устройство перемещения подложкодержателя

Формула изобретения

Устройство перемещения подложкодержателя, содержащее привод перемещения, подложкодержатель с подложками и неподвижное основание, отличающееся тем, что подложкодержатель установлен на упругом элементе - сильфоне, связанном с неподвижным основанием, с возможностью вращения относительно горизонтальных осей координат, между подложкодержателем и неподвижным основанием шарнирно закреплены в вертикальном направлении две тяги - приводы, шарниры на неподвижном основании - цилиндрические, а на подложкодержателе - сферические, причем шарниры на неподвижном основании и подложкодержателе расположены под углом 90^o относительно оси сильфона, устройство перемещения дополнительно снабжено вторым подложкодержателем, установленным на первом с возможностью осевого вращения, второй подложкодержатель связан с вводом вращательного движения посредством дополнительного упругого сильфона, герметично связанного с вводом вращения и вторым подложкодержателем.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к нанесению тонких пленок в вакууме, а более конкретно - к устройствам перемещения подложкодержателя.

Известно устройство перемещения подложкодержателя [1], содержащее механический привод, подложкодержатели с возможностью их планетарного вращения с помощью механического привода.

Недостатком аналога является большая неравномерность нанесения тонких пленок за счет того, что закон планетарного вращения подложек является жестким.

Наиболее близким по технической сущности и достигаемому результату является устройство перемещения подложкодержателя [2], содержащее привод перемещения, подложкодержатель с подложками и неподвижное основание. Установленные под углом 120^o по отношению друг к другу подложкодержатели могут вращаться вокруг собственной оси и обкатываться по направляющей относительно испарителя, получая движение от привода карусели. Таким образом, подложки имеют сложное планетарное движение.

Недостатком прототипа является неравномерность нанесения тонких пленок за счет того, что закон перемещения подложек с подложкодержателем является жестким, в результате чего не представляется возможным варьировать положением подложкодержателя относительно источника распыляемого материала по любому закону движения.

Цель изобретения - обеспечить возможность снижения неравномерности толщины пленки за счет варьирования положения подложкодержателя относительно источника распыляемого материала по заданному программатором закону движения с возможностью его изменения.

Эта цель достигается тем, что подложкодержатель установлен на упругом элементе - сильфоне, жестко связанном с неподвижным основанием, подложкодержатель установлен на сильфоне с возможностью реализации вращательных движений относительно горизонтальных осей координат, между подложкодержателем и неподвижным основанием шарнирно закреплены в вертикальном направлении две тяги-привода, шарниры на неподвижном основании - цилиндрические, а на подложкодержателе - сферические, причем шарниры на неподвижном основании и подложкодержателе расположены под углом 90^o относительно оси сильфона, устройство перемещения дополнительно снабжено вторым подложкодержателем, установленным на первом с возможностью осевого вращения, второй подложкодержатель связан с вводом вращательного движения посредством дополнительного упругого сильфона, герметично связанного с вводом вращения и вторым подложкодержателем.

Введение в устройство перемещения подложкодержателя двух сильфонов, второго подложкодержателя, двух тяг-приводов и ввода вращательного движения обеспечивает возможность варьирования положения второго подложкодержателя относительно источника распыляемого материала по трем угловым координатам: вокруг осей X, Y, Z.

Сопостовительный анализ заявляемого устройства перемещения подложкодержателя и прототипа показывает, что предлагаемое техническое решение соответствует критерию изобретения "новизна".

Сравнение заявляемого решения не только с прототипом, но и с другими техническими решениями в данной области техники позволило выявить в нем совокупность признаков, отличающих заявляемое техническое решение от прототипа, что позволяет сделать вывод о соответствии критерию "существенные отличия".

На фиг. 1 показана схема устройства перемещения подложкодержателя; на фиг. 2 - вид сверху устройства.

Устройство перемещения подложкодержателя (фиг. 1) содержит тяги-приводы 1 поступательного перемещения, подложкодержатель 2 с подложками 3 и неподвижное основание 4. Подложкодержатель 2 установлен на упругом элементе - сильфоне 5, жестко связанном с неподвижным основанием 4. Подложкодержатель 2 установлен на сильфоне 5 с возможностью реализации вращательных движений относительно горизонтальных осей координат. Между подложкодержателем 2 и неподвижным основанием 4 шарнирно закреплены в вертикальном направлении две тяги-привода 1, шарниры на неподвижном основании 4 - цилиндрические 6, а на подложкодержателе 2 - сферические 7, причем шарниры 6, 7 на неподвижном основании 4 и подложкодержателе 2 расположены под углом 90^o относительно оси сильфона 5 (фиг. 1). Устройство перемещения (фиг. 1) дополнительно снабжено вторым подложкодержателем 8, установленным на первом 2 с возможностью осевого вращения, например с помощью роликов 9, установленных на раме 10.

Второй подложкодержатель 8 связан с вводом вращательного движения 11 (контактным) посредством дополнительного упругого сильфона 12, герметично связанным с вводом вращения 11 и вторым подложкодержателем 8 посредством торцевой заглушки 13.

Устройство перемещения подложкодержателя работает следующим образом.

Подложки 3 закрепляются на втором подложкодержателе 8, который вращается относительно осей X, Y, Z. Причем вращение вокруг осей носит вид возвратно-вращательного на угол до а вращение вокруг Z - непрерывно-вращательное. Причем координатные оси X, Y, Z следует рассматривать как подвижные. Применение предлагаемого устройства перемещения подложкодержателя позволяет снизить неравномерность толщины пленки за счет варьирования положения подложкодержателя относительно источника распыляемого материала.

Источники информации:

1. Технология полупроводниковых приборов и изделий микроэлектроники в 10 кн.: Учеб. пособие для ПТУ. Кн. 6. Нанесение пленок в вакууме/ В.Е.Минайчев. - М.: Высш. шк., 1989, 110 с.: ил., с. 89 - 90.

2. Технология полупроводниковых приборов и изделий микроэлектроники в 10 кн. Кн. 7. Элионная обработка. Учеб. пособие для ПТУ/ О.С.Моряков - М.: Высш. шк., 1990, 128 с.: ил., с. 50.