G01R31/26 испытание отдельных полупроводниковых приборов

способ разделения интегральных схем "по надежности" -  патент 2529675 (27.09.2014)
способ измерения шума узлов мфпу -  патент 2521150 (27.06.2014)
способ определения теплового сопротивления переход-корпус транзисторов с полевым управлением -  патент 2516609 (20.05.2014)
способ разделения полупроводниковых изделий по надежности -  патент 2515372 (10.05.2014)
способ отбраковки полупроводниковых изделий пониженного уровня качества из партий изделий повышенной надежности -  патент 2511633 (10.04.2014)
способ сравнительной оценки надежности партий полупроводниковых изделий -  патент 2511617 (10.04.2014)
устройство для измерения полного сопротивления и шумовых параметров двухполюсника на свч -  патент 2510035 (20.03.2014)
способ измерения теплового импеданса полупроводниковых диодов с использованием полигармонической модуляции греющей мощности -  патент 2507526 (20.02.2014)
способ разделения транзисторов по надежности -  патент 2507525 (20.02.2014)
способ контроля внутреннего квантового выхода полупроводниковых светодиодных гетероструктур на основе gan -  патент 2503024 (27.12.2013)
Наверх