способ получения монокристаллов молибдата цинка

Классы МПК:C30B15/02 добавлением к расплаву кристаллизующегося материала или реагентов, образующих его непосредственно в процессе
C30B17/00 Выращивание монокристаллов на затравочном кристалле, остающемся в расплаве в процессе выращивания, например по методу Накена-Киропулоса
C30B29/32 титанаты; германаты; молибдаты; вольфраматы
Автор(ы):, , , ,
Патентообладатель(и):Институт общей физики им. А.М. Прохорова Российской академии наук (RU)
Приоритеты:
подача заявки:
2007-12-18
публикация патента:

Изобретение относится к выращиванию высокотемпературных неорганических монокристаллов и может быть использовано в квантовой электронике и физике элементарных частиц, в частности, для создания детекторов процесса двойного безнейтринного бета-распада. Выращивание осуществляют путем вытягивания монокристаллов молибдата цинка ZnMoO4 из расплава исходной шихты в тигле на затравку. В качестве исходной шихты используют смесь оксидов ZnO и МoO 3, взятых в стехиометрическом соотношении с избытком М0О3 в количестве от 1,0 до 7,0 вес.%, а выращивание осуществляют при объемной скорости кристаллизации не более 0,4 см3 /час. При выращивании методом Чохральского скорость вытягивания составляет 0,3-3,0 мм/час при осевом температурном градиенте на фронте кристаллизации 80-100°/см. При выращивание методом Киропулоса скорость вытягивания составляет не более 0,5 мм/час при поддержании диаметра кристалла от 80 до 95% диаметра тигля. Предложенный способ позволяет получать крупные монокристаллы (размером 1 см3 и более), имеющие оптическое качество, пригодные для работы в качестве сцинтилляционных детекторов и оптических элементов. 2 з.п. ф-лы, 2 ил.

способ получения монокристаллов молибдата цинка, патент № 2363776 способ получения монокристаллов молибдата цинка, патент № 2363776

Формула изобретения

1. Способ выращивания монокристаллов молибдата цинка ZnMoO 4 из расплава исходной шихты в тигле вытягиванием на затравку, отличающийся тем, что в качестве исходной шихты используют смесь оксидов ZnO и MoO3, взятых в стехиометрическом соотношении с избытком MoO3 в количестве от 1,0 до 7,0 вес.% сверх стехиометрии, а выращивание осуществляют при объемной скорости кристаллизации не более 0,4 см3/ч.

2. Способ по п.1, отличающийся тем, что выращивание осуществляют методом Чохральского со скоростью вытягивания 0,3-3,0 мм/ч при осевом температурном градиенте на фронте кристаллизации 80-100°/см.

3. Способ по п.1, отличающийся тем, что выращивание осуществляют методом Киропулоса со скоростью вытягивания не более 0,5 мм/ч при поддержании диаметра кристалла от 80 до 95% диаметра тигля.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к выращиванию монокристаллов, а именно к выращиванию высокотемпературных неорганических монокристаллов, и может быть использовано в квантовой электронике и физике элементарных частиц, в частности для создания детекторов процесса двойного безнейтринного бета-распада.

Наиболее близким к изобретению является способ, описанный в статье [Н.Н.Соловьев, М.Л.Мейльман, К.А.Кувшинова, А.Г.Смагин, В.Г.Козлов, «Электронный парамагнитный резонанс и структура кристаллов молибдата цинка ZnMoO4». Журнал структурной химии, т.20, № 3, с.448-455 (1979)], в которой кристаллы для исследований были выращены методом Чохральского из расплава при атмосферном давлении. Однако исследованные кристаллы имели размеры порядка 2-5 мм, недостаточные для использования в сцинтилляционных детекторах. Это обстоятельство определяет основной недостаток вышеуказанного способа.

Техническим результатом изобретения является получение крупных монокристаллов ZnMoO4 (размером 1 см и более), имеющих оптическое качество, пригодных для работы в качестве сцинтилляционных детекторов и оптических элементов.

Технический результат достигается способом выращивания монокристаллов молибдата цинка ZnMoO4 из расплава исходной шихты в тигле вытягиванием на вращающуюся затравку. Способ отличается тем, что в качестве исходной шихты используют смесь оксидов ZnO и МоO3, взятых в стехиометрическом соотношении с избытком MoO3 в количестве от 1,0 до 7,0 вес.% сверхстехиометрии для компенсации потерь оксида молибдена, возникающих вследствие его испарения в процессе роста. Выбор интервалов концентраций обуславливается условиями кристаллизации (температурные градиенты в зоне кристаллизации, площадь свободной поверхности расплава, продолжительность ростового процесса). Согласно полученным экспериментальным данным, скорость испарения МоO3 при температуре роста кристалла составляет 0,025 г/ч·см2. При концентрации MoO3 в расплаве ниже 1,0 вес.% или выше 7,0 вес.% сверхстехиометрии имеет место рост поликристалла. Выращивание проводят при объемной скорости кристаллизации не более 0,40 см3/ч.

При выращивании методом Чохральского скорость вытягивания составляет 0,3-3,0 мм/час при осевом температурном градиенте на фронте кристаллизации 80-100°/см.

При выращиьании методом Киропулоса скорость вытягивания составляет не более 0,5 мм/час при поддержании диаметра кристалла от 80 до 95% диаметра тигля.

Способ иллюстрируется Фиг.1 и Фиг.2.

На Фиг.1 приведены фотографии монокристаллов молибдата цинка, выращенных методом Чохральского (а) и методом Киропулоса (б). На Фиг.2 приведены спектры люминесценции молибдатов цинка, лития-цинка и магния при возбуждении синхротронным излучением (длина волны 290 нм) при температуре 10К.

Пример 1. Исходную шихту получают из смеси компонентов ZnO и MoO3 (оба компонента марки ОСЧ), взятых в мольном отношении 1:1, методом твердофазного синтеза при 700°С в течение 6 часов в платиновой чашке в печи сопротивления на воздухе. Плавление шихты производят в платиновом тигле, который помещают в ростовую камеру установки «Кристалл-3М» с высокочастотным нагревом. Процесс выращивания кристалла проводится на воздухе при атмосферном давлении. Расплав молибдата цинка получают при температуре 1003±5°С. Затем температуру слегка снижают и проводят затравление и выращивание кристалла на затравку со скоростью вытягивания 0,3-3,0 мм/ч, скоростью вращения 1-100 об/мин и осевым температурным градиентом на фронте кристаллизации 80-1007 см. Скорость вытягивания выбирается с учетом диаметра кристалла так, чтобы не была превышена оптимальная объемная скорость кристаллизации 0,40 см3/ч. При осевом температурном градиенте более 100°/см объемная скорость кристаллизации должна быть снижена во избежание формирования в кристалле ростовых дефектов (рассеивающих центров, включений и трещин). При низких температурных градиентах трудно поддерживать стабильный диаметр растущего кристалла - технологичность процесса снижается. Данные по примерам 1-5 реализации способа получения монокристаллов молибдата цинка приведены в таблице. После окончания процесса роста кристалл отрывают от расплава и проводят послеростовой отжиг с постепенным снижением температуры в ростовой камере в течение 6-12 часов. Кристалл извлекается из ростовой камеры после полного остывания.

Пример 2. Исходную шихту получают из смеси компонентов ZnO и MoO3 (оба компонента марки ОСЧ), взятых в мольном отношении 1:1, методом твердофазного синтеза при 700°С в течение 6 часов в платиновой чашке в печи сопротивления на воздухе. Плавление шихты производят в платиновом тигле, который помещают в ростовую камеру установки «Кристалл-3М» с высокочастотным нагревом. Процесс выращивания кристалла проводится на воздухе при атмосферном давлении. Расплав молибдата цинка получают при температуре 1003±5°С. Затем температуру слегка снижают и проводят затравление и выращивание кристалла на затравку со скоростью вытягивания не более 0,5 мм/ч и скоростью вращения 1-100 об/мин, при этом диаметр кристалла поддерживают от 80 до 95% диаметра тигля (метод Киропулоса). Поддержание диаметра растущего кристалла близким к диаметру тигля обеспечивает малую величину свободной поверхности расплава, с которой происходит испарение MoO3. Концентрация избыточного оксида молибдена в расплаве в этом случае может быть снижена до 2,0 вес.% при сохранении стехиометрического состава растущего кристалла. При этом вероятность появления включений посторонних фаз в растущий кристалл снижается.

Из выращенных монокристаллов изготавливались образцы размером 10×10×1(5) мм, их поверхности полировались. Методом рентгеноспектрального микроанализа подтвержден фазовый состав - ZnMoO4. Оптическое качество характеризуется отсутствием пузырей, трещин, включений посторонних фаз, прозрачностью в области от 330 до 3100 нм. Кристаллы имеют размытую полосу поглощения с максимумом 445 нм. Цвет кристаллов - темно-оранжевый.

Методом рентгеноструктурного анализа определены параметры решетки выращенных кристаллов - a=9.6850Å, b=6.9691Å, c=8.3705Å, способ получения монокристаллов молибдата цинка, патент № 2363776 =96.74°, способ получения монокристаллов молибдата цинка, патент № 2363776 =106.87°, способ получения монокристаллов молибдата цинка, патент № 2363776 =101.73°, что согласуется с литературными данными (a=9.625, b=6.965, c=8.373, способ получения монокристаллов молибдата цинка, патент № 2363776 =96°18', способ получения монокристаллов молибдата цинка, патент № 2363776 =103°18' [Л.Н.Демьянец, В.В.Илюхин, А.В.Чичагов, Н.В.Белов, «О кристаллохимии изоморфных замещений в молибдатах и вольфраматах двухвалентных металлов». Неорганические материалы, т.3, № 12, с.2221-2234 (1967)]).

Состав расплава V, мм/ч способ получения монокристаллов молибдата цинка, патент № 2363776 , об/мин Отжиг, ч Параметры кристалла Объемная скорость кристаллизации, см3 Результат
Стех.Вес.% MoO 3
1ZnMoO4 способ получения монокристаллов молибдата цинка, патент № 2363776 5 306 способ получения монокристаллов молибдата цинка, патент № 2363776 0=13 мм, 1=40 мм 0,66Поликристалл
2 ZnMoO4 3,03 306 способ получения монокристаллов молибдата цинка, патент № 2363776 0=10 мм, 1=21 мм 0,23Прозрачный. Без трещин и включений
3ZnMoO4 5,0 330 6способ получения монокристаллов молибдата цинка, патент № 2363776 0=13 мм, 1=36 мм 0,39Прозрачный. Без трещин и включений
4ZnMoO4 6,5 330 8способ получения монокристаллов молибдата цинка, патент № 2363776 0=10 мм, 1=40 мм 0,23Прозрачный. Включения по центру
5ZnMoO4 2,0 0,35 12способ получения монокристаллов молибдата цинка, патент № 2363776 0=32 мм, 1=21 мм 0,24Прозрачный

Исследованы спектрально-люминесцентные свойства полученных кристаллов ZnMoO4. Получены спектры отражения и возбуждения люминесценции при возбуждении синхротронным излучением, определена полоса собственной люминесценции с максимумом на 610 нм.

Таким образом, технико-экономическая эффективность заявляемого способа получения монокристаллов молибдата цинка по сравнению с прототипом заключается в следующем:

- выращены крупные монокристаллы молибдата цинка диаметром до 30 мм, длиной до 40 мм, против 1-2 мм у прототипа;

- отсутствие радиоактивных изотопов цинка в ZnMoO4 позволяет избежать помех при регистрации двойного безнейтринного бета-распада;

- интенсивность люминесценции молибдата цинка выше, чем у других кристаллов молибдатов, не создающих помех при регистрации - Li2Zn(MoO4) 2 и MgMoO4.

Класс C30B15/02 добавлением к расплаву кристаллизующегося материала или реагентов, образующих его непосредственно в процессе

способ получения крупногабаритных монокристаллов антимонида галлия -  патент 2528995 (20.09.2014)
способ выращивания монокристаллов германия -  патент 2493297 (20.09.2013)
способ получения кристаллов вольфрамата натрия-висмута -  патент 2485218 (20.06.2013)
способ получения крупногабаритных монокристаллов антимонида индия -  патент 2482228 (20.05.2013)
способ получения монокристалла оксида цинка -  патент 2474625 (10.02.2013)
способ выращивания объемных монокристаллов александрита -  патент 2471896 (10.01.2013)
способ получения монокристалла -  патент 2418108 (10.05.2011)
способ выращивания монокристаллов с заданным распределением примесей по его длине -  патент 2402646 (27.10.2010)
способ получения совершенных кристаллов трибората цезия из многокомпонентных растворов-расплавов -  патент 2367729 (20.09.2009)
устройство для выращивания слоев кремния на углеродной подложке -  патент 2365684 (27.08.2009)

Класс C30B17/00 Выращивание монокристаллов на затравочном кристалле, остающемся в расплаве в процессе выращивания, например по методу Накена-Киропулоса

способ выращивания кристалла методом киропулоса -  патент 2494176 (27.09.2013)
способ выращивания монокристалла сапфира на затравочном кристалле, остающемся в расплаве, в автоматическом режиме -  патент 2423559 (10.07.2011)
способ выращивания монокристалла сапфира на затравочном кристалле, остающемся в расплаве в процессе выращивания -  патент 2417277 (27.04.2011)
способ выращивания тугоплавких монокристаллов -  патент 2404298 (20.11.2010)
установка для выращивания монокристаллов, например, сапфиров -  патент 2404297 (20.11.2010)
устройство для выращивания тугоплавких монокристаллов -  патент 2361020 (10.07.2009)
способ выращивания монокристаллов сапфира из расплава -  патент 2350699 (27.03.2009)
способ обработки хлорида или бромида, или йодида редкоземельного металла в углеродсодержащем тигле -  патент 2324021 (10.05.2008)
сцинтиляционное вещество (варианты) -  патент 2242545 (20.12.2004)
устройство для выращивания монокристаллов сапфира -  патент 2232832 (20.07.2004)

Класс C30B29/32 титанаты; германаты; молибдаты; вольфраматы

Наверх