Обработка поверхности стекла, кроме волокон или нитей, механическими средствами – C03C 19/00

Способ изготовления высокоточных цилиндрических микролинз с различным профилем сечения из стекла или пластических масс относится к оптической, электронной промышленностям и к лазерной технике, в частности к минилинзам, цилиндрическим минилинзам, в том числе с асферической поверхностью. Изобретение может быть использовано при конструировании систем для построения и передачи изображения и световой энергии и для обработки информации. Техническая задача - упрощение изготовления высокоточных микролинз с различным профилем сечения при уменьшении затрат материала и снижении трудоемкости процесса обработки при обеспечении высокой точности. Способ изготовления микролинз включает формирование макрозаготовки-преформы из исходного материала, ее механическую обработку путем шлифования и полирования до придания ей заданной формы сечения и формы образующей поверхности. Затем преформу нагревают до размягчения материала и перетягивают в стержень конечных размеров, из которых нарезают микролинзы заданных форм и размеров. 3 з.п. ф-лы, 8 ил., 1 табл.

Изобретение относится к материалу подложки для рентгенооптических компонентов для рентгеновских лучей с длиной волны _R, содержащему стеклокерамику со стеклянной фазой из аморфного материала и кристаллической фазой, содержащей микрокристаллиты. Аморфный материал имеет положительное тепловое расширение, а микрокристаллиты - отрицательное тепловое расширение. Стехиометрическое соотношение кристаллической фазы к стеклянной фазе установлено так, что величина теплового расширения стеклокерамики в температурном диапазоне от 20 до 100°С составляет менее 5·10^-6 К^-1, в частности менее 1×10^-6 К^-1. Средняя величина микрокристаллитов составляет менее 4 _R, в частности менее 2 _R, предпочтительно менее _R, особенно предпочтительно менее 2/3 _R, в частности менее _R/2. Изобретение характеризуется тем, что материал подложки после обработки поверхности имеет шероховатость в диапазоне высоких пространственных частот (HSFR) менее _R/100 (среднеквадратическое значение), предпочтительно менее _R /300 (среднеквадратическое значение). Технический результат изобретения - обеспечение чистоты поверхности рентгенооптических компонентов после необходимых стадий обработки поверхности. 5 н. и 14 з.п. ф-лы, 1 табл.

Использование: обработка плит материала, таких как стеклянные листы. Позволяет прикладывать высокие поддерживающие усилия и осуществлять относительное перемещение между опорным устройством и обрабатываемой плитой материала. Устройство содержит опорное устройство (ОУ) для плит материала (ПМ) и инструмент для обработки ПМ. ОУ содержит попарные элементы с обращенными друг к другу опорными поверхностями, между которыми размещена ПМ. В опорных поверхностях выполнены отверстия для вытекающей под давлением жидкости. ПМ поддерживается не механически, а с помощью жидкостной пленки, образуемой под давлением в зазоре между ПМ и опорными поверхностями опорных элементов. 12 з.п. ф-лы, 4 ил.