Химическое нанесение покрытия путем разложения газообразных соединений, причем продукты реакции материала поверхности не остаются в покрытии, т.е. способы химического осаждения паров (ХОП): ...осаждение только одного другого металла – C23C 16/14

Изобретение относится к получению изделий сложной конфигурации, в частности крупногабаритных тиглей из вольфрама. В реакционной камере проводят восстановление водородом вольфрама из гексафторида вольфрама. Вольфрам осаждают на наружной поверхности медной подложки, нагретой до температуры 500-650°С, при атмосферном давлении в реакционной камере. На первом этапе осуществляют подачу газовой смеси гексафторида вольфрама и водорода в реакционную камеру снизу вверх перпендикулярно поверхности формируемого дна тигля при первоначальном содержании гексафторида вольфрама в газовой смеси 45-50 мол.%, которое постепенно снижают до 30 мол.%. На втором этапе смесь гексафторида вольфрама и водорода подают в камеру сверху вниз параллельно формируемым стенкам тигля при содержании гексафторида вольфрама в смеси 28-30 мол.%. Первый этап проводят до достижения веса осадка вольфрама P₁, определенного для заданных геометрических размеров тигля в соответствии с выражением: Р₁ /2×(s₁-s₂)×(D² ₁/2+hD₂)× _w, где P₁ - вес осадка вольфрама, получаемого на первом этапе процесса при подаче газовой смеси снизу вверх; s₁ - заданная толщина слоя вольфрама на дне тигля; s₂ - заданная толщина слоя вольфрама на верхней кромке боковой стенки тигля; D₁ - средний диаметр осадка на дне тигля, формируемого на первом этапе процесса, равный диаметру подложки на дне плюс удвоенная разность (s₁-s₂); D₂ - средний диаметр подложки на боковой стенке, равный половине суммы диаметров подожки на дне и на верхней кромке тигля; h - заданная высота тигля; _w - плотность вольфрама, составляющая 19,3 г/см ³. Медную подложку удаляют растворением в азотной кислоте. Затем проводят механическую обработку заготовки тигля. Получены крупногабаритные тигли из вольфрама, обладающие высокой плотностью и прочностью. 6 з.п. ф-лы, 1 ил.