Химическое нанесение покрытия путем разложения газообразных соединений, причем продукты реакции материала поверхности не остаются в покрытии, т.е. способы химического осаждения паров (ХОП): ...карбиды – C23C 16/32

Изобретение относится к сфере производства гетероэпитаксиальных структур, которые могут быть использованы в технологии изготовления элементов полупроводниковой электроники, способных работать в условиях повышенных уровней радиации и высоких температур. Гетероэпитаксиальную полупроводниковую пленку на монокристаллической подложке кремния выращивают методом химического осаждения из газовой фазы. Проводят синтез гетероструктуры SiC/Si на монокристаллической подложке кремния в горизонтальном реакторе с горячими стенками путем формирования переходного слоя между подложкой и пленкой карбида кремния со скоростью не более 100 нм/ч при нагреве упомянутой подложки до температуры от 700 до 1050°C с использованием газовой смеси, содержащей 95-99% водорода и в качестве источников кремния и углерода SiH₄, C₂H₆, С₃ Н₈, (CH₃)₃SiCl, (CH₃ )₂SiCl₂, при этом C/Si 2, и формирования монокристаллической пленки карбида кремния с помощью подачи в реактор парогазовой смеси водорода и CH ₃SiCl₃ при поддержании в реакторе абсолютного давления в диапазоне от 50 до 100 мм рт.ст. В качестве подложки кремния используют пластину, имеющую угол наклона относительно кристаллографического направления (111) в направлении (110) от 1 до 30 угловых градусов и в направлении (101) от 1 до 30 угловых градусов. Обеспечивается улучшение совместимости двух материалов слоя карбида кремния и подложки кремния с различным периодом кристаллических решеток, при этом понижаются механические напряжения в гетероструктуре и получаются более низкие плотности дефектов в слое карбида кремния. 6 н.п. ф-лы, 4 ил., 3 пр.

Изобретение относится к устройствам для получения пиролизом монофиламентных карбидокремниевых волокон. Устройство для получения карбидокремниевых волокон состоит из одной или более камер. Каждая камера выполнена в виде стеклянной трубки с двумя штуцерами для подачи газовой смеси алкилхлорсиланов с водородом, с двумя ртутными штуцерами и двумя сливными штуцерами с возможностью удаления из одной или более камер жидких продуктов, образующихся при получении карбидокремниевых волокон. Внутри каждой камеры расположены усеченные конусообразные стеклянные элементы с отверстиями в вершинах, сужающиеся по направлению движения керна для осаждения карбида кремния и впаянные между штуцерами подвода газа с образованием резервуара для ртути. Керн выполнен в виде вольфрамовой проволоки или углеродного волокна, а в сужающейся части усеченных конусообразных стеклянных элементов расположены вставки из абразивостойкого материала с отверстиями. Повышается надежность и производительность предложенного устройства, снижается количество используемой ртути, облегчается обслуживание этого устройства. 1 ил.

Изобретение относится к способу нанесения покрытия из оксида алюминия на деталь, имеющую поверхность из карбида кремния (SiC) и используемую в высокотемпературных областях техники. На SiC-ю поверхность детали, образованную подложкой (10), покрытой слоем (12) карбида кремния (SiC), нанесенным химическим осаждением из паровой фазы, наносят вакуумным плазменным напылением адгезионный подслой кремния (20). На подслой (20) атмосферным термическим напылением наносят покрытие (30) из оксида алюминия. Размещают тензометрический датчик (40) со свободной нитью на покрытии (30), причем этот датчик удерживается на имеющей отверстия опоре. Через упомянутые отверстия на тензометрический датчик (40) и на покрытие (30) атмосферным термическим напылением наносят второе покрытие (50) из оксида алюминия с последующим удалением опоры. Наносят атмосферным термическим напылением на первое покрытие (30), второе покрытие (50) и тензометрический датчик (40) третье покрытие (60) из оксида алюминия с образованием устройства для измерения деформации в виде блока из слоев покрытия (30, 50, 60) оксида алюминия с встроенным в него тензометрическим датчиком. Улучшается стойкость границы раздела между поверхностью детали и покрытием, а также минимизируются механические напряжения на границе раздела при тепловых нагрузках. 2 н. и 3 з.п. ф-лы, 3 ил.

Изобретение относится к нанесению износостойких покрытий и может найти применение в авиастроении и машиностроении. Проводят диффузионную электрохимическую обработку титанового сплава в электролите следующего химического состава, г/л: ортофосфорная кислота - 1100-1200, сегнетова соль или молочная кислота - 20-50, вода - до 1 л. Осаждают карбид хрома из паровой фазы бисаренхроморганического соединения. Диффузионную электрохимическую обработку проводят в течение 1-2 ч при плотности тока 5-10 А/дм² и температуре 50-60°С. Перед осаждением карбида хрома из паровой фазы бисаренхроморганического соединения в соединение вводят 2-5 мас.% дибензилового эфира. Процесс осаждения карбида хрома из паровой фазы бисаренхроморганического соединения проводят в вакууме или токе инертного газа при давлении 100 Па. Увеличивается ресурс и надежность деталей из титановых сплавов, работающих в условиях воздействия агрессивных сред, износа и высоких температур. 3 з.п. ф-лы, 1 табл., 4 пр.

Изобретение относится к коррозионно-стойкой тонкопленочной многослойной структуре и коррозионно-стойкому компоненту, обладающим низкой скоростью изнашивания и низким коэффициентом трения, и способу осаждения покрытия упомянутых пленок. Коррозионно-стойкая структура включает от 1 до 1000 групп, причем одна группа включает от 2 до 100 слоев (А, В) на основе углерода, кремния и водорода и, необязательно, функциональный поверхностный слой (FSL). Компонент включает такую тонкопленочную многослойную структуру. Способ включает создание в камере первичного вакуума и затем вторичного вакуума. Выполняют травление основы в активной зоне. Формируют связующий слой путем введения в активную зону камеры предварительно обработанного газа и, продолжая нагревать основу и поддерживать регулируемую температуру, формируют многослойную структуру путем введения в активную зону химически активного газа. Химически активный газ содержит единственное соединение с тетраэдрической кремниевой структурой или кремнийсодержащую смесь. В результате получают покрытие, обладающее высокими трибологическими и адгезионными свойствами, высокой механической прочностью покрытия и высокой термостойкостью. 3 н. и 17 з.п. ф-лы, 2 ил., 4 табл.

Изобретение относится к композиции металлических сплавов, а именно к износо-, эрозионно- и химически стойкому материалу на основе вольфрама, легированному углеродом, причем углерод в пересчете на полный вес материала составляет от 0.01 вес.% до 0.97 вес.%. Материал содержит матрицу вольфрама с диспергированными наночастицами карбида вольфрама, имеющими размер не более 50 нм, преимущественно не более 10 нм. Материал получают химическим осаждением из газовой фазы на подложку. Подложку размещают в реакторе химического осаждения из газовой фазы. Нагрев подложки проводят в смеси газов, содержащей гексафторид вольфрама, водород, газ, содержащий углерод, и необязательно инертный газ, причем газ, содержащий углерод, заранее термически активируют за счет нагревания до температуры 500-850°С. Затем осуществляют выдержку подложки до образования на ней слоя, состоящего из вольфрама, легированного углеродом и фтором. Получается материал, обладающий высокой твердостью и ударной вязкостью. 11 н. и 26 з.п. ф-лы, 10 ил., 1 табл.

Изобретение относится к области порошковой металлургии, в частности к получению композиционных материалов. Способ направлен на получение порошкообразных материалов с покрытием их монокарбидом вольфрама. Указанные материалы могут быть использованы для получения режущего абразивного инструмента, например для получения композиций алмаз - карбид вольфрама, расширяющих применение алмазного инструмента. Указанное покрытие предлагается наносить в два этапа: вначале формировать покрытие из кубического карбида вольфрама с минимальным содержанием углерода, а затем полученное покрытие насыщать углеродом из газовой среды до образования монокарбидного слоя. Для снижения доли углерода в покрытии из кубического карбида вольфрама предлагается проводить перед карбидизацией промежуточную термообработку в атмосфере воздуха, обеспечивается расширение спектра получаемых композиционных материалов за счет снижения температуры карбидизации. 1 з.п. ф-лы, 1 табл.

Изобретение относится к получению композиционных материалов, обладающих высокой термической и противоокислительной стойкостью. Может использоваться в теплонагруженных узлах авиационной и ракетно-космической техники и др. Предложен способ получения композиционного материала. Из газовой фазы проводят осаждение кремнийорганических продуктов на подложку. Процесс осуществляют в герметичной камере с принудительной циркуляцией. В качестве исходного реагента используют метилсилан. Температура подложки составляет 200-550°С. Техническим результатом является получение равномерного по толщине и структуре покрытия. 3 з.п. ф-лы, 1 ил.