способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских диэлектриках

Классы МПК:G01R29/24 устройства для измерения количества электрического заряда
Автор(ы):,
Патентообладатель(и):Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный университет" (RU)
Приоритеты:
подача заявки:
2005-12-12
публикация патента:

Способ основан на индуцировании и измерении переменного тока в цепи вибрационного конденсатора с заряженным образцом в его зазоре. Образец помещают в первое положение в зазор конденсатора параллельно его обкладкам. Перемещают образец в направлении нормали к его поверхности во второе положение. Измеряют токи конденсатора для обоих положений образца при нулевом напряжении на конденсаторе, а также измеряют ток конденсатора в одном из положений образца, например первом, при известном постоянном напряжении на конденсаторе и величину плотности заряда вычисляют по формуле. Способ позволяет упростить процесс измерения за счет исключения регулирования и систематического измерения напряжения на конденсаторе. 1 ил. способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199

способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199

Формула изобретения

Способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских диэлектриках, основанный на индуцировании и измерении переменного тока в цепи вибрационного конденсатора с заряженным образцом в его зазоре, включающий помещение образца в первое положение в зазор конденсатора параллельно его обкладкам и перемещение образца в направлении нормали к его поверхности во второе положение, отличающийся тем, что измеряют токи конденсатора для обоих положений образца при нулевом напряжении на конденсаторе, а также измеряют ток конденсатора в одном из положений образца, например первом, при известном постоянном напряжении на конденсаторе, а искомую величину плотности заряда вычисляют по формуле

способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199

где способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 0=8,85·10-12 Ф/м - электрическая постоянная;

способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 l - величина перемещения образца из первого положения образца во второе;

U - известное постоянное напряжение;

I 10 и I20 - сила тока конденсатора для первого и второго положений образца при нулевом напряжении на конденсаторе;

I1U - сила тока конденсатора для первого положения образца при напряжении U на конденсаторе.

Описание изобретения к патенту

Способ относится к электротехническим измерениям, предназначен для измерения параметров остаточного заряжения плоских диэлектриков, а именно поверхностной плотности полного (реального) заряда, поверхностных плотностей эффективных (формальных) зарядов, а также среднего положения (центра распределения) распределенного в плоском диэлектрике заряда.

Способ основан на индуцировании переменного тока в цепи вибрационного конденсатора с заряженным образцом в его зазоре. Физические основы индукционных измерений параметров остаточного заряжения диэлектрических материалов изложены в (Алейников А.Н., Алейников Н.М. Индукционные методы определения параметров остаточного заряжения диэлектрических материалов, "Материаловедение". - М.: Наука и технологии, №3, с.26-33, 2002). Наиболее распространенными индукционными способами являются компенсационные. В компенсационном способе (А.с. SU №1352411, МПК G 01 R 29/12, 1987) исследуемый плоский диэлектрик помещают в зазор вибрационного плоского конденсатора параллельно его обкладкам и, регулируя постоянное напряжение на конденсаторе, добиваются полного исчезновения тока в цепи конденсатора. Затем перемещают образец в другое положение и снова добиваются нулевого тока конденсатора, регулируя напряжение на конденсаторе. Величину поверхностной плотности заряда вычисляют по формуле способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199

где U1 и U 2 напряжения компенсации, при которых амплитуды токов конденсатора I1 и I2 обращаются в нуль, способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 l - величина перемещения образца из первого положения во второе. Основной недостаток компенсационных измерений определяется необходимостью применения высоких электрических компенсационных напряжений, разрушающих исследуемые электретные состояния.

Наиболее близким к заявленному способу является способ частичной компенсации (А.с. SU №1471152, МПК G 01 R 29/12, 1989) (прототип). В этом способе так же, как и в компенсационном способе, перемещают образец из одного положения в другое и регулируют постоянное напряжение на конденсаторе. Но добиваются не полного исчезновения тока конденсатора, а только равенства токов для обоих положений образца в зазоре конденсатора. Величину способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 r вычисляют по формуле, аналогичной (1).

По сравнению с компенсационными способами в способе-прототипе применяются значительно меньшие напряжения на конденсаторе, не разрушающие исследуемое электретное состояние, что делает этот способ более точным. Недостатком данного способа является необходимость измерения и регулирования напряжения на конденсаторе вплоть до момента выравнивания токов для различных положений образца в зазоре конденсатора. Это делает способ малотехнологичным и ограничивает возможность автоматизации измерений при массовых или длительных измерениях.

Задача, решаемая данным изобретением, - повышение технологичности и расширение функциональных возможностей способа измерения параметров остаточного заряжения диэлектрических материалов.

Технический результат заключается в упрощении процесса измерения исключением регулирования и систематического измерения напряжения на конденсаторе.

Технический результат достигается тем, что в известном способе измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских диэлектриках, основанном на индуцировании и измерении переменного тока в цепи вибрационного конденсатора с заряженным образцом в его зазоре, включающем помещение образца в первое положение в зазор конденсатора параллельно его обкладкам и перемещение образца в направлении нормали к его поверхности во второе положение, согласно предлагаемому изобретению измеряют токи конденсатора для обоих положений образца при нулевом напряжении на конденсаторе, а также измеряют ток конденсатора в одном из положений образца, например первом, при известном постоянном напряжении на конденсаторе, а искомую величину плотности заряда вычисляют по формуле

способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199

где способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 0=8,85·10-14 Ф/см - электрическая постоянная, способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 l - величина перемещения образца из первого положения образца во второе, U - известное постоянное напряжение, I 10 и I20 - сила тока конденсатора для первого и второго положений образца при нулевом напряжении на конденсаторе, I1U - сила тока конденсатора для первого положения образца при напряжении U на конденсаторе.

Рассмотрим суть предлагаемого изобретения. На чертеже приведена принципиальная схема, реализующая данный способ. Обкладками измерительного плоского вибрационного конденсатора являются неподвижный 1 и вибрационный 2 электроды. Между плоским образцом 3 толщиной L и электродом 1 образуется воздушный зазор, величина 1 которого может изменяться, например, при помощи микрометрического устройства (на чертеже не показано). От источника 4 при помощи переключателя 5 на обкладки 1 и 2 может подаваться нулевое или известное отличное от нуля постоянное напряжение U. Механические гармонические колебания электрода 2 возбуждаются вибратором 6. Возникающий в цепи конденсатора ток преобразуется усилителем 7 в напряжение, регистрируемое, например, осциллографом 8. Амплитуда переменного тока будет

способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199

где А - постоянная величина, зависящая от частоты и амплитуды вибрации, площади обкладок и межэлектродного расстояния вибрационного конденсатора, толщины и диэлектрической проницаемости образца, способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 r - поверхностная плотность полного (реального) заряда, способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 L - поверхностная плотность эффективного (формального) заряда.

Обозначим амплитуду тока в первом положении образца при нулевом напряжении на конденсаторе I 10, амплитуду тока во втором положении образца при нулевом напряжении на конденсаторе I20 и амплитуду тока в первом положении образца при напряжении U на конденсаторе I1U. Тогда в соответствии с (3) получим:

I10=А(способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 l1способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 r+Lспособ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 L), I20=A(способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 l2способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 r+Lспособ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 L), I1U=A(способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 l1способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 r+Lспособ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 L-способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 0способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 U).

Решая систему из трех последних уравнений, получим формулу (2) для вычисления способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 r. Из (2) следует, что для определения способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 r необходимо измерить амплитуды токов I10 и I1U в одном положении образца при нулевом напряжении и известном напряжении U на конденсаторе, переместить образец на величину способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 l и в этом положении образца измерить ток I 20 при нулевом напряжении на конденсаторе.

В качестве примера сравним возможности компенсационного способа, способа частичной компенсации и заявленного способа. Пусть у плоского образца толщиной L=0,4 см и диэлектрической проницаемостью способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 =4 поверхностная плотность полного заряда составляет способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 r=10-10 Кл/см 2. Величины зазоров l1 и l2 составляют: l1 =0,1 см, l2=0,2 см. Для упрощения расчетов предположим, что весь заряд локализован на поверхности образца, обращенной к вибрационному электроду 2, т.е. поверхностная плотность полного (реального) заряда способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 r равна поверхностной плотности эффективного (формального) заряда способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 L.

При измерениях компенсационным способом при l=l2 потребуется напряжение компенсации:

способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199

При измерениях способом частичной компенсации напряжение составит

способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199

При измерениях предлагаемым способом точность в определении искомой величины способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 r будет определяться не только точностью измерения токов I10, I20 , I1U, но и относительной величиной I 1U/I10, которая в знаменателе конечной формулы (2) для вычисления способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 r сравнивается с единицей. В частности, при малых значениях напряжения, когда Uспособ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 0, величина I1U/I 10способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 1 и вычисления способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 r приводят к бесконечно большому значению. Поэтому напряжение U должно быть достаточным, чтобы величина I1U/I10 заметно отличалась от единицы. Оценим величину I 1U/I10 для рассматриваемого примера при напряжении U=40 В.

способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199

Полученный результат показывает, что для определения способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 r заявленным способом используемое напряжение (40 В) может быть значительно ниже не только напряжения, требуемого при компенсационных измерениях (340 В), но и напряжения, необходимого при измерениях способом частичной компенсации (113 В). При этом относительная величина I1U /I10способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 0,82 достаточно отличима от единицы и на точность измерений существенного влияния не оказывает.

Достоинством заявленного способа по сравнению со способом-прототипом является также возможность по полученным результатам измерений определить среднее положение способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 распределенного в диэлектрике заряда

способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199

Методика определения способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 рассмотрена в первом аналоге и [1], [2]. Кроме того, зная способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 r и способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 можно определить и другие параметры остаточного заряжения, а именно поверхностные плотности способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 L и способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 0 приведенных к обеим поверхностям плоского образца эффективных (формальных) зарядов:

способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199

Необходимо отметить, что возможны случаи, когда при перемещении образца из положения l1 в положение l2 или при изменении напряжения от нулевого до известного напряжения U начальная фаза колебаний тока конденсатора изменится на противоположную. В таких случаях, как показано в первом аналоге и [2] при вычислении способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 r и способ измерения поверхностной плотности полного заряда в плоских   диэлектриках, патент № 2298199 величины I20/I10 или I1U/I10 нужно брать отрицательными.

Использованные источники информации:

1. А.с. SU №1688199, МПК G01R 29/12, 1991.

2. Патент RU №2231804, МПК G01R 29/12, 2004.

Наверх