Химическое нанесение покрытия путем разложения газообразных соединений, причем продукты реакции материала поверхности не остаются в покрытии, т.е. способы химического осаждения паров (ХОП): ..характеризуемые способом, используемым для генерирования реакционноспособных газовых струй, например путем испарения или сублимации промежуточных материалов – C23C 16/448
Патенты в данной категории
ТЕРМОИСТОЧНИК
Изобретение относится к термоисточнику, используемому в устройствах для осаждения из паровой фазы для подачи исходного вещества в реактор. Термоисточник (1) содержит контейнер (2) для исходного вещества, имеющий полость (4). Контейнер (2) для исходного вещества выполнен съемным с возможностью присоединения к крышке (6), имеющей первое нагревательное устройство (8) для нагревания крышки (6) таким образом, что тепло за счет теплопроводности передается контейнеру (2) и далее исходному веществу в полости (4). Крышка (6) дополнительно содержит обогреваемый подводящий канал (14), находящийся в жидкостной связи с полостью (4), для подачи исходного вещества из полости (4) в реактор таким образом, что между контейнером (2) для исходного вещества и реактором достигается возрастающий градиент температуры. Получен термоисточник, обеспечивающий получение градиента температуры, возрастающего по направлению к реактору, что предотвращает конденсацию исходного вещества. 18 з.п. ф-лы, 2 ил. |
2439196 патент выдан: опубликован: 10.01.2012 |
|
ИЗДЕЛИЯ С ПОКРЫТИЕМ
Изобретение относится к способу покрытия изделий из вентильных металлов, которые применяются в качестве комплектующих для турбомолекулярных насосов. Изделие, изготовленное из вентильных металлов, выбранных из алюминия, магния, титана, ниобия и/или циркония и их сплавов, покрывают оксидным керамическим слоем, образованным из металла плазмохимическим способом. Керамический слой имеет барьерный межфазный слой, прилегающий к металлу, чью поверхность покрывают полимером, образованным из мономеров в виде димеров или галогенированных димеров общей формулы I |
2413746 патент выдан: опубликован: 10.03.2011 |
|
БАРБОТЕР ДЛЯ ПОСТОЯННОЙ ДОСТАВКИ ПАРА ТВЕРДОГО ХИМИКАТА
Изобретение относится к барботеру для обеспечения испаренного соединения в процесс химического осаждения из паровой фазы и может быть использовано при производстве полупроводников. Сборная конструкция камеры барботера содержит одну камеру или более камер, соединенных в ряды. Все камеры находятся по существу в вертикальной ориентации или под углом 45° от горизонтали. Твердый или жидкий источник соединения содержится в камере или камерах. Отношение между длиной камеры или объединенной длиной камер, соединенных в ряд, по отношению к направлению потока газа-носителя через камеру или камеры и средним диаметром, эквивалентным поперечному разрезу камеры или камер по отношению к направлению потока газа-носителя через камеру или камеры, составляет не менее чем приблизительно 6:1. В результате обеспечивается устойчивая и постоянная скорость доставки испаренного соединения при осаждении из паровой фазы. 18 з.п. ф-лы, 11 ил. |
2384652 патент выдан: опубликован: 20.03.2010 |
|
СПОСОБ И УСТАНОВКА ДЛЯ ИСПАРЕНИЯ РЕАГЕНТОВ, ИСПОЛЬЗУЕМЫХ ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ ХИМИЧЕСКИМ ОСАЖДЕНИЕМ ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ
Изобретения относятся к способу и устройству для испарения жидких реагентов, используемых в качестве предшественников при нанесении покрытий химическим осаждением из паровой фазы. Жидкие предшественники покрытия непрерывно инжектируют в испарительную камеру, в которой они превращаются в пар. В испарительной камере расположено устройство для распределения жидких предшественников покрытия, которое приводится во вращение не имеющей уплотнений приводной магнитной муфтой. В одном из вариантов в расположенную рядом с испарительной камерой зону инжектируют образующий перед испарительной камерой барьер газ, скорость которого превышает скорость выходящих из испарительной камеры паров предшественников покрытия и исключает возможность попадания паров в приводную магнитную муфту. В другом варианте первую часть приводной магнитной муфты соединяют с расположенным в испарительной камере устройством, предназначенным для распределения в камере жидкого предшественника покрытия. Вторая часть приводной магнитной муфты, расположенная рядом с ее первой частью вне испарительной камеры, приводится во вращение первой частью муфты, с которой она связана магнитным полем. Технический результат заключается в получении чистого, не содержащего загрязняющих веществ потока пара, который предназначен для химического осаждения покрытий. 2 н. и 54 з.п. ф-лы, 5 ил. |
2303078 патент выдан: опубликован: 20.07.2007 |
|
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КОМПОЗИЦИОННЫХ МАТЕРИАЛОВ
Изобретение предназначено для химической и фармацевтической промышленности и может быть использовано для получения мелко- и ультрадисперсных материалов. Получают поток газ-твердые частицы первого вещества, например фталевого ангидрида, в зоне его десублимации путем взаимодействия его паров с холодным инертным газом до состояния пересыщения. Выдерживают в этой зоне до достижения требуемых размеров частиц фталевого ангидрида, например (5-12) мкм. Поток газ-твердые частицы направляют в зону десублимации второго вещества. В эту же зону подают парогазовую смесь, содержащую инертный газ и пары второго вещества, например бензойной кислоты. Указанную смесь подают в виде струй, расположенных в плоскости, перпендикулярной потоку газ-твердые частицы фталевого ангидрида. Количество струй - не менее двух, точки их ввода равноудалены друг от друга. Размер полученных частиц (7-15) мкм, покрытие равномерно распределено по поверхности твердых частиц. 1 табл. |
2241516 патент выдан: опубликован: 10.12.2004 |
|