способ очистки отходящих газов от силана

Классы МПК:B01D53/34 химическая или биологическая очистка отходящих газов
C01B33/04 кремневодородные соединения 
C01B33/12 диоксид кремния; его гидраты, например чешуйчатая кремниевая кислота
Автор(ы):, , , , , , ,
Патентообладатель(и):Федеральное Государственное Унитарное предприятие "Российский научный центр "Прикладная химия" (RU)
Приоритеты:
подача заявки:
2010-05-24
публикация патента:

Изобретение относится к способам очистки отходящих газов от содержащегося в них силана SiH4. Способ включает взаимодействие силана с кислородом воздуха с образованием твердого диоксида кремния, с последующим отделением диоксида кремния фильтрацией. При этом отходящие газы, содержащие силан, смешивают с воздухом и подают на взаимодействие в реактор типа «туннельная горелка», снабженный рубашкой с теплоносителем. Время пребывания газа в реакторе от 1 до 10 сек, объемное соотношение силан:кислород от 1:2 до 1:10. Обеспечивается очистка отходящих газов от силана до его содержания не более 0,001 об.%, простота в аппаратурном оформлении и возможность обработки газа, содержащего силан в широком диапазоне концентраций. 2 з.п. ф-лы, 2 ил., 3 табл., 3 пр.

способ очистки отходящих газов от силана, патент № 2450850 способ очистки отходящих газов от силана, патент № 2450850

Формула изобретения

1. Способ очистки отходящих газов от силана, включающий его взаимодействие с кислородом воздуха с образованием твердого диоксида кремния, с последующим отделением диоксида кремния фильтрацией, отличающийся тем, что отходящие газы, содержащие силан, смешивают с воздухом, и взаимодействие проводят в реакторе типа «туннельная горелка», причем время пребывания газов в реакторе от 1 до 10 с, объемное соотношение силан: кислород от 1:2 до 1:10.

2. Способ по п.1, отличающийся тем, что для полной конверсии силана подаваемый в реактор воздух и отходящие газы перед взаимодействием предварительно подогревают до температуры 150-350°С.

3. Способ по любому из пп.1 и 2, отличающийся тем, что реактор снабжен рубашкой охлаждения, в которую подают теплоноситель с температурой 20-150°С.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к технологии неорганических соединений, а именно к способам очистки отходящих газов (газовых сдувок) от содержащегося в них силана SiH4.

В настоящее время одним из промышленных способов получения поликристаллического кремния (ПКК) является метод гетерогенного пиролитического разложения высокочистого силана. В этом случае в технологии как на стадии получения высокочистого силана, так и на стадии его термического разложения образуются газообразные сдувки, состоящие преимущественно из инертных газов: азота, аргона, гелия, водорода, диоксида углерода и т.д., содержащие в своем составе силан.

Силан при контакте с воздухом самовоспламеняется и разлагается на водород и двуокись кремния, относящуюся к III классу опасности. Из-за возможности возгорания с кислородом и вредного воздействия на окружающую среду, газ, содержащий силан, не может быть направлен на рассевание в атмосферу и должен быть подвержен очистке от SiH4.

Существует несколько промышленных способов очистки отходящих газов от силана. Наиболее часто реализуемым в промышленности является абсорбция силана водой или водными растворами щелочей, которую проводят в специальных аппаратах - скрубберах. В результате поглощения силана образуются либо полисилоксановые жидкости либо водорастворимые соли кремниевых кислот. Главным недостатком этого способа является образование большого количества жидких отходов.

Этот недостаток можно устранить, применяя в качестве абсорбента не воду, а нейтральную по отношению к силану жидкость, в которой последний хорошо растворим.

Так, предложено [WO 2010018390 (А1), B01D 53/14, МПКл. С01В 33/04 оп. 2010-02-18] в качестве растворителя применять пропан. Для того чтобы пропан в процессе находился в жидкой фазе, абсорбцию ведут при субкриогенных температурах и повышенном давлении в газожидкостном аппарате колонного типа. После стадии десорбции силана пропан возвращается на стадию очистки на вход в абсорбционную колонну. Недостатком этого метода является проведение процесса при субкриогенных температурах, кроме того, десорбированный силан должен каким-либо образом нейтрализоваться, если нет возможности вернуть его в процесс как товарный продукт.

Другим способом очистки газов от силана является его разложение до кремния и водорода, при этом разложение может быть либо термическим при температурах, превышающих 1000°С, либо каталитическим.

Описано [патент Китая CN 101554562 (А) МКИ B01D 53/74; оп. 2009.10.14] термическое разложение силана. По этому способу отработанный (выхлопной) газ синтеза, образующийся в процессе производства полупроводников и вакуумного покрытия и содержащий силан, направляют в печь, заполненную твердым топливом. При этом корпус печи оснащен стенками, козырьком и камерой горения и имеет зазоры для протекания газа. Ввод для воздуха осуществляется в нижней части корпуса печи, а обрабатываемый выхлопной газ входит в камеру печи через специальное отверстие в верхней части печи и проходит через зазоры (щели) через горящее топливо. Главным недостатком этого способа очистки газов является наличие дополнительного расходуемого компонента - твердого топлива, а также высокая температура процесса, требующая специальные жаростойкие конструкционные материалы.

Использование катализатора для разложения силана приводит к снижению температуры процесса. Известно [заявка Японии JP 61168518 (А), МПКл. С01В 33/04, оп. 1986-07-30] использование оксида алюминия в качестве катализатора, предпочтительнее его гамма-форма с удельной поверхностью не менее 100 м2/г. Процесс проводят при температуре 100-600°С, при этом большая часть образующегося кремния адсорбируется на поверхности оксида алюминия.

Недостатком этого способа очистки газов является появление расходуемого компонента - катализатора - и образование дополнительных отходов - оксида алюминия с абсорбированным кремнием.

Из-за того, что концентрационные пределы самовоспламенения силана с кислородом лежат в диапазоне от 1 до 100% даже при отрицательных температурах, наиболее эффективным и экономически целесообразным способом является очистка отходящих газов от SiH4 его сжиганием с воздухом в специальных устройствах. При этом образующийся в реакции твердый диоксид кремния либо остается непосредственно в реакционной зоне либо улавливается в циклонах и фильтрах твердых частиц.

Наиболее близким техническим решением является способ [заявка Японии JP 7185259 (А), МПКл. B01D 53/34, оп. 1995-07-25], по которому отходящие газы, содержащие силан, и образующиеся в процессе обработки полупроводников, разбавляют азотом, взаимодействуют с воздухом, направляют на фильтр для улавливания образующихся твердых частиц и затем в каталитический реактор. Система очистки состоит из следующих аппаратов: смесителя, создающего вращающийся поток, в который вводятся воздух и разбавленный азотом отходящий газ, содержащий силан; реактора с вихревыми токами, в котором эти отходящие газы взаимодействуют с воздухом; циклонного сепаратора, установленного на выходе потока из вихревого реактора и соединенного с ним очистной трубой; фильтрат частиц расположен в конце потока из циклонного сепаратора; каталитического реактора для увеличения конверсии силана.

Недостатками данного способа является, во-первых, возможность очистки отходящих газов только с низким содержанием силана, для чего указанный газ разбавляется азотом; во-вторых, сложность аппаратурного оформления процесса - система состоит, по крайней мере, из пяти основных аппаратов; и, в-третьих, для высокой конверсии силана применяется дополнительный каталитический реактор.

Сущность изобретения состоит в том, что проводят способ очистки отходящих газов от силана, включающий его взаимодействие с кислородом воздуха с образованием твердого диоксида кремния, с последующим отделением диоксида кремния фильтрацией, отличающийся тем, что отходящие газы, содержащие силан, смешивают с воздухом и направляют на взаимодействие в реактор типа «туннельная горелка», причем время пребывания газов в реакторе от 1 до 10 сек, объемное соотношение силан:кислород от 1:2 до 1:10. Для полной конверсии силана подаваемый в реактор воздух и отходящие газы перед взаимодействием предварительно подогревают до температуры 150-350°С. Реактор, в котором проводится взаимодействие, снабжен рубашкой охлаждения, в которую подают теплоноситель с температурой 20-150°С.

После отделения твердых частиц, состоящих в основном из диоксида кремния, они поступают в систему удаления этих частиц, которая состоит из циклона и фильтра или только фильтра при низкой концентрации в газе твердых частиц. При содержании силана в отходящем газе ниже 1,5 об.% воздух и отходящие газы, подаваемые в реактор, предварительно нагревают до температуры 150-350°С. Содержание кислорода в подаваемом воздухе составляет около 21 об.%, и основываясь на этом, рассчитывают соотношения подаваемых в реактор газов синтеза и воздуха.

Принципиальная схема очистки газа, содержащего силан, приведена на фигуре 1, где 1 - подогреватель воздуха, 2 - реактор, 3 - циклон, 4 - фильтр; потоки: 5 - подача отходящего газа, 6 - подача воздуха, 7 - выход очищенного газа, 8 - выход диоксида кремния.

Реактор представляет собой высокоскоростной аппарат типа «туннельная горелка», в котором в цилиндрическую камеру сгорания по центру торцевой части коаксиально входят цилиндрический канал ввода отходящего газа и располагающийся вокруг него канал подачи воздуха. Камера сгорания имеет рубашку охлаждения, в которую для стабилизации фронта реакции, более полной конверсии силана и отвода тепла реакции подается теплоноситель с температурой 20-150°С. Диаметр реактора и каналов подачи компонентов выбирается таким образом, чтобы приведенная скорость газа в реакторе при нормальных условиях лежала в диапазоне 0,1-0,5 м/с, в каналах подачи воздуха 1-3 м/с, подачи отходящего газа 5-15 м/с. При указанных скоростях подачи газов обеспечивается требуемое соотношение силана и кислорода, что определяет полное сгорание силана. Время пребывания газа в реакторе должно составлять величину 1-10 с, воздух в реактор подается в таком количестве, чтобы объемное соотношение силан: кислород находилось в диапазоне 1:2 до 1:10.

В аппарате такой конструкции реакция происходит в узкой зоне, называемой фронтом реакции, при температурах, близких к адиабатическим, при этом стабилизация фронта горения происходит за счет наличии зоны обратных токов, в которой часть продуктов реакции за счет завихрений возвращается к месту ввода газов в камеру сгорания и нагревает их. При низкой концентрации силана в отходящем газе реализуется низкая температура во фронте горения. В этом случае для повышения конверсии силана, а также для начального инициирования процесса в реактор подают нагретые до температуры 150-350°С воздух и отходящие газы. В этом же случае для повышения температуры в зоне реакции и предотвращения проскока непрореагировавшего силана вдоль холодных стенок реактора в рубашку аппарата подают теплоноситель, нагретый до 150°С. Принципиальная схема реактора очистки газа, содержащего силан, приведена на фигуре 2, где 9 - канал подачи отходящего газа, содержащего силан, 10 - канал подачи воздуха, 11 - камера сгорания, 12 - зона обратных токов; потоки: 5 - вход газа, содержащего силан, 6 - вход воздуха, 7 - выход очищенного газа, 13 - вход теплоносителя, 14 - выход теплоносителя.

Ниже приведены примеры конкретной реализации процесса.

В таблице I представлены результаты опытов (условия примера I). Способ проводится в реакторе, схема которого приведена на фигуре 2, имеющем следующие геометрические характеристики: диаметр канала 1-3 мм, диаметр канала 2-16 мм, диаметр камеры сгорания 3-50 мм, длина камеры сгорания - 700 мм. В реактор подается воздух и смесь инертных газов и силана при комнатной температуре, в рубашку реактора подается теплоноситель с температурой 20°С. В таблице I приведены концентрация силана в инертных газах, скорость газа в каналах подачи и в камере сгорания, содержание силана в газе на выходе из фильтра.

Пример II. В реактор, схема которого приведена на фигуре 2, имеющий следующие геометрические характеристики: диаметр канала 1-4 мм, диаметр канала 2-10 мм, диаметр камеры сгорания 3-30 мм, длина камеры сгорания -700 мм. В реактор подается воздух, нагретый до температуры 350°С, и смесь инертных газов и силана при комнатной температуре, в рубашку реактора подается теплоноситель с температурой 20°С. В таблице II приведены концентрация силана в инертных газах, скорость газа в каналах подачи и в камере сгорания, содержание силана в газе на выходе из фильтра.

Пример III. В реактор, схема которого приведена на фигуре 2, имеющий следующие геометрические характеристики: диаметр канала 1-5 мм, диаметр канала 2-8 мм, диаметр камеры сгорания 3-30 мм, длина камеры сгорания - 700 мм. В реактор подается воздух, нагретый до температуры 350°С, и смесь инертных газов и силана при температуре 350°С, в рубашку реактора подается теплоноситель с температурой 150°С. В таблице III приведены концентрация силана в инертных газах, скорость газа в каналах подачи и в камере сгорания, содержание силана в газе на выходе из фильтра.

Результаты опытов, представленные в таблицах I-III, показывают, что для достижения удовлетворительных результатов по конечному содержанию силана в отходящих газах (менее 0,001%) необходимо при уменьшении содержания силана в исходном газе менее 10 об.% повышать температуру воздуха на входе реактора (пример 2), а при содержания силана в исходном газе менее 1 об.% (пример 3) повышать температуру воздуха на входе реактора и обогревать стенку реактора.

Данные, представленные в таблицах I-III, подтверждают, что достигнута цель, поставленная перед разработчиками данного изобретения, а именно создан способ очистки отходящих газов от силана до его содержания не более 0,001 об.%, отличающийся простотой в аппаратурном оформлении. При этом имеется возможность обработки газа, содержащего силан, в широком диапазоне концентраций.

Таким образом, представленное изобретение способствует созданию экологически безопасных технологий синтеза и применения силана.

Таблица I
Пример I
№ п/п Исходная концентрация SiH4, об.% Скорость газа, м/с Время пребывания, с Объемн. соотношение SiH4:O2 Конечная концентрация SiH4, об.%
канал подачи SiH4 канал подачи воздуха реактор
1 84,0 5,0 1,7 0,19 3,71/2,3 <0,001
2 55,9 7,5 1,6 0,19 3,71/2,2 <0,001
3 24,6 10,0 1,2 0,15 4,71:2,7 <0,001
4 16,2 10,0 1,0 0,13 5,41:3,1 <0,001
5 9,8 12,0 1,1 0,15 4,71:5,3 0,001
6 5,1 14,5 1,0 0,15 4,71:6,8 0,003
Таблица II
Пример II
№ п/п Исходная концентрация SiH4, об.% Скорость газа, м/с Время пребывания, с Объемн. соотношение SiH4: О2 Конечная концентрация SiH4, об.%
канал подачи SiH4 канал подачи воздуха реактор
1 9,2 5,5 1,1 0,22 3,2 1/2,6<0,001
2 5,9 8,0 2,8 0,36 1,9 1:5<0,001
3 2,3 11,0 1,5 0,30 2,3 1:5<0,001
4 1,2 13,0 1,2 0,32 2,2 1:6,40,001
5 0,8 14,0 1,0 0,32 2,2 1:7,50,001
6 0,6 14,5 1,0 0,33 2,1 1:9,60,002
Таблица III
Пример III
№ п/п Исходная концентрация SiH4, об.% Скорость газа, м/с Время пребывания, с Объемн. соотношение SiH4:O2 Конечная концентрация SiH4, об.%
канал подачи SiH4 канал подачи воздуха реактор
1 1,1 8,0 2,0 0,29 2,41:5,5 <0,001
2 0,7 10,0 1,8 0,33 2,11:6 <0,001
3 0,5 10,0 1,6 0,33 2,11:7,5 <0,001
4 0,3 12,0 1,2 0,37 1,91:7,5 <0,001
5 0,1 14,9 1,0 0,44 1,61: 10 0,001

Класс B01D53/34 химическая или биологическая очистка отходящих газов

способ газификации органических отходов и устройство для его осуществления -  патент 2524909 (10.08.2014)
способ очистки потока газообразных продуктов сгорания из установки для получения клинкера и соответствующее устройство -  патент 2514066 (27.04.2014)
способ выделения метана из газовых смесей -  патент 2500661 (10.12.2013)
поглотитель газов и неприятных запахов (варианты) и органоминеральное удобрение -  патент 2493905 (27.09.2013)
способ очистки отходящих газов -  патент 2488431 (27.07.2013)
система для распыления сорбента в среде дымовых газов теплотехнических установок -  патент 2484903 (20.06.2013)
комплексная, безотходная переработка токсичных отходов -  патент 2484868 (20.06.2013)
улучшенная промотором система на основе охлажденного аммиака и способ удаления co2 из потока дымового газа -  патент 2481882 (20.05.2013)
способ получения сорбента для улавливания летучих форм радиоактивного йода -  патент 2479347 (20.04.2013)
очистка газов -  патент 2477643 (20.03.2013)

Класс C01B33/04 кремневодородные соединения 

Класс C01B33/12 диоксид кремния; его гидраты, например чешуйчатая кремниевая кислота

способ получения углеродных наноматериалов с нанесённым диоксидом кремния -  патент 2516409 (20.05.2014)
способ извлечения наноразмерных частиц из техногенных отходов производства флотацией -  патент 2500480 (10.12.2013)
способ получения высококачественной кварцевой крупки -  патент 2492143 (10.09.2013)
способ получения аморфного микрокремнезема высокой чистоты из рисовой шелухи -  патент 2488558 (27.07.2013)
суспензия, содержащая наночастицы коллоидного раствора кремниевой кислоты, стабилизированные гидроксонием, состав, полученный из указанной разбавленной суспензии, порошок, полученный из указанной дегидратированной суспензии, композиции, полученные из указанного порошка, получение и применение -  патент 2488557 (27.07.2013)
способ обогащения природного кварцевого сырья -  патент 2483024 (27.05.2013)
способ получения аморфного диоксида кремния из рисовой шелухи -  патент 2480408 (27.04.2013)
способ получения аморфного диоксида кремния -  патент 2474535 (10.02.2013)
способ переработки отходящих газов, образующихся в процессе получения пирогенного диоксида кремния высокотемпературным гидролизом хлоридов кремния -  патент 2468993 (10.12.2012)
способ получения синтетического диоксида кремния высокой чистоты -  патент 2458006 (10.08.2012)
Наверх