способ электронно-лучевой обработки жидкости

Классы МПК:B01J19/08 способы с использованием непосредственного применения электрической или волновой энергии или облучения частицами; устройства для этого
C02F1/30 облучением
Автор(ы):, ,
Патентообладатель(и):Открытое акционерное общество Ангарская нефтехимическая компания
Приоритеты:
подача заявки:
1999-12-09
публикация патента:

Изобретение может использоваться в устройствах для электронно-лучевого инициирования радиационно-химических превращений в неперемешиваемой жидкости с толщиной слоя вдоль направления распространения пучка электронов, превышающей толщину слоя полного поглощения. Жидкость с растворенным в ней газом поднимается навстречу пучку электронов, ширина которого равна ширине потока жидкости. В плоскости выходного окна реакционной камеры создается поток газа с динамическим давлением, превышающим динамическое давление жидкости. Прохождение жидкости через реакционную камеру обеспечивается избыточным гидростатическим давлением. Жидкость, выходящая через окно реакционной камеры, выносится в виде аэрозоля из области облучения со скоростью газового потока, чем обеспечивается последовательный набор дозы каждым элементом жидкости в каждой точке дозного распределения внутри слоя полного поглощения. Изобретение позволяет эффективно с высокой степенью однородности обрабатывать любой элемент объема жидкости. 1 ил.
Рисунок 1

Формула изобретения

Способ электронно-лучевой обработки жидкостей, основанный на взаимодействии ускоренных электронов с жидкостью, содержащей газовую фазу и движущейся снизу вверх навстречу пучку электронов, отличающийся тем, что в плоскости выходного окна реакционной камеры создают поток газа, движущийся поперек потока жидкости и пучка электронов, ширина которого равна ширине потока жидкости, с динамическим давлением, превышающим динамическое давление потока жидкости, прохождение жидкости через реакционную камеру обеспечивают созданием избыточного гидростатического давления в резервуаре-накопителе, сообщающимся с реакционной камерой, равного или превышающего динамическое давление потока газа, в нижнюю часть резервуара-накопителя подают реакционный газ на расстоянии от точки ввода до выходного окна реакционной камеры, которое обеспечивает его растворение в жидкости за время движения от точки ввода до выходного окна реакционной камеры.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к технике использования электронно-лучевых технологий при радиационно-химической модификации жидких неперемешиваемых сред с размером облучаемой жидкости вдоль пучка электронов, превышающим длину полного поглощения энергии электронов способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545макс, и может быть применено в установках для комплексного обеззараживания химически загрязненных и бытовых стоков, речной воды и в других устройствах.

Наиболее близким к изобретению является способ радиационно-химической обработки жидкостей (Лашин А.Ф., Строкин Н.А. Способ радиационно-химической обработки жидкостей и устройство для его осуществления. Патент РФ N 2076001, кл. B 01 J 19/08, 1997. Опубликован 27.03.97. БИ N 9, с. 133), основанный на взаимодействии электронов с восходящим вместе с нерастворенным газом потоком перемешиваемой жидкости.

Известный способ обладает следующими недостатками.

1. Способ малоэффективен в случае больших расходов промышленных или бытовых стоков, когда время перемешивания жидкости превышает время ее нахождения под пучком электронов. Энергия пучка электронов поглощается жидкостью неоднородно по объему.

2. Вводимый в жидкость газ используется не оптимально с точки зрения продолжения цепи радиационно-химических реакций, так как, будучи введенным в жидкость практически непосредственно в зоне облучения, газ не успевает раствориться в ней полностью, и значительная часть его уходит в атмосферу.

Цель изобретения - повышение эффективности использования энергии технологического пучка электронов и улучшение качества обработки жидкости.

Цель достигается тем, что в способе электронно-лучевой обработки жидкостей, основанном на взаимодействии ускоренных электронов с жидкостью, содержащей газовую фазу и движущейся снизу вверх навстречу пучку электронов, в плоскости выходного окна реакционной камеры создают поток газа, движущийся поперек потока жидкости и пучка электронов, ширина которого равна ширине потока жидкости, с динамическим давлением, превышающим динамическое давление потока жидкости, прохождение жидкости через реакционную камеру обеспечивают созданием избыточного гидростатического давления в резервуаре-накопителе, сообщающимся с реакционной камерой, равного или превышающего динамическое давление потока газа, в нижнюю часть резервуара-накопителя подают реакционный газ на расстоянии от точки ввода до выходного окна реакционной камеры, которое обеспечивает его растворение в жидкости за время движения от точки ввода до выходного окна реакционной камеры.

В обрабатываемый поток жидкости на расстоянии до области облучения, достаточном для его растворения, вводят реакционный газ. В реакционной камере создают восходящий навстречу пучку электронов поток жидкости. В плоскости выходного окна реакционной камеры поперек потока жидкости и пучка электронов направляют поток газа с динамическим давлением, превышающим динамическое давление потока жидкости. Прохождение обрабатываемой жидкости через реакционную камеру обеспечивают созданием избыточного гидростатического давления столба жидкости в сообщающемся с реакционной камерой резервуаре-накопителе, которое равно или превышает динамическое давление потока газа.

На чертеже приведена возможная схема устройства по заявляемому способу. Устройство состоит из резервуара-накопителя 1, реакционной камеры 2, приемного резервуара 4, ловушки 5, соединительного трубопровода 6; 3 - плоскость выходного окна реакционной камеры.

Реализация способа электронно-лучевой обработки жидкости происходит следующим образом.

Жидкость с расходом Qж поступает в резервуар-накопитель 1. В нижнюю часть резервуара-накопителя 1, в область максимального гидростатического давления, подают реакционный газ, например, взятый из зоны радиолиза воздуха между выходным окном ускорителя электронов и реакционной камерой. Расстояние от точки ввода газа до выходного окна реакционной камеры выбирается из расчета, чтобы время tг движения газа со скоростью Vж вместе с жидкостью не было меньше времени tр растворения газа в жидкости tг способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545 tр (например, при нормальных условиях для озона tр способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545 2 минут). Газ, растворенный в жидкости, наиболее эффективно "используется" для продолжения цепи радиационно-химических реакций. Часть газа, определяемая величиной избыточного давления в точке ввода, в процессе подъема к выходному окну реакционной камеры переходит в свободное состояние и участвует в создании аэрозольной смеси на выходе из камеры 2. Реакционная камера 2 и резервуар-накопитель 1 образуют сообщающиеся сосуды и поэтому обрабатываемая жидкость под действием гидростатического давления столба жидкости в резервуаре-накопителе 1 поднимается к плоскости 3 выходного отверстия реакционной камеры. Ширина окна реакционной камеры равна ширине пучка электронов.

Толщина d слоя жидкости, определяемая расходом Qж, превышает толщину слоя полного поглощения способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545макс:d >> способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545макс . Время нахождения элемента слоя жидкости под пучком много меньше времени, необходимого для перемешивания. Распределение поглощенной энергии - дозы внутри слоя полного поглощения ("нормальное" распределение) описывается синусоидальной функцией и величина поглощенной воды принимает значения от 0 до 1 (Чепель Л.В. Применение ускорителей электронов в радиационной химии. М.: Атомиздат, 1975, 151 с.).

Д(x) = 0,5Дмакс[1+Sin(4,5x/способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545макс+0,2)] (1),

где Д(х) - величина поглощенной дозы, отн. ед.,

х - расстояние от поверхности вещества, г/(см2 МэВ),

способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545макс - толщина слоя полного поглощения, г/(см2МэВ); для воды при энергии электронов Е=1,5 МэВ способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545макс способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545 0,007 м.

В плоскости 3 выходного сечения реакционной камеры поперек потока жидкости и пучка электронов движется поток газа - поршень, например, сжатый воздух или газ, взятый из зоны радиолиза, обогащенный озоном. Усредненные по столкновениям значения потерь энергии и полного угла отклонения электронов на единицу длины пути пропорциональны плотности вещества и в газе поршня пренебрежимо малы по сравнению с поглощением энергии и рассеянием в жидкости. Динамическое давление потока газа много больше динамического давления потока жидкости способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545гVг 2 >> способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545жVж 2; Qг/Qж >> 1, где: способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545г, способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545ж - плотность соответственно газа и жидкости,

Vг, Vж - массовые скорости газа и жидкости,

Qг, Qж - расходы газа и жидкости.

Жидкость начинает поступать в зону пониженного статического давления в потоке газа. Для обеспечения контролируемого прохождения заданного потока жидкости Qж через реакционную камеру 2 в приемный резервуар 4 устанавливается такая высота способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545h слоя жидкости в резервуаре - накопителе 1 над плоскостью 3 выходного окна, чтобы величина избыточного давления способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545P = способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545hспособ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545жg, (g- ускорение свободного падения), превышала динамическое давление газа способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545P способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545 способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545Vr2 . Достигая высоты (h - способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545макс), жидкость попадает под действие пучка электронов. Поднимаясь выше, каждый элемент жидкости последовательно проходит все зоны распределения поглощенной дозы по толщине (формула (1)), получая без учета краевых эффектов одинаковую интегральную дозу. При проявлении жидкости над плоскостью выходного окна реакционной камеры она захватывается потоком газа и сносится со скоростью V способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545 Vг частично в виде аэрозоля в ловушку 5 и далее в приемный резервуар 4. Слоем "сдуваемой" жидкости (на чертеже заштрихован) вносится неоднородность поглощенной дозы. Этот неоднородный слой с максимальной толщиной способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545 << способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545макс представляет собой смесь жидкости и газа (газ поршня и часть реакционного газа, перешедшая в свободное состояние) - аэрозоль. Например, при Е = 1,5 МэВ, способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545макс = 0,007 м, Qж = 100 м3способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545 0,028 м3/с, Vж = 0,07 м/с, длине зоны облучения 1-4 м, способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545 h = 0,1 м, Vг = 20 м/с, что легко достигается с помощью вентиляторов с Qг способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545 3000 м3/ч, величина способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545 не превышает 0,0007 м.

В слое аэрозоля поглощается незначительная часть Еаспособ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545 способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545/способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545макс энергии электронного пучка. Эффективность способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545a использования поглощенной энергии Eа при облучении аэрозоля существенно превышает способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545ж при радиационно-химической обработке жидкости способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545a/способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545ж способ электронно-лучевой обработки жидкости, патент № 2176545 10 - Подзорова Е.А. Очистка коммунальных сточных вод облучением ускоренными электронами в потоке аэрозоля. Химия высоких энергии, 1995, т. 29, N 4, с. 280), что выравнивает эффективность обработки по сечению выходного окна реакционной камеры.

Таким образом, в результате реализации предлагаемого способа возможна радиационно-химическая обработка потока жидкости с толщиной слоя вдоль направления распространения пучка электронов, определяемой расходом, неограниченно превышающей толщину слоя полного поглощения, с облегчением высокой степени однородности величины поглощенной дозы и практически одинаковой эффективности обработки по всему объему жидкости. В радиационно-химической установке, построенной по предлагаемому способу, снимается проблема конечности толщины слоя полного поглощения, что открывает возможность использования более простых, долговечных и мощных ускорителей электронов с энергией частиц E < 500 кэВ.

Класс B01J19/08 способы с использованием непосредственного применения электрической или волновой энергии или облучения частицами; устройства для этого

способ и устройство для использования смесительных элементов в системах уф-обеззараживания сточных вод/оборотной воды -  патент 2515315 (10.05.2014)
способ и устройство для плазмохимической очистки газов от органических загрязнений -  патент 2508933 (10.03.2014)
способ продления ресурса графитового ядерного канального реактора -  патент 2501105 (10.12.2013)
устройство для получения битума -  патент 2499813 (27.11.2013)
плазмохимический способ получения модифицированного ультрадисперсного порошка -  патент 2492027 (10.09.2013)
способ очистки углеводородного газа от сероводорода -  патент 2477649 (20.03.2013)
установка для электрогидравлического обогащения и концентрирования минерального, в том числе золотосодержащего сырья с высоким содержанием глинистых компонентов -  патент 2477173 (10.03.2013)
способ очистки сточных вод -  патент 2473469 (27.01.2013)
установка для электровзрывной активации водных пульп и суспензий -  патент 2470875 (27.12.2012)
система распыления топлива при содействии электрического поля и способы использования -  патент 2469205 (10.12.2012)

Класс C02F1/30 облучением

Наверх