способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых структурах

Классы МПК:H01S4/00 Устройства, использующие стимулированное излучение волновой энергии в любых формах, кроме форм, отнесенных к группам,  1/00,  3/00 или  5/00, например фононовые мазеры, гамма-мазеры
H01L39/00 Приборы с использованием сверхпроводимости; способы или устройства, специально предназначенные для изготовления или обработки таких приборов или их частей
B01J19/08 способы с использованием непосредственного применения электрической или волновой энергии или облучения частицами; устройства для этого
Автор(ы):,
Патентообладатель(и):Мартышевский Константин Николаевич,
Соколов Владимир Петрович
Приоритеты:
подача заявки:
1994-07-20
публикация патента:

Изобретение относится к физике твердого тела и может быть использовано в акустических системах, а также в целях создания высокотемпературной сверхпроводимости. Сущность изобретения заключается в том, что для образования высокоэнергетических фонов решетчатую структуру твердого тела подвергают постоянному внешнему воздействию магнитного поля, электрического поля, искусственной деформации по отдельности или в различных количественных сочетаниях, а затем возбуждают с помощью переменных полей и(или) частиц до появления высокоэнергетических фононов, которые образуют бегущие акустические волны как объемного, так и поверхностного типа или сверхпроводящее состояние (при способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978м>=кТ) в проводниках, при этом образуется зависимость верхнего предела энергии фононов способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978м от величины постоянного внешнего воздействия, которое влияет как на энергию акустических волн, так и на температуру перехода способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978п проводника в сверхпроводящее состояние kспособ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978п=способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978м (где k и способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 -постоянные, соответственно Больцмана и Планка; способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978м - максимальная частота фононов). 1 з. п. ф-лы, 2 ил.
Рисунок 1, Рисунок 2

Формула изобретения

1. Способ получения высокоэнергетических фононов (способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978м) в решетчатых структурах, включающий операцию возбуждения упорядоченного движения фононов с помощью переменных полей, отличающийся тем, что предварительно создают условия для их образования путем наложения на решетчатую структуру постоянного внешнего деформирующего воздействия с помощью магнитного поля, электрического поля, искусственной деформации по отдельности или в различных количественных сочетаниях, в результате чего появляются высокоэнергетические фононы, приводящие к возникновению бегущих акустических волн как объемного, так и поверхностного типа или сверхпроводящего состояния при способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 при этом образуется зависимость верхнего предела энергии фононов способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978м от величины внешнего деформирующего воздействия, которая влияет как на энергию акустических волн, так и на температуре перехода способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978п проводника в сверхпроводящее состояние (где способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 фононовые постоянные соответственно Больцмана и Планка для решетчатых структур, подвергнутых деформации, способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978м - максимальная частота фононов).

2. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве решетчатых структур применяют структуры, обладающие стрикцией.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к физике твердого тела и может быть использовано в акустических системах, а также в целях создания высокотемпературной сверхпроводимости.

Существуют два принципиально разных способа получения высокоэнергетических фононов с энергией E = способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978м, (где способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 - постоянная Планка: способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978м- максимальная частота фононов):

а) способ, связанный с повышением энтропии (разогревом) решетчатой структуры с помощью тепла, быстрых частиц, сильных постоянных и переменных полей;

б) способ, связанный с подбором качественного и количественного состава химических элементов, входящих в данную решетчатую структуру (сплавы, порошки, спекаемые под действием высокой температуры, и т.д.), позволяющий образовать требуемую форму характеристики Fv = F(rV) в трехмерном пространстве (где Fv - сила, противодействующая отклоняющему воздействию на отдельный атом решетчатой структуры; rv - величина смешения атома от нейтрального состояния) и не ведущий к росту энтропии решетчатой структуры.

Способ, связанный с разогревом решетчатой структуры и увеличением ее энтропии, не применим, так как принципиально исключает возможность возникновения упорядоченных структур (движений) в решетчатой структуре под действием возбуждающего воздействия в виде перемешенных полей и (или) частиц (в частности электронов проводимости, существующих в проводниках).

Способ, связанный с подбором качественного и количественного состава химических элементов, наиболее близок по сути предлагаемому изобретению, так как не ведет к росту энтропии решетчатой структуры, но создает условия для появления высокоэнергетических фононов при возбуждении решетчатой структуры переменными полями и(или) частицами.

Однако этот способ обладает рядом существенных недостатков: а) не позволяет достичь высоких энергий фононов в сравнении с предлагаемым способом; б) требует для своей реализации высокие технологии; в) требует строго определенный качественный и количественный подбор химических элементов в сплавах при отсутствии соответствующего математического аппарата, а значит, теоретического предсказания; г) необходим большой объем экспериментальных работ; д) большая трудоемкость и стоимость исследовательских работ с малой вероятностью достижения необходимого результата.

Все эти недостатки объясняются тем, что традиционные (классические) связи между атомами решетчатых структур имеют вполне определенную форму зависимости Fv = Frv), которая может изменяться в сплавах в некоторых органических пределах, и лишь в специальных более или менее оптимальных сплавах (высокотемпературные сверхпроводники) в локализованных областях (чаще очень тонких слоях) удается получить условия, обеспечивающие более высокие значения энергии фононов E = способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978, , при возбуждении решетчатой структуры переменными полями и(или) частицами.

Выше были перечислены аналоги предлагаемого изобретения.

В качестве прототипа наиболее подходит способ получения высокочастотных фононов, представленный в описании к патенту США [1], в котором говорится, что под действием переменных напряжений может возникнуть эмиссия фононов.

Действительно, под действием переменных напряжений может возникнуть эмиссия высокочастотных фононов, но их природа носит тепловой характер, так как деформация решетчатой структуры и образование rсп происходит только при наличии постоянного деформирующего воздействия. Это объясняется тем, что для образования сколько-нибудь заметной деформации необходимо длительное воздействие на структуру способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978в, так как масса решетчатой структуры достаточно велика способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978в=способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978в(m), а энергия, содержащаяся в половине периода переменного воздействия, мала и подавляющая часть ее идет на ток смещения в диэлектриках или ток проводимости в проводниках, что в итоге ведет к разогреву структуры. Вторая причина, препятствующая образованию высокоэнергетических фононов состоит в том, что при переходе переменного воздействия через нулевое значение все высокоэнергетические фононы, образованные за счет деформации, если бы даже они возникали, мгновенно исчезли бы, а энергия их мгновенно преобразовалась бы в энергию тепловых фононов с более низкими частотами.

Возможно другое толкование наблюдаемого в прототипе эффекта, не связанного с ростом температуры. Сущность этого эффекта состоит в резонансном взаимодействии переменного воздействия со структурой как на основной частоте, так и на гармониках, из-за эффектов, связанных с нелинейностями в структуре. В этом случае распределение энергии фононового радиационного осциллятора способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 по частоте будет отличаться от чисто теплового воздействия.

При резонансном взаимодействии будет действительно наблюдаться эмиссия высокочастотных фононов, не связанных с тепловыми фононами и тем более с фононами, возникающими при деформации, т.е. вместо спектра, присущего белому (тепловому, фононовому) шуму, будет наблюдаться окрашенный в большей или меньшей степени шум.

Технический результат изобретения заключен в создании условий для получения высокоэнергетических (высокочастотных) фононов без увеличения температуры решетчатой структуры и даже понижением энтропии за счет возникновения упорядоченного движения фононов (бегущие волны) или электронов (куперовские пары в сверхпроводниках) при наложении на решетчатую структуру возбуждающего воздействия в виде внешних переменных полей или внутреннего электронного газа в сверхпроводниках.

Технический результат достигается тем, что в решетчатых структурах, в том числе обладающих стрикцией, вначале создают условия для образования высокоэнергетических фононов путем наложения на решетчатую структуру постоянного внешнего воздействия в виде магнитного поля, электрического поля, искусственной деформации по отдельности или в различных количественных сочетаниях, а затем возбуждают вышеупомянутую решетчатую структуру (либо возбуждается естественным образом при сверхпроводимости) с помощью переменных полей и(или) частиц до появления упорядоченного движения высокоэнергетических фононов, которые образуют бегущие акустические волны как объемного, так и поверхностного типа или сверхпроводящее состояние ( при способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978м>=kT) в проводниках, при этом образуется зависимость верхнего предела энергии фононов способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978м от величины постоянного внешнего воздействия, которое влияет как на энергию акустических бегущих волн, так и на температуру перехода способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978п проводника в сверхпроводящее состояние kспособ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978п=способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978м (где k, способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 - постоянные соответственно Больцмана и Планка: способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978м -максимальная частота фононов).

Постоянное внешнее воздействие магнитного поля, электрического поля, искусственной деформации не приводит к росту температуры решетчатой структуры, но создает условия для образования высокоэнергетических фононов. Возбуждение структуры с помощью переменных полей и(или) частиц ведет к понижению энтропии структуры вследствие образования упорядоченных форм движения в виде бегущих акустических волн или куперовских пар в случае возникновения сверхпроводящего состояния в проводниках при kспособ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978п<=способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978м.

Постоянное внешнее воздействие изменяет характер графика Fv = F(rv), делая его более плавным в пределах от rv = 0 до rv = rсп (где rсп - длина свободного пробега) и более крутым при rv > rсп (фиг. 1). В этом случае отдельно взятый атом решетчатой структуры приобретает: а) большую скорость вследствие большей величины rсп при одной и той же силе отклоняющего воздействия FВ; б) более резкое торможение при r > rсп, что делает столкновение между атомами в бегущей волне более упругим и способствует более полной передаче энергии, (обретенной атомом на rсп), соседнему атому, а значит, уменьшению затухания бегущей волны. В этом случае по решетчатой структуре пробегает от атома к атому упругая слабозатухающая бегущая волна и деформация сдвига (сжатия или растяжения), характерная для графика 1 (фиг.1), все в большей степени переходит в бегущую деформацию ("цепочечного" типа), позволяющую передать с небольшими потерями энергию, локализованную в очень малом объеме (одноатомный слой и в пределе отдельный атом) решетчатой структуры, из одной точки в другую, находящуюся на большом расстоянии от места возбуждения (график 2 на фиг.1). Законы распространения бегущей деформации аналогичны законам распространения сейсмических волн в сложных структурах, ограниченных в пространстве.

Если воздействие носит периодических характер (Fв=Fмsinспособ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978t), то в случае деформации сдвига для обеспечения постоянства амплитуды периодического перемещения объекта (способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978c) с массой m необходимо увеличивать с ростом частоты способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 величину Fm (F = ma). В случае чисто бегущей деформации энергия, приложенная первоначально к тонкому слою объекта с массой mсл с одной его стороны, полностью передается слою, находящемуся с противоположной стороны объекта (фиг. 2), вызывая гораздо большее его смешение (способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978) в соответствии с пропорцией:

способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 ,

при этом величина способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 практически не зависит от способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 вплоть до предельного значения способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978пр=способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978/способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978п (где способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978п - время свободного пробега атома).

Изменение характера графика способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 в направлении внешнего постоянного воздействия способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 связано с тем, что меняется расстояние между атомами Ro в случае искусственной деформации, а также наличия магнитного поля или электрического поля в структурах, обладающих соответствующей стрикцией. В случае растяжения Ro увеличивается, что ведет к ослаблению связей и увеличению rсп, а при сжатии к уменьшению rсп. Воздействие постоянных полей в веществах, обладающих стрикцией, приводит к эффектам, подобным деформирующему воздействию. Особое место занимает случай, когда высокие напряженности постоянных внешних полей (E и H) прикладываются к нестрикционным структурам, так как возможно их влияние на валентные электроны, орбиты которых захватывают соседние атомы (обменные электроны) и образуют связь между атомами. В ряде случаев подобного рода воздействие приводит к изменению длины орбит обменных электронов вследствие отклоняющего действия полей и ослаблению связи, а значит, увеличению rсп.

Рассмотрим механизм возникновения высокоэнергетиечских фонов, для чего обратимся к фиг. 1, на которой изображен график зависимости способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 для случая, когда характер функции Fv = F(rv)не зависит от направления силы способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 и обладает симметрией в трехмерном пространстве решетки. При наличии возбуждающего воздействия в виде некоей силы FB отдельный атом решетчатой структуры перемещается в пространстве на расстояние r1 (кривая 1) и расстояние r2 (кривая 2), при которых сила внешнего воздействия сравнивается по величине с силой F, стремящейся вернуть атом в прежнее положение, в результате чего образуются фононы с энергиями E1, E2, величины которых равны:

способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978

где

r1 - один из корней уравнения FB - F1(r) = 0;

r2 - один из корней уравнения FB - F2(r) =0.

В первом случае образуется фонон с частотой

способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978= E1/способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 ,

а во втором случае образуется фонон с частотой

способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978= E2/способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 .

В том случае, если энергия тепловых колебаний способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 будет соответствовать неравенству способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 , то в случае возбуждения (FB) атома решетки перемещающимся мимо него электроном проводимости образуется фонон, величина которого в первом случае E1 < kT, что свидетельствует о неизменности его электрического сопротивления, и во втором случае E2 > kT, что свидетельствует о возникновении куперовских пар, а значит, переходе проводника в сверхпроводящее состояние.

Резюме: если энергия хаоса способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 совпадает по величине с энергией фонона (E = hспособ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978м), , образующего связь между электронами в куперовской паре, то энтропия внутреннего состояния проводника скачком уменьшается до некоторой величины вследствие упорядоченного движения в куперовских парах.

Справедливо соотношение:

способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 .

Данное соотношение лежит в основе спонтанного возникновения упорядоченных структур (движений) синергетического типа и при усложнении их форм через вновь образованные обратные связи к живым самоорганизующимся структурам. Таким образом, когда энергия хаоса сравнивается с энергией связи Fсв через электромагнитные, гравитационные или слабого взаимодействия поля между отдельно взятыми объектами (частицы, структуры и т.д.), то энтропия макроструктуры, состоящей из этих объектов, скачком уменьшается, что ведет к образованию более сложных упорядоченных (в ряде случаев самоорганизующихся) макроструктур с внутренними обратными связями.

Этот закон природы носит всеобъемлющий характер и лежит в основе спонтанного (в естественных условиях) образования высших структур. Также этот закон является антиподом закона о постоянном росте энтропии.

Оба эти закона всегда существуют вместе в любых структурах как упорядоченных, так и неупорядоченных, и только количественное преобладание одного из них в разные отрезки времени определяет состояние макроструктуры. В более общем виде закон понижения энтропии можно выразить с помощью соотношения:

способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978

Процесс возбуждения может осуществляться двумя известными способами: путем повышения температуры решетчатой структуры; путем искусственного периодического воздействия на величину силы, связывающей атомы между собой (Fсв) с помощью падающих электронов, переменных напряжений, рентгеновских лучей, нейтронов и т.д.

Распределение средней энергии фонового радиационного осциллятора по частоте способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 в первом и втором случае будут различны.

В предлагаемом способе вследствие постоянного изменения величины Fсв в том или ином направлении (или во всех трех направлениях x, y, z) возрастает величина способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 на высоких частотах, поэтому "завал" способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 наступает позже. Это происходит вследствие уменьшения величины способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 при деформации, так как способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978= f(rсп). В свою очередь уменьшение способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 ведет к уменьшению энергии кванта фонона, а значит к увеличению граничной частоты, на которой начинается "завал" способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 . Величина способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 определяется из соотношения

способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 ,

где

kспособ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978, способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 - фононовые постоянные Больцмана и Планка для деформированных решетчатых структур;

способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 - температура решетчатой стуктуры.

Величина kспособ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 при наложении внешнего деформирующего воздействия будет увеличиваться, так как растет способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 Энтропия такой структуры при неизменной способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 будет выше, чем у недеформированной решетчатой структуры.

Вывод: фундаментальные постоянные kспособ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 и способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 зависят от rсп структуры. Чем больше rсп, тем меньше способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 (мельче квант) и больше kспособ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 . Эти же зависимости существуют и в физическом вакууме.

В свою очередь rсп зависит от характера функции D = D(r), где D - коэффициент упругости структуры.

Для определения математического выражения для rсп найдем соотношение для силы (Fспособ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 = Fспособ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978(r), действующей между атомами в деформированной решетчатой структуре, при этом степень деформации определяется величиной.

способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 ,

где

F0(r) - сила, действующая между атомами в недеформированной решетчатой структуре;

способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 - сила деформирующего воздействия;

способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978l = lспособ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978-lo ,

где

lспособ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 и lo - расстояние между атомами, соответственно в деформированной и недеформированной решетчатых структурах.

Величина rсп находится из выражения:

способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 ,

где

r1 и r2 - корни уравнения FB-Fспособ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978(r) = 0.

Определим способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978:

способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 .

В свою очередь способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 = способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978(EB)

Эта зависимость образуется в том случае, если коэффициент упругости структуры D = D(r) является нелинейной величиной.

Таким образом главным следствием деформации является возникновение нелинейности в зависимости D = D(r) и, как следствие этого, возникновение зависимости способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 и способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 от величины возбуждающего воздействия Eв, в результате чего для математического описания структуры необходимо ввести постоянные Планка и Больцмана:

способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 .

Чем больше нелинейность D = D(r), тем меньше способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 и тем больше k. Максимальная скорость волн cспособ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 в деформированной структуре тоже возрастает.

Для определения зависимости способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 = способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978(E) необходимо решить дифференциальное уравнение типа:

способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978

где

m - масса колеблющегося объекта.

Найдем решение этого дифференциального уравнения для случая, когда коэффициент упругости D изменяется линейно в зависимости от степени отклонения r, то есть

способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978

В этом случае решение данного дифференциального уравнения имеет вид:

r = AsinW1t, где W1= A1sinспособ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978t.

Величина A1 пропорциональна способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978

В зависимости от порядка нелинейности D решение дифференциального уравнения принимает вид:

способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 ,

где

r = RsinWnt,

Wn = AnsinWn-1t

Wn-1 = An-1sinWn-2t

Это решение нелинейного дифференциального уравнения второго порядка является достаточно строгим.

Величина A прямо пропорциональна силе деформирующего воздействия Fспособ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 а величина способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 прямо пропорциональна силе возбуждающего воздействия Fв, а также зависит от механических свойств D(r) и m решетчатой структуры.

При достаточно больших величинах деформирующего воздействия нелинейность D в точках способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 принимает очень большое значение (точки перегиба). С другой стороны в остальных точках D квазилинейна.

Полученное соотношение свидетельствует также о том, что при увеличении Fспособ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 растет коэффициент An фазовых гармоник (Wn). Для каждой фазовой гармоники (Wn) все последующие за ней (Wn+1; Wn-2 ......) формируют способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978n; kn; cM..

Аналогичная ситуация существует и в физическом вакууме, что ведет к образованию новых Вселенных со своими способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978,k и c.

Частота фонона прямо пропорционально и линейно будет зависеть от энергии возбуждающего воздействия, что и требовалось доказать.

способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978= Eспособ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 21079781/hспособ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978

Операция внешнего деформирующего воздействия может осуществляться следующими способами: путем обычного механического растяжения (сжатия) с помощью специальных механизмов; путем сопряжения изначально нагретых и охлажденных деталей с соответствующими размерами сопрягающих частей; путем помещения решетчатых структур в сильные постоянные электрические и(или) магнитные поля, в особенности, если они обладают стрикцией.

Необходимо отметить, что любой вид постоянного деформирующего воздействия в большей или меньшей степени неизбежно приводит к возникновению способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978 величина которого зависит от свойств решетчатой структуры, а также типа и силы деформирующего воздействия.

В формуле изобретения по п. 2 в качестве решетчатых структур используются структуры, обладающие стрикцией (ферриты, кварцы и т.д.). В таких структурах постоянное деформирующее воздействие удобней всего осуществлять с помощью электрических (магнитных) полей. Переменное возбуждающее воздействие накладывается на постоянное деформирующее воздействие, в результате чего образуются бегущие акустические волны, состоящие из высокоэнергетических фононов.

Для получения высокоэнергетических фононов были применены магнитострикционные решетчатые структуры (феррит, сталь, железо), которые возбуждались переменным магнитным полем на разных частотах при отсутствии постоянного внешнего воздействия в виде постоянного магнитного поля и искусственной деформации и наличии их по отдельности и вместе. Сами магнитострикционные структуры имели форму кольца с прорезью шириной 0,5 мм. Через обмотку, намотанную на кольцо, протекал переменный ток, образуя внешнее возбуждающее воздействие в виде переменного магнитного поля. При отсутствии внешнего постоянного магнитного поля и деформации возбуждаемый прорезью воздушный поток был очень слаб и воспринимался только чувствительным датчиком. При наложении постоянного магнитного поля интенсивность возбужденного воздушного потока резко возрастала и воспринималась ухом.

Искусственное деформирующее воздействие (вместе с постоянным магнитным полем) приводило к еще более интенсивному возбуждению воздушного потока, при этом интенсивность его оставалась неизменной до сотен килогерц, о чем свидетельствовало также постоянство амплитуды тока в обмотке, так как форма его полностью соответствовала характеру деформаций, происходящих в кольце с

Данный эксперимент свидетельствует о наличии в решетчатой структуре феррита высокоэнергетических фононов в виде бегущей деформации, которая приводит к смешению (способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978способ получения высокоэнергетических фононов в решетчатых   структурах, патент № 2107978) стенок прорези с частотой возбуждающего воздействия и колебанию воздушного потока с той же частотой.

Технико-экономическая эффективность предлагаемого изобретения очевидна и открывает возможности создания новых систем и устройств в электронике, акустике и других областях техники. Так как теории бегущих деформационных (акустических) волн и высокотемпературной сверхпроводимости имеют общую природу в плане образования высокоэнергетических фононов, способных переносить энергию в решетчатой структуре на большие расстояния (бегущая деформация) и образовывать сильные связи между электронами (куперовские пары в сверхпроводниках), то получаемый эффект от внедрения этого способа намного превышает затраты, необходимые для формирования постоянного внешнего воздействия и возбуждающего воздействия (в случае акустических волн).

Класс H01S4/00 Устройства, использующие стимулированное излучение волновой энергии в любых формах, кроме форм, отнесенных к группам,  1/00,  3/00 или  5/00, например фононовые мазеры, гамма-мазеры

способ получения когерентного излучения -  патент 2527313 (27.08.2014)
способ изменения траектории движения опасного космического тела (варианты) -  патент 2491210 (27.08.2013)
бортовое передающее устройство лазерной системы передачи информации -  патент 2365007 (20.08.2009)
способ ускорения ионов и устройство для его осуществления -  патент 2364979 (20.08.2009)
адаптивный генератор оптических резонансов -  патент 2297700 (20.04.2007)
способ получения направленного и когерентного гамма-излучения и устройство для его реализации -  патент 2243621 (27.12.2004)
способ формирования лазера гамма-излучения и устройство для его реализации, способ формирования мощного когерентного электронного пучка и устройство для его реализации -  патент 2143773 (27.12.1999)
способ и устройство для создания лазера сверхжесткого излучения (варианты) -  патент 2142666 (10.12.1999)
способ обработки материалов микролептонным излучением и устройство для его реализации -  патент 2138139 (20.09.1999)
способ и устройство для генерации лазерного гамма-излучения -  патент 2127935 (20.03.1999)

Класс H01L39/00 Приборы с использованием сверхпроводимости; способы или устройства, специально предназначенные для изготовления или обработки таких приборов или их частей

сверхпроводящий элемент и способ его изготовления -  патент 2529446 (27.09.2014)
способ активации высокотемпературных сверхпроводников в области криогенных температур ниже критического значения и устройство для его осуществления -  патент 2528407 (20.09.2014)
перестраиваемый криогенный генератор гетеродина субтерагерцового диапазона на основе распределенного туннельного перехода для интегральных приемных систем -  патент 2522711 (20.07.2014)
керамический материал -  патент 2515757 (20.05.2014)
сверхпроводящий переключатель, охлаждаемый посредством внутренней полости, заполненной жидким или газообразным хладагентом -  патент 2511643 (10.04.2014)
способ фильтрации фонового излучения инфракрасного диапазона -  патент 2510056 (20.03.2014)
способ электроискрового формирования тонкопленочной втсп схемы -  патент 2508576 (27.02.2014)
металлическая сборка, заготовка для сверхпроводника, сверхпроводник и способ, пригодный для получения сверхпроводника -  патент 2507636 (20.02.2014)
способ прецизионного позиционирования чувствительного элемента фотонного детектора -  патент 2506664 (10.02.2014)
сверхпроводящий прибор джозефсона и способ его изготовления -  патент 2504049 (10.01.2014)

Класс B01J19/08 способы с использованием непосредственного применения электрической или волновой энергии или облучения частицами; устройства для этого

способ и устройство для использования смесительных элементов в системах уф-обеззараживания сточных вод/оборотной воды -  патент 2515315 (10.05.2014)
способ и устройство для плазмохимической очистки газов от органических загрязнений -  патент 2508933 (10.03.2014)
способ продления ресурса графитового ядерного канального реактора -  патент 2501105 (10.12.2013)
устройство для получения битума -  патент 2499813 (27.11.2013)
плазмохимический способ получения модифицированного ультрадисперсного порошка -  патент 2492027 (10.09.2013)
способ очистки углеводородного газа от сероводорода -  патент 2477649 (20.03.2013)
установка для электрогидравлического обогащения и концентрирования минерального, в том числе золотосодержащего сырья с высоким содержанием глинистых компонентов -  патент 2477173 (10.03.2013)
способ очистки сточных вод -  патент 2473469 (27.01.2013)
установка для электровзрывной активации водных пульп и суспензий -  патент 2470875 (27.12.2012)
система распыления топлива при содействии электрического поля и способы использования -  патент 2469205 (10.12.2012)
Наверх