устройство для спектрального анализа
Классы МПК: | G01J3/18 с помощью дифракционных элементов, например решеток G01J3/42 абсорбционная спектрометрия; двулучевая спектрометрия; мерцающая спектрометрия; отражательная спектрометрия |
Автор(ы): | Бреус Игорь Владимирович (RU), Дёмин Анатолий Петрович (RU), Рагинов Сергей Владимирович (RU), Саттаров Феликс Абдулнурович (RU), Чугунов Юрий Петрович (RU) |
Патентообладатель(и): | Открытое акционерное общество "Научно-производственное объединение "Государственный институт прикладной оптики" (ОАО "НПО ГИПО") (RU) |
Приоритеты: |
подача заявки:
2011-08-12 публикация патента:
27.04.2013 |
Изобретение относится к технике спектрального анализа и может найти применение при эмиссионных и атомно-абсорбционных измерениях в спектроанализаторах с дифракционными решетками и многоэлементными фотоприемниками. Устройство для спектрального анализа содержит источник излучения, входную щель, дифракционную решетку, в фокальной плоскости которой установлен многоэлементный фотоприемник, выходом подключенный к первому входу блока регистрации и обработки информации. В устройство введен второй многоэлементного фотоприемник, установленный в плоскости зеркально отраженного изображения входной щели с возможностью регистрации лучей как реперной, так и определяемой спектральных линий, выход которого соединен со вторым входом блока регистрации и обработки информации. Технический результат заключается в обеспечении возможности повышения точности и оперативности определения длин волн спектральных линий, а также в обеспечении возможности сокращения времени измерений. 3 ил.
Формула изобретения
Устройство для спектрального анализа, содержащее источник излучения, входную щель, дифракционную решетку, в фокальной плоскости которой установлен многоэлементный фотоприемник, выходом подключенный к первому входу блока регистрации и обработки информации, отличающееся тем, что в него введен второй многоэлементный фотоприемник, установленный в плоскости зеркально отраженного изображения входной щели с возможностью регистрации лучей как реперной, так и определяемой спектральных линий, выход которого соединен со вторым входом блока регистрации и обработки информации.
Описание изобретения к патенту
Изобретение относится к технике спектрального анализа и может найти применение при эмиссионных и атомно-абсорбционных измерениях в спектроанализаторах с дифракционными решетками и многоэлементными фотоприемниками.
Известно устройство (А.Я.Суранов, А.В.Шпомер, А.Г.Якунин «Применение автоматизированного регистратора спектра на основе линейного ПЗС-фотодиодного приемника для спектрального анализа металлов» ЖПС, № 3, т.XLIII, 1985 г, стр.377), в котором для регистрации спектра используется многоэлементный фотоприемник. В этом устройстве в качестве координаты спектральной линии берется координата элемента с максимальной амплитудой сигнала центра тяжести ее изображения. Однако механические вибрации и изменение условий окружающей среды приводит к изменениям положения диспергирующего элемента и, как следствие, к смещению спектральных линий относительно чувствительных элементов фотоприемника. Для корректировки смещения необходимо дополнительно регистрировать реперный (известный) спектр.
Наиболее близким к предлагаемому устройству является устройство для спектрального анализа (а.с. № 1827550, G01J 3/42, опубликовано 15.07.93 г.), содержащее источник излучения, который через входную щель освещает дифракционную решетку, разлагающую излучение в спектр. Спектр регистрируется многоэлементным фотоприемником, который расположен в фокальной плоскости дифракционной решетки. Сигнал с фотоприемника поступает на устройство обработки информации (например, ЭВМ) и отображается в виде номеров элементов фотоприемника со своими величинами сигналов на индикаторном устройстве.
В этом устройстве последовательно измеряют значения сигналов со всех элементов фотоприемника, фиксируют номера элементов фотоприемника, для которых зарегистрированы сигналы от максимальных до фоновых значений для определяемой и реперной спектральных линий. Определяют точные координаты максимумов интенсивности реперной и определяемой спектральных линий. Определяют расстояния К1 и К2 между первым элементом фотоприемника и координатами максимумов интенсивностей определяемой и реперной спектральных линий и находят длину волны x определяемой спектральной линии по формуле:
где x - длина волны определяемой спектральной линии;
1 - длина волны реперной спектральной линии;
1, 2 - расстояния между первым элементом фотоприемника и координатами максимумов интенсивностей определяемой и реперной спектральных линий соответственно;
P - среднее значение обратной линейной дисперсии.
Недостатком этого устройства является необходимость регистрации наряду с исследуемым дополнительно реперного спектра при каждом измерении. Следующим недостатком этого устройства является то, что в период времени между регистрацией реперного и исследуемого спектров вследствие механических вибраций и изменения условий окружающей среды может произойти изменение положения дифракционной решетки, в результате чего возникнет смещение исследуемого спектра и изменение координаты максимума интенсивности определяемой спектральной линии относительно первого элемента фотоприемника. Это приведет к дополнительной ошибке при нахождении длины волны определяемой спектральной линии.
Задачей, на решение которой направлено изобретение, является повышение точности и оперативности определения длин волн спектральных линий при проведении спектрального анализа за счет исключения ошибок, возникающих при изменении положения дифракционной решетки под воздействием вибраций и условий окружающей среды, при сокращении времени измерений.
Указанная задача решается тем, что в устройстве для спектрального анализа, содержащем источник излучения, входную щель, дифракционную решетку, в фокальной плоскости которой установлен многоэлементный фотоприемник, выходом подключенный к первому входу блока регистрации и обработки информации, введен второй многоэлементный фотоприемник, установленный в плоскости зеркально отраженного изображения входной щели с возможностью регистрации лучей как реперной, так и определяемой спектральных линий, выход которого соединен со вторым входом блока регистрации и обработки информации.
На фиг.1 приведена структурная схема устройства для спектрального анализа. На фиг.2 показан ход лучей при изменении положения дифракционной решетки. На фиг.3 изображены уровни выходных сигналов с элементов второго фотоприемника во время регистрации реперной и определяемой спектральных линий при условии изменения положения дифракционной решетки.
Устройство для спектрального анализа содержит источник излучения 1, входную щель 2, дифракционную решетку 3, в фокальной плоскости которой установлен многоэлементный фотоприемник 4, выходом подключенный к первому входу блока регистрации и обработки информации 5, второй многоэлементный фотоприемник 6, установленный в плоскости зеркально отраженного изображения входной щели, с возможностью регистрации лучей как реперной, так и определяемой спектральных линий, выходом подключенный ко второму входу блока регистрации и обработки информации 5.
Устройство работает следующим образом. От источника излучения 1, через входную щель 2 падающий луч L1 освещает дифракционную решетку 3, разлагающую излучение в спектр, расположенный в фокальной плоскости дифракционной решетки 3 многоэлементный фотоприемник 4 поочередно регистрирует разложенные в спектр лучи реперной L2 и определяемой L3 спектральных линий. Электрический сигнал с выхода фотоприемника 4 поступает в блок регистрации и обработки информации (например, ЭВМ с аналоговым входом) 5, где преобразуется в цифровую форму, запоминается для расчета положений максимумов реперной и определяемой спектральных линий. Одновременно с регистрацией реперной спектральной линии излучение зеркально отраженного изображения входной щели (луч L4) регистрируется вторым фотоприемником 6, с выхода которого электрический сигнал поступает на второй вход блока регистрации и обработки информации 5, где также преобразуется в цифровую форму, запоминается и определяется положение максимума зеркально отраженного изображения входной щели XmR , соответствующее положению дифракционной решетки во время регистрации реперной спектральной линии. Одновременно с регистрацией определяемой спектральной линии излучение зеркально отраженного изображения входной щели также регистрируется вторым фотоприемником 6, запоминается и определяется положение максимума зеркально отраженного изображения входной щели XmO, соответствующее положению дифракционной решетки во время регистрации определяемой спектральной линии. Если дифракционная решетка 3 оставалась неподвижной в период времени регистрации реперной и определяемой спектральных линий, то положения максимумов XmR и XmO совпадут.
Если же в процессе работы устройства вследствие механических вибраций или изменения условий окружающей среды (температуры, давления, влажности) за время от регистрации реперной до регистрации определяемой спектральных линий дифракционная решетка 3 изменит свое положение на угол 1- и займет положение 3', нормаль n - положение n', зеркально отраженный луч L4 также изменит направление на угол 1- (луч L'4), а луч разложенного излучения с длиной волны определяемой спектральной линии L3 изменит свое положение на угол - ' (луч L'3) в соответствии с основным уравнением дифракционной решетки (см. И.В.Пейсахсон, «Оптика спектральных приборов», Л. Машиностроение, стр.53):
где - порядок спектра;
- длина волны светового излучения;
N - число штрихов дифракционной решетки, приходящихся на миллиметр;
- угол падения светового излучения;
- угол разложения светового излучения длиной волны .
Сплошной линией на фиг.3 показан сигнал на выходе второго фотоприемника 6 от изображения входной щели во время регистрации реперной спектральной линии с положением максимума XmR при аппроксимации выходных сигналов с элементов фотоприемника треугольной функцией (максимальное значение сигнала на элементе М). Пунктирной линией показан сигнал на выходе фотоприемника 6 от изображения входной щели во время регистрации определяемой спектральной линии (максимальное значение сигнала на элементе Н, положение максимума XmO), при изменении положения дифракционной решетки в позицию 3'. По линейному смещению X зеркально отраженного луча L4 рассчитывают угол падения 1. Используя основное уравнение дифракционной решетки (2) находят угол разложения 1, по которому рассчитывают линейное смещение y луча L3 определяемой спектральной линии. Окончательно внося поправку в (1), определяют длину волны определяемой спектральной линии х как:
где x - длина волны определяемой спектральной линии;
1 - длина волны реперной спектральной линии;
1, 2 - расстояния между первым элементом фотоприемника и координатами максимумов интенсивностей определяемой и реперной спектральных линий соответственно;
Р - среднее значение обратной линейной дисперсии;
y - линейное смещение определяемой спектральной линии.
Введение дополнительного фотоприемника, установленного в плоскости зеркально отраженного изображения входной щели с возможностью регистрации лучей как реперной, так и определяемой спектральных линий, позволяет уменьшить погрешность за счет исключения ошибок, возникающих при изменении положения дифракционной решетки под воздействием вибраций и условий окружающей среды, а также повысить оперативность определения длин волн, так как регистрацию реперной спектральной линии достаточно выполнить однократно при проведении спектрального анализа.
Класс G01J3/18 с помощью дифракционных элементов, например решеток
Класс G01J3/42 абсорбционная спектрометрия; двулучевая спектрометрия; мерцающая спектрометрия; отражательная спектрометрия