способ получения сцинтилляционных монокристаллов вольфрамата свинца

Классы МПК:C30B33/02 термообработка
C30B29/32 титанаты; германаты; молибдаты; вольфраматы
C30B15/04 с добавлением легирующего материала, например для n-р переходов
Автор(ы):, , , , , ,
Патентообладатель(и):Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт синтеза минерального сырья"
Приоритеты:
подача заявки:
2002-04-24
публикация патента:

Изобретение относится к способам получения кристаллов, а именно к способу получения монокристаллов вольфрамата свинца, и может быть использовано при изготовлении сцинтилляционных элементов. Сущность изобретения: способ включает вытягивание монокристаллов из расплава, содержащего оксиды свинца и вольфрама в присутствии добавок легирующих элементов, в газовой среде с последующим отжигом выращенных монокристаллов в атмосфере чистого инертного газа при давлении 0,8-1,5 атм и температуре 780-950oС. Изобретение позволяет повысить радиационную стойкость сцинтилляционных монокристаллов вольфрамата свинца PbWO4 к ионизирующим излучениям для расширения области их применения. 6 ил., 1 табл.
Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3, Рисунок 4, Рисунок 5, Рисунок 6, Рисунок 7

Формула изобретения

Способ получения сцинтилляционных монокристаллов вольфрамата свинца, включающий вытягивание монокристаллов из расплава, содержащего оксиды свинца и вольфрама в присутствие добавок легирующих элементов, в газовой среде, отличающийся тем, что проводят последующий отжиг выращенных монокристаллов в атмосфере чистого инертного газа при давлении 0,8-1,5 атм. и температуре 780-950oС.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к способам получения кристаллов, а именно к способу получения монокристаллов вольфрамата свинца, и может быть использовано при изготовлении сцинтилляционных элементов, применяемых в детекторах ионизирующих излучений и частиц высоких энергий, к которым предъявляется требование повышенной точности и воспроизводимости показаний в условиях высоких и меняющихся дозовых нагрузок.

Известен способ получения сцинтилляционных монокристаллов вольфрамата свинца [1] методом Чохральского путем вытягивания на кристаллическую затравку из расплава шихты в виде смеси оксидов свинца (РbO) и вольфрама (WO3) при атмосферном давлении в воздушной среде или в смеси воздуха с аргоном. Однако эти кристаллы обладают малым выходом света сцинтилляций (4-6 фотоэлектронов/МэВ), значительным оптическим поглощением в области 350-500 нм и низкой радиационной стойкостью при воздействии ионизирующего излучения.

Наиболее близким к предлагаемому изобретению является способ получения сцинтилляционных монокристаллов вольфрамата свинца [2], включающий вытягивание по методу Чохральского из расплава на кристаллическую затравку. В качестве исходной шихты применяют смесь оксидов свинца (РbО или Рb2O3) и вольфрама (WO3), которая может содержать добавки оксидов легирующих элементов. В качестве атмосферы выращивания применяют смесь газов азота или аргона с кислородом.

Полученные по этому способу кристаллы PbWO4 обладают недостатком, а именно низкой радиационной стойкостью при воздействии малых доз (менее 100 крад) ионизирующего излучения. Следствием этого является снижение оптической прозрачности кристалла в области длин волн, где лежит спектр излучения света сцинтилляций PbWO4. Возрастание поглощения собственного светового излучения приводит к снижению светового выхода и соответственно электрического сигнала на выходе фотоприемника регистрирующей системы.

Техническая задача, которую решает настоящее изобретение, заключается в повышении радиационной стойкости сцинтилляционных монокристаллов PbWO4 к ионизирующим излучениям с целью расширения области их применения.

Для достижения указанного технического результата в способе получения сцинтилляционных монокристаллов вольфрамата свинца, включающем вытягивание монокристаллов из расплава, содержащего оксиды свинца и вольфрама в присутствие добавок легирующих элементов в газовой среде осуществляют последующий отжиг выращенных монокристаллов в атмосфере чистого инертного газа при его давлении 0,8-1,5 атм и температуре 780-950oС.

Использование операции отжига в инертной к монокристаллу PbWO4 атмосфере, не содержащей кислорода, обусловлено следующим. Концентрация и стабильность радиационно-индуцированных центров оптического поглощения зависят от концентрации ловушек для электронов и дырок, а также от степени заполнения ловушек этими носителями заряда. По окончании процесса роста большая часть дырочных и электронных ловушек в монокристалле свободна. При воздействии ионизирующего излучения эти ловушки захватывают и стабильно локализуют освобождаемые в результате ионизационных процессов электроны и дырки, что приводит к интенсивному образованию центров оптического поглощения. Это определяет низкую радиационную стойкость монокристаллов. Явление захвата и соответственно образования этого типа центров радиационно-индуцированного поглощения будет отсутствовать, если исходные ловушки перед облучением окажутся заполненными, что требует создания в монокристалле избытка квазисвободных носителей заряда. Достижение этого эффекта обеспечивает отжиг монокристалла в атмосфере инертного газа в отсутствие кислорода. Вследствие повышенной подвижности кислорода в кристаллической решетке PbWO4 часть атомов кислорода покидает свои узлы и диффундирует из монокристалла. Каждый из таких атомов кислорода оставляет два неспаренных квазисвободных электрона, которые, мигрируя по кристаллу, захватываются ловушками с положительными эффективными зарядами, переводя их в состояние, неактивное для захвата и стабилизации носителей, освобождаемых при облучении кристалла. Это устраняет возможность образования на основных исходных дефектах монокристалла центров радиационно-индуцированного оптического поглощения и тем самым обеспечивает повышение его радиационной стойкости.

При облучении неотожженного монокристалла PbWO4 уже на начальном этапе при дозах 0,5-1,5 крад происходит скачкообразное увеличение коэффициента радиационно-индуцированного оптического поглощения способ получения сцинтилляционных монокристаллов   вольфрамата свинца, патент № 2202011r, переходящее при последующем наборе дозы в возрастание по нелинейному с изменяющимися параметрами закону (фиг.1-3). Монокристаллы обладают низкой радиационной стойкостью.

При облучении монокристаллов PbWO4, отожженных в не содержащей кислорода атмосфере инертного газа, например аргона, начальный скачок радиационно-индуцированного поглощения отсутствует (фиг.4-6). Возникновение поглощения происходит при дозах не менее 5 крад, а его возрастание идет по линейному закону. Такие монокристаллы обладают повышенной радиационной стойкостью.

Диффузия кислорода в объеме кристаллической решетки PbWO4, незначительная при низких температурах отжига, интенсифицируется в интервале температур вблизи температуры обратимого структурного перехода способ получения сцинтилляционных монокристаллов   вольфрамата свинца, патент № 2202011способ получения сцинтилляционных монокристаллов   вольфрамата свинца, патент № 2202011способ получения сцинтилляционных монокристаллов   вольфрамата свинца, патент № 2202011способ получения сцинтилляционных монокристаллов   вольфрамата свинца, патент № 2202011 PbWO4, происходящего при 870oС. Экспериментально установлено, что оптимальный температурный интервал отжига лежит между 780 и 950oС. Для данного температурного интервала оптимальный диапазон давлений инертного газа, окружающего монокристалл, составляет 0,8-1,5 атм. Именно при этих условиях отжига образование центров оптического поглощения при облучении монокристаллов будет незначительным, что обеспечит придание сцинтилляционным монокристаллам PbWO4 повышенной радиационной стойкости. Уменьшение давления газа при отжиге ниже 0,8 атм вызывает повышенное испарение вещества монокристалла, следствием чего является термическое травление поверхности и образование в объеме вакансионной разупорядоченности по всем его химическим компонентам, что снижает качество монокристаллов. Увеличение давления свыше 1,5 атм снижает скорость диффузионного обмена кислородом на границе между монокристаллом и окружающей газовой средой и тем самым уменьшает интенсивность процесса нейтрализации электронных ловушек в PbWO4. Достигаемое в этом случае незначительное повышение радиационной стойкости монокристаллов не имеет практического значения и экономически неэффективно.

Контроль радиационной стойкости сцинтилляционных монокристаллов PbWO4 осуществляют по их оптическому пропусканию, измеряемому непосредственно в процессе набора монокристаллом дозы гамма-облучения. Для измерений изготавливают монокристаллические элементы с двумя плоскопараллельными гранями, полированными по оптическому классу. Используют методику измерения пропускания на определенных длинах волн спектрального диапазона. Регистрирующая система в графической форме записывает возрастание коэффициента радиационно-индуцированного оптического поглощения (способ получения сцинтилляционных монокристаллов   вольфрамата свинца, патент № 2202011r, см-1) относительно значения коэффициента поглощения до воздействия гамма-излучения на монокристалл (нуль шкалы). Облучение проводят от источника гамма-квантов 60Со с энергией 1,22 МэВ и постоянной скоростью набора дозы 300 рад/ч до максимального значения 100 крад.

На графических материалах представлены зависимости коэффициента радиационно-индуцированного оптического поглощения не отожженных монокристаллов PbWO4 на длинах волн 380 нм (фиг.1), 470 нм (фиг.2), 535 нм (фиг.3) при воздействии доз гамма-облучения до 100 крад и зависимости коэффициента радиационно-индуцированного оптического поглощения отожженных монокристаллов PbWO4 на длинах волн 380 нм (фиг.4), 470 нм (фиг.5), 535 нм (фиг.6) при воздействии доз гамма-облучения до 100 крад.

Примеры конкретного выполнения.

Пример 1. Монористаллы PbWO4 выращивают методом Чохральского вытягиванием из расплава, содержащего оксиды свинца и вольфрама в присутствие легирующей добавки лантана, в газовой среде азота с добавкой 0,1 об.% кислорода. После чего выращенные монокристаллы подвергают отжигу в атмосфере аргона чистотой 99,999% при его давлении в камере отжига (0,8-1,5) атм и температуре (780-950)oС. Длительность процесса отжига 24 ч. Затем в атмосфере аргона монокристаллы охлаждают до комнатной температуры и извлекают из камеры. Из полученных монокристаллов изготавливают кристаллические элементы с двумя плоскопараллельными гранями, полированными по классу Rz 0,025 и расстоянием между ними 22 мм. На кристаллических элементах контролируют радиационную стойкость по изменению их оптического поглощения в процессе воздействия ионизирующего излучения. Контроль проводят на длинах волн 380 нм (фиг.4), 470 нм (фиг.5) и 535 нм (фиг.6) с использованием источника гамма-излучения 60Со и скоростью набора дозы 300 рад/ч до максимальной дозы 100 крад. Достигнутый в результате отжига положительный эффект повышения радиационной стойкости монокристаллов был выражен в том, что воздействие дозы облучения до 5 крад не вызвало появление радиационно-индуцированного оптического поглощения, а в диапазоне доз 10-100 крад коэффициент радиационно-индуцированного оптического поглощения возрастал по линейному закону от 0,1способ получения сцинтилляционных монокристаллов   вольфрамата свинца, патент № 2202011способ получения сцинтилляционных монокристаллов   вольфрамата свинца, патент № 2202011неотожr до 0,5способ получения сцинтилляционных монокристаллов   вольфрамата свинца, патент № 2202011способ получения сцинтилляционных монокристаллов   вольфрамата свинца, патент № 2202011неотожr, где способ получения сцинтилляционных монокристаллов   вольфрамата свинца, патент № 2202011неотожr коэффициент радиационно-индуцированного оптического поглощения неотожженных монокристаллов (фиг.4-6).

Результаты опытов сведены в таблицу.

В результате получен сцинтилляционный монокристалла вольфрамата свинца PbWO4, обладающий повышенной радиационной стойкостью относительно материала, описанного в прототипе. Данный сцинтилляционный монокристалл может найти применение в устройствах физики высоких энергий, например, в детекторах электромагнитных калориметров ускорителей частиц высоких энергий. В этом случае повышенная радиационная стойкость монокристалла обеспечит возможность использования изготовленных из него кристаллических элементов в наиболее радиационно нагруженных зонах вблизи оси электромагнитного ливня, а линейный характер закона изменения оптической прозрачности монокристалла от дозы облучения существенно упростит мониторирование отдельных кристаллических элементов и всего детектора в целом.

Источники информации

1. Belov M. V. Devitsin E.G., Kozlov V.A., Nefedov V.A., Popov L.S., Potashov S. Y, Zadneprovsky B. I. Characteristics of scintillating PbWО4 crystals produced at different growing conditions. Preprint FIAN, 29, Moscow (1995) 26 p.

2. Патент России 2132417 C 30 B 29/32, 15/04, приор. 22.01.98, опубл. 27.06.99.

Класс C30B33/02 термообработка

способ формирования высококачественных моп структур с поликремниевым затвором -  патент 2524941 (10.08.2014)
способ изготовления фантазийно окрашенного оранжевого монокристаллического cvd-алмаза и полученный продукт -  патент 2497981 (10.11.2013)
способ формирования бидоменной структуры в пластинах монокристаллов -  патент 2492283 (10.09.2013)
способ получения кристаллических заготовок твердых растворов галогенидов серебра для оптических элементов -  патент 2486297 (27.06.2013)
лазерная фторидная нанокерамика и способ ее получения -  патент 2484187 (10.06.2013)
способ термической обработки алмазов -  патент 2471542 (10.01.2013)
способ термообработки полуфабрикатов абразивных инструментов на органических термореактивных связках -  патент 2467100 (20.11.2012)
способ обработки алмаза -  патент 2451774 (27.05.2012)
способ получения фторидной нанокерамики -  патент 2436877 (20.12.2011)
способ получения шероховатости на поверхности алмазных зерен -  патент 2429195 (20.09.2011)

Класс C30B29/32 титанаты; германаты; молибдаты; вольфраматы

Класс C30B15/04 с добавлением легирующего материала, например для n-р переходов

способ получения крупногабаритных монокристаллов антимонида галлия -  патент 2528995 (20.09.2014)
монокристалл, способ его изготовления, оптический изолятор и использующий его оптический процессор -  патент 2527082 (27.08.2014)
способ получения кристаллов кремния -  патент 2473719 (27.01.2013)
способ выращивания легированных кристаллов ниобата лития состава, близкого к стехиометрическому, и устройство для его реализации -  патент 2367730 (20.09.2009)
способ получения оптически прозрачных монокристаллов тербий-галлиевого граната -  патент 2328561 (10.07.2008)
серийный способ выращивания кристаллов галлий-скандий-гадолиниевых гранатов для пассивных лазерных затворов -  патент 2324018 (10.05.2008)
способ выращивания кристаллов галлий-скандий-гадолиниевых гранатов для пассивных лазерных затворов -  патент 2321689 (10.04.2008)
способ получения легированных монокристаллов или поликристаллов кремния -  патент 2250275 (20.04.2005)
способ выращивания кристаллов -  патент 2248418 (20.03.2005)
способ получения сцинтилляционного монокристалла лютеций- иттриевого алюмината -  патент 2233916 (10.08.2004)
Наверх