способ определения величины локального поля в кристаллах

Классы МПК:G01N24/00 Исследование или анализ материалов с помощью ядерного магнитного резонанса, электронного парамагнитного резонанса или других спин-эффектов
G01R33/44 с использованием ядерного магнитного резонанса (ЯМР)
Автор(ы):
Патентообладатель(и):Пермский государственный университет
Приоритеты:
подача заявки:
2000-06-21
публикация патента:

Изобретение относится к области радиоспектроскопии и может быть использовано при анализе химических соединений. Способ включает воздействие на образец двумя РЧ импульсами с временным интервалом способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 2165613 между ними, с частотой заполнения, равной частоте возбуждаемого перехода, с периодом повторения Т0 импульсной последовательности, регистрацию сигналов эха, по которым измеряют ширину линии ЯКР и определяют величину локального поля. Период повторения Т0 уменьшают до тех пор, пока не наблюдают максимальный сигнал дополнительного эха в момент времени 3способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 2165613, по формам основного и дополнительного эха разделяют и определяют величины магнитных и электрических полей. Техническим результатом изобретения является возможность разделения и определения вкладов в ширину линии ЯКР, обусловленных электрическими и магнитными взаимодействиями. 1 ил.
Рисунок 1

Формула изобретения

Способ определения величины локального поля в кристаллах, включающий воздействие на образец двумя РЧ импульсами с временным интервалом способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 2165613 между ними, с частотой заполнения, равной частоте возбуждаемого перехода, с периодом повторения T0 импульсной последовательности, регистрацию сигналов эха, по которым измеряют ширину линии ЯКР, обусловленной основными взаимодействиями, и определяют величину локального поля, отличающийся тем, что уменьшают период повторения T0 импульсной последовательности до тех пор, пока не наблюдают максимальный сигнал дополнительного эха в момент времени 3способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 2165613 и по формам основного и дополнительного эха разделяют и определяют величины магнитных и электрических полей.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к радиоспектроскопии, к частности к ядерному квадрупольному резонансу (ЯКР), и может быть использовано при анализе структуры и строения химических соединений.

Известен способ определения величины локального поля в кристаллах, включающий воздействие на образец двумя РЧ импульсами с временным интервалом способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 2165613 между ними, с частотой заполнения, равной частоте возбуждаемого перехода, с периодом повторения Т0 импульсной последовательности, регистрацию сигналов эха, по которым измеряют ширину линии ЯКР, обусловленной основным взаимодействием, и определяют величину локального поля /1/ - T.P. Das, E.L. Hahn. Nuclear Quadrupole Spectroscopy // Solid State Physics. Suppl. 1. Acad. Press. Inc. New York-London. 1958.

Данный способ имеет недостаток. Он не позволяет разделить и определить вклады в ширину линии поглощения ЯКР обусловленной магнитными и электрическими взаимодействиями, а позволяет учесть вклад только электрических взаимодействий.

Известен также способ определения величины локального поля в кристаллах, включающий воздействие на образец двумя РЧ импульсами с временным интервалом способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 2165613 между ними, с частотой заполнения, равной частоте возбуждаемого перехода, с периодом повторения Т0 импульсной последовательности и регистрацию сигналов эха, по которым измеряют ширину линии ЯКР, обусловленными основными взаимодействиями, и определяют величину локального поля /2/ - В.С. Гречишкин. Ядерные квадрупольные взаимодействия в твердых телах // Москва. Наука. 1973. 263 с. Он принят нами за прототип.

Данный способ имеет также недостаток. Он не позволяет разделить и определить вклады в ширину линии поглощения ЯКР, обусловленной магнитными и электрическими взаимодействиями.

Задачей данного изобретения является разработка способа определения локального поля, позволяющего разделить и определить вклады в ширину линии ЯКР, обусловленной магнитными и электрическими взаимодействиями.

Эта задача решается с помощью существенных признаков, указанных в формуле изобретения, общих с прототипом: воздействие на образец двумя РЧ импульсами с временным интервалом способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 2165613 между ними, с частотой заполнения, равной частоте возбуждаемого перехода, с периодом повторения Т0 импульсной последовательности, регистрацию сигналов эха, по которым измеряют ширину линии ЯКР, обусловленной основными взаимодействиями, и определяют величину локального поля, и отличительных от наиболее близкого аналога существенных признаков - уменьшают период повторения Т0 импульсной последовательности до тех пор, пока не наблюдают максимальный сигнал дополнительного эха в момент времени 3 способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 2165613, и по формам основного и дополнительного эха разделяют и определяют величины магнитных и электрических полей

Ниже раскрывается наличие причинно-следственной связи с совокупностью существенных признаков заявляемого изобретения в соответствии с достигаемым результатом.

Впервые предложен способ определения величины локального поля в кристаллах, основанный на разделении вкладов в ширину линии поглощения ЯКР, обусловленной магнитными и электрическими взаимодействиями.

Во-вторых, предполагаемый способ позволяет определить часть вклада в ширину линии поглощения ЯКР, обусловленной магнитными взаимодействиями.

Анализ всех отличительных признаков предлагаемого изобретения показал, что изобретательский уровень высок, (раньше такие приемы не использовались для решения такой задачи).

Способ реализован с помощью импульсного спектрометра ЯКР (а. с. N 1132207, МПК G 01 N 24/10, 1984, Бюл. N 48).

На чертеже приведена импульсная программа, которая используется при реализации способа. Рассмотрим более подробно. Экспериментальное наблюдение обычного сигнала предполагает воздействие на образец пары РЧ импульсов с временным интервалом способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 2165613 между ними, с частотой заполнения, равной частоте возбуждаемого перехода, с периодом повторения То импульсной последовательности (T0 > 6 T1, где T1 - время спин-решеточной релаксации) и регистрацию сигналов эха внутри временного интервала способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 2165613 способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 2165613 t способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 2165613 2способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 2165613.

Уменьшение T0 до величины T1 (или меньше) приводит к появлению дополнительного эха в момент времени 3 способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 2165613. В нашем случае величина T0 устанавливается такой, чтобы наблюдался с максимальной амплитудой сигнал дополнительного эха. При зафиксированном 0 регистрируем сигналы основного и дополнительного эха. При таком возбуждении форма основного эха при t = 2 способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 2165613 определяется средними по решетке электрическими и магнитными локальными полями

exp{-(способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 21656132M+способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 21656132E)t2/2} (1)

Форма дополнительного сигнала эха определяется только магнитными локальными полями

exp{-(способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 21656132M)t2/2} (2)

Это позволяет по формам основного и дополнительного эха разделить и определить вклады в ширину линии поглощения ЯКР, обусловленной магнитными и электрическими локальными полями.

Рассмотрим на конкретном примере реализацию предлагаемого изобретения (KReO4, резонанс ядер 187Re, J = 5/2, T = 77 К, переход 3/2-5/2, способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 21656132 = 55,651 МГц, T0 = 700 мксек, T2 = 390 мксек, T1 = 4800 мксек).

При обычном возбуждении сигнала обычного сигнала эха (при T0 > 6T1, где T1 - время спин-решеточной релаксации) значение полной ширины линии связано с выражением формы линии

exp{-(способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 21656132E)t2/2 = 1/2, (3)

где t - измеренная полная ширина линии поглощения (13 мксек).

Отсюда способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 21656132E = 0,008201 МГц2 , а величина электрического поля способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 21656132E = 0,090560 МГц (в частотных единицах).

В случае возбуждения и наблюдения дополнительного сигнала эха можно записать

exp{-(способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 21656132M)t2/2} = 1/2, (4)

где t-измеренная полная ширина линии поглощения (11 мксек).

Отсюда способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 21656132M = 0,011454 МГц2, а величина магнитного поля способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 2165613M = 0,107025 МГц.

В случае возбуждения обычного эха двухимпульсной непоследовательностью с периодом повторения T0 = 700 мксек можно записать

exp{-(способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 21656132M+способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 21656132E)t2/2 = 1/2, (5)

где t - измеренная полная ширина линии поглощения (8,4 мксек).

Отсюда способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 21656132E = 0,008191 МГц2 , а величина электрического поля способ определения величины локального поля в кристаллах, патент № 2165613E = 0,090507 МГц (в частотных единицах).

Таким образом, предлагаемое изобретение позволяет разделить и определить вклады в ширину линии поглощения ЯКР, обусловленные магнитными и электрическими взаимодействиями, а также определить величины локальных магнитных и электрических полейи

Класс G01N24/00 Исследование или анализ материалов с помощью ядерного магнитного резонанса, электронного парамагнитного резонанса или других спин-эффектов

устройство для воздействия инфракрасным излучением на коллагеновый слой кожи человека с визуализацией процесса -  патент 2527318 (27.08.2014)
мрт с гиперполяризационным устройством, использующим фотоны с орбитальным угловым моментом -  патент 2526895 (27.08.2014)
способ дистанционного обнаружения вещества -  патент 2526594 (27.08.2014)
способ оценки качества кварцевого сырья -  патент 2525681 (20.08.2014)
способ оперативного контроля качества нефти и нефтепродуктов -  патент 2519496 (10.06.2014)
импульсная последовательность для измерения параметров самодиффузии методом ядерного магнитного резонанса -  патент 2517762 (27.05.2014)
способ геохимической разведки для геоэкологического мониторинга морских нефтегазоносных акваторий -  патент 2513630 (20.04.2014)
способ дистанционного обнаружения вещества -  патент 2510015 (20.03.2014)
способ определения содержания твердого жира по данным ямр-релаксации -  патент 2506573 (10.02.2014)
способ определения содержания твердого жира по данным ямр-релаксации, прямой метод -  патент 2506572 (10.02.2014)

Класс G01R33/44 с использованием ядерного магнитного резонанса (ЯМР)

Наверх