Монокристаллы или гомогенный поликристаллический материал с определенной структурой, отличающиеся материалом или формой: ..фосфаты – C30B 29/14

МПКРаздел CC30C30BC30B 29/00C30B 29/14
Раздел C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
C30 Выращивание кристаллов
C30B Выращивание монокристаллов; направленная кристаллизация эвтектик или направленное расслаивание эвтектоидов; очистка материалов зонной плавкой; получение гомогенного поликристаллического материала с определенной структурой; монокристаллы или гомогенный поликристаллический материал с определенной структурой; последующая обработка монокристаллов или гомогенного поликристаллического материала с определенной структурой; устройства для вышеуказанных целей
C30B 29/00 Монокристаллы или гомогенный поликристаллический материал с определенной структурой, отличающиеся материалом или формой
C30B 29/14 ..фосфаты

Патенты в данной категории

СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ НАНОКРИСТАЛЛИЧЕСКОГО КРЕМНИЙЗАМЕЩЕННОГО ГИДРОКСИАПАТИТА

Изобретение относится к технологии получения неорганических материалов, которые могут быть использованы для производства медицинских материалов, стимулирующих восстановление дефектов костной ткани, в том числе в стоматологии. Способ получения монофазового нанокристаллического кремнийзамещенного гидроксиапатита включает синтез кремнийсодержащего гидроксиапатита методом осаждения из водного раствора реагентов, содержащих ортофосфорную кислоту, гидроксид кальция и тетраэтилортосиликат при рН не менее 9 и молярном отношении Са/Р в диапазоне от 2,0 до 2,5, отстаивание для завершения процесса фазообразования, выделение осадка, высушивание и термообработку осадка, при этом синтез ведут путем приливания 10-20%-ного раствора ортофосфорной кислоты со скоростью 0,2-0,8 мл/мин на литр водного раствора композиции гидроксид кальция /тетраэтилортосиликат, приготовленной с использованием 0,08-0,16%-ного водного раствора гидроксида кальция и расчетного количества тетраэтилортосиликата для получения готового продукта со степенью замещения кремнием х, равным 1-2, и молярным отношением Са/(Р+Si), близким к 1,67, а термообработку ведут при температуре не ниже 300°С, но не более 400°С. Изобретение позволяет получать стехиометрический монофазный продукт фаз со средним размером кристаллов 9,95-12,53 нм, удельной поверхностью 108,97-132,58 м2/г и повышенной биоактивностью, при нагревании которого не образуются побочные фазы. 4 ил., 2 табл., 8 пр.

2500840
патент выдан:
опубликован: 10.12.2013
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ НАНОКРИСТАЛЛИЧЕСКОГО КРЕМНИЙ-ЗАМЕЩЕННОГО ГИДРОКСИЛАПАТИТА

Изобретение относится к области химии, а именно к механохимическим способам получения нанокристаллического кремний-замещенного гидроксилапатита, являющегося биологически активным материалом, который может быть использован для покрытия металлических и керамических имплантатов, в качестве наполнителя для восстановления дефектов костной ткани при изготовлении медицинской керамики и композитов для стоматологии и челюстно-лицевой хирургии, а также лечебных паст. Способ включает смешение фосфатов, соединений кальция и кремния, размол и механохимический синтез, при этом в качестве исходных компонентов используют двузамещенный безводный фосфат кальция, отожженный оксид кальция и аморфный гидратированный оксид кремния с содержанием воды менее 0,5 моль, с удельной поверхностью 200-450 м2/г в количестве не более 1,2 моль кремния на элементарную ячейку гидроксилапатита, механохимический твердофазный синтез проводят в высокоэнергетических планетарных мельницах при вращении барабанов со скоростью 1200-1800 об/мин в течение 12-30 мин. Отжиг оксида кальция предпочтительно проводят при температуре 900°C в течение 5 часов. Изобретение позволяет за 30 минут твердофазной мехактивации получить порошкообразный нанокристаллический однофазный продукт. 1 з.п. ф-лы, 1 табл., 6 пр., 7 ил.

2489534
патент выдан:
опубликован: 10.08.2013
СПОСОБЫ ПОЛУЧЕНИЯ СЛОЖНОГО ГИДРОСУЛЬФАТФОСФАТА ЦЕЗИЯ СОСТАВА Cs5(HSO4)2(H2PO4)3

Изобретение относится к неорганической химии, в частности к синтезу гидросульфатфосфата цезия состава Cs5(HSO 4)2(H2PO4)3 , который может быть использован в качестве твердого протонпроводящего материала. Монокристаллы Cs5(HSO4) 2(H2PO4)3 получают путем приготовления водного раствора с мольным соотношением CsHSO 4:CsH2PO4, равным 2:3, насыщенного при температуре 50-75°С с последующей кристаллизацией методом управляемого снижения растворимости. Cs5(HSO4 )2(H2PO4)3 в виде поликристаллического порошка получают приготовлением водного раствора с мольным соотношением CsHSO4:CsH2 PO4, равным 2:3, насыщенного при температуре 50-75°С, высаливанием Cs5(HSO4)2(H 2PO4)3 этиловым спиртом с последующей просушкой при температуре до 80°С или методом твердофазного синтеза из шихты с мольным соотношением CsHSO4:CsH 2PO4, равным 2:3, при температуре 60-90°С. Полученное соединение CS5(HSO4)2 (H2PO4)3 обладает меньшим значением температуры фазового перехода (115,0°С) и большим значением протонной проводимости (1 Ом-1см-1 при температуре 120,0°С). Соединение Cs5(HSO 4)2(H2PO4)3 химически устойчиво до температуры 140,0°С. 3 н.п. ф-лы, 1 ил., 3 пр.

2481427
патент выдан:
опубликован: 10.05.2013
СПОСОБ ВЫРАЩИВАНИЯ МОНОКРИСТАЛЛОВ ГРУППЫ KDP НА ЗАТРАВКУ, РАЗМЕЩАЕМУЮ В ФОРМООБРАЗОВАТЕЛЕ

Изобретение относится к способам получения ориентированных монокристаллов, применяемых в лазерной физике, акустоэлектронике, оптоэлектронике для реализации пьезоэлектрических и нелинейно-оптических эффектов. Способ осуществляют путем выращивания монокристаллов группы KDP для нелинейных оптических элементов на прямоугольную затравку соответствующего монокристалла из группы KDP, при этом используют затравку Z-среза 2, размер которой в направлении [100] определяют одним из меньших размеров (b) апертуры прямоугольного нелинейного оптического элемента, а ее длина (L) в направлении [010] равна сумме проекций высоты (с) и второго (а) большего значения апертуры нелинейного оптического элемента на плоскость (001) и описывается следующей формулой: L=cSin c+aCos c, где с - угол синхронизма, характерный для каждого из кристаллов группы KDP, размещают ее внутри разъемного формообразователя в виде замкнутой рамки, собранного из отдельных планок, каждую из которых устанавливают в следующей последовательности: на планке основания 1 формообразователя размещают затравку 2, вертикально указанной планке устанавливают следующую планку 3, затем относительно нее под углом синхронизма c устанавливают другую планку 5, последующую планку 6 относительно предыдущей 5 размещают под углом 90°, замыкающую планку 7 устанавливают перпендикулярно планке основания 1 формообразователя, что обеспечивает заданную форму и размеры выращенного монокристалла в виде заготовки. Изобретение позволяет перейти от традиционного технологического процесса, когда при свободном размещении затравки в реакционном объеме кристаллизатора получают кристалл с естественным для данного вещества габитусом, к технологическому процессу, который позволяет получить непосредственно в процессе выращивания монокристалл-заготовку заданных габаритов и формы для изготовления оптических элементов. 1 табл., 5 ил.

2398921
патент выдан:
опубликован: 10.09.2010
УСТАНОВКА ДЛЯ ВЫРАЩИВАНИЯ КРИСТАЛЛОВ ИЗ РАСТВОРОВ

Изобретение относится к технике выращивания кристаллов из растворов солей, в частности для выращивания кристаллов группы KDP (КН2РO4), которые широко применяются для изготовления элементов нелинейной оптики. Установка содержит кристаллизационный стакан 1, крышку 2 кристаллизационного стакана, платформу 4 с затравочным кристаллом 5 и механизм герметизации затравочного кристалла. В крышке 2 выполнено эксцентрично расположенное герметично закрываемое направляющей втулкой 11 отверстие 10 для ввода механизма герметизации затравочного кристалла 5, который выполнен в виде поджимаемого к поверхности платформы 4 колпачка 6, шарнирно установленного на L-образной штанге 7, имеющей возможность перемещения соосно направляющей втулке 11. Внутри штанги 7 выполнен канал 9 для подключения полости колпачка 6 к источнику давления. Для подключения полости колпачка 6 к каналу 9 внутри L-образной штанги 7 применен гибкий шланг 12. Поджатие колпачка 6 к платформе 4 обеспечивают воздействием груза или воздействием пружины на свободный конец штанги 7. В качестве источника давления, подаваемого внутрь колпачка, используют атмосферный воздух. 4 з.п. ф-лы, 2 ил.

2381303
патент выдан:
опубликован: 10.02.2010
СПОСОБ ВЫРАЩИВАНИЯ КРИСТАЛЛОВ ИЗ РАСТВОРА И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ

Изобретение относится к области техники, связанной со скоростным выращиванием кристаллов типа КН2РО4 (KDP) при постоянной фильтрации раствора. Способ выращивания кристаллов из раствора включает кристаллизацию на затравку из пересыщенного раствора, вывод части раствора, его перегрев выше температуры насыщения, фильтрацию и стабилизацию температуры раствора в кристаллизаторе до температуры кристаллизации посредством системы фильтрации. Стабилизацию температуры раствора осуществляют путем периодической подачи в кристаллизатор из системы фильтрации очищенного раствора перегретого выше температуры насыщения, с одновременным выводом из кристаллизатора такого же количества раствора, температура которого ниже температуры кристаллизации, причем подачу перегретого раствора осуществляют до момента достижения температуры раствора в кристаллизаторе, равной температуре кристаллизации и определяемого датчиком температуры. Способ позволяет подавать в кристаллизатор раствор, перегретый выше температуры насыщения. Стабилизация температуры при этом, с точностью не хуже ±0,05°С, происходит за счет периодической подачи перегретого раствора. Способ позволяет вместо жидкостного термостата применять воздушное охлаждение или термостаты из пенопласта или поролона. Устройство для осуществления данного способа содержит перепускной канал, включенный параллельно кристаллизатору между входным и выходным патрубками. Через канал циркулирует профильтрованный раствор в периоды, когда достигается стабилизация температуры. Кроме того, выходной конец перепускного канала введен внутрь выпускного патрубка, что исключает образование паразитов. 2 н.п. ф-лы, 3 ил.

2285068
патент выдан:
опубликован: 10.10.2006
МОНОКРИСТАЛЛЫ, СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ МОНОКРИСТАЛЛОВ ПУТЕМ ВЫРАЩИВАНИЯ В РАСТВОРЕ И ВАРИАНТЫ ПРИМЕНЕНИЯ

Изобретение касается тетрагонального монокристалла с составом Z(H,D)2MO4, где Z является элементом или группой элементов, или смесью элементов и/или групп элементов, выбранных из группы К, N(Н,D)4, Rb, Се, где М является элементом, выбранным из группы Р, As, и где (Н, D) является водородом и/или дейтерием, которые могут быть использованы для изготовления оптических компонентов, в частности, для использования в лазерах. Сущность изобретения: монокристалл содержит практически параллелепипедную зону большого размера, у которой размер АС1, АС2, АС3 каждого из ребер граней превышает или равен 100 мм, в частности, превышает или равен 200 или 500 мм, его получают путем выращивания кристалла в растворе из практически параллелепипедного монокристаллического зародыша, ребра которого имеют размеры AG1, AG2, AG3. Размер AG1, по меньшей мере, одного ребра зародыша превышает или равен одной десятой, предпочтительно одной четвертой, размера одного ребра граней монокристалла и, по меньшей мере, другой размер АG3 зародыша меньше или равен одной пятой, предпочтительно одной десятой, наибольшего размера ребер граней зародыша. Изобретение позволяет получать заготовки (були) больших размеров, что обеспечивает увеличение выхода пластин при вырезании. 7 н. и 19 з.п. ф-лы, 5 ил.

2280719
патент выдан:
опубликован: 27.07.2006
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВЫРАЩИВАНИЯ ОРИЕНТИРОВАННЫХ И ПРОФИЛИРОВАННЫХ КРИСТАЛЛОВ ГРУППЫ КДР ИЗ ТОЧЕЧНОЙ ЗАТРАВКИ И ЗАТРАВОЧНЫЙ УЗЕЛ УСТРОЙСТВА

Изобретение относится к технологии выращивания кристаллов из водных растворов и может быть использовано для получения кристаллических заготовок оптических элементов для нелинейной оптики. В кристаллизаторе с раствором соли жестко установлены две параллельно скрепленные между собой платформы 4 и 5 в виде дисков. Расстояние между платформами 4 и 5 определяется требуемой толщиной выращиваемого кристалла 6 и является рабочей зоной устройства, в которую нагнетается раствор соли 2 с помощью погружного центробежного насоса, также расположенного в кристаллизаторе и установленного с возможностью вращения вокруг своей центральной оси, которая совмещена с вертикальной осью, проходящей через центры платформ 4 и 5. На одной из платформ, например 4, расположен затравочный узел, представляющий собой паз 11, выполненный в платформе 4, дно которого, являющееся базовой поверхностью 12 для первичной затравки 9, выполнено параллельным рабочей поверхности платформы 4. В платформе 4 дополнительно выполнено сквозное отверстие 18 диаметром не более 1 мм для вторичной (рабочей) затравки сверхмалых размеров, соединяющее упомянутый паз 11 и рабочую зону устройства. Технический результат изобретения заключается в обеспечении выращивания ориентированного крупного кристалла на сверхмалой точечной затравке. 2 с. и 1 з.п.ф-лы, 3 ил.
2197569
патент выдан:
опубликован: 27.01.2003
СПОСОБ ВЫРАЩИВАНИЯ МОНОКРИСТАЛЛОВ

Изобретение относится к области выращивания кристаллов точечной группы 32. Сущность изобретения: кристаллы выращивают из раствора с использованием затравочных кристаллов. Предлагается использовать затравочный кристалл, который имеет по меньшей мере два расположенных под углом друг к другу стержневидных или пластинчатых участка, которые охватывают основную область роста кристалла и в выращенном монокристалле расположены эксцентрически. Сходящиеся грани двух участков затравочного кристалла, выбранные для выращивания кристалла, образуют между собой угол, меньший 180o. Получают высокосортные с точки зрения качества структуры кристаллы больших размеров из ортофосфата металла, в частности GaPO4 или AlPO4. 10 з.п.ф-лы, 9 ил., 2 табл.
2194100
патент выдан:
опубликован: 10.12.2002
ГИДРОТЕРМАЛЬНЫЙ СПОСОБ ВЫРАЩИВАНИЯ КРУПНОРАЗМЕРНЫХ КРИСТАЛЛОВ ОРТОФОСФАТОВ АЛЮМИНИЯ ИЛИ ГАЛЛИЯ

Изобретение относится к технологии выращивания металлортофосфатов, в частности AlPO4 и GaPO4, которые могут быть использованы в пьезотехнике, а именно в резонаторах и фильтрах различного назначения. Изобретение позволяет получать крупноразмерные кристаллы ортофосфатов металлов, свободные от дефектов. Сущность изобретения: способ включает эпитаксию на кварцевую затравку базисной ориентации из насыщенного ионами соответствующих металлов фосфорнокислого раствора в присутствии добавки Li+ в количестве 0,05-10,0 вес. %, при повышении температуры и постоянном температурном перепаде, изготовление из полученного слоя затравочной пластины и перекристаллизацию на нее соответствующей получаемому кристаллу шихты из сернокислых, фосфорнокислых или их смеси растворов при постоянном температурном перепаде. 1 табл.
2186884
патент выдан:
опубликован: 10.08.2002
УСТРОЙСТВО ДЛЯ СКОРОСТНОГО ВЫРАЩИВАНИЯ ПРОФИЛИРОВАННЫХ И ОРИЕНТИРОВАННЫХ МОНОСЕКТОРИАЛЬНЫХ КРИСТАЛЛОВ ГРУППЫ КДР ИЗ РАСТВОРА

Изобретение относится к выращиванию кристаллов с заданными формой и кристаллографической ориентацией из водных растворов. Сущность изобретения: герметичный кристаллизатор, содержащий ростовую камеру и погружной центробежный насос, заполнен рабочим раствором соли полностью. Внутренние поверхности крышки кристаллизатора и платформы выполнены в виде общего усеченного конуса, а центральная часть платформы снабжена патрубком для заливки рабочего раствора в кристаллизатор и выпуска воздуха из него, при этом в рабочем режиме отверстие патрубка закрыто герметичной пробкой. Конструкция погружного центробежного насоса содержит корпус, в котором установлен статор электропровода крыльчатки, снабженный ротором, при этом величина зазоров между неподвижной частью насоса и его подвижными частями обеспечивается за счет магнитного подвеса ротора к статору. Технический результат, обеспечиваемый данным изобретением, заключается в повышении устойчивости рабочего раствора к спонтанной кристаллизации за счет устранения источников спонтанного зарождения микрокристаллов. 5 з.п.ф-лы, 1 табл., 3 ил.
2176000
патент выдан:
опубликован: 20.11.2001
КРИСТАЛЛИЗАТОР ДЛЯ ВЫРАЩИВАНИЯ КРИСТАЛЛОВ ИЗ ПЕРЕСЫЩЕННОГО РАСТВОРА

Изобретение относится к технике, связанной с выращиванием кристаллов из пересыщенных растворов типа КДР, ДКДР, ТГС и т.п. Сущность изобретения: предложен кристаллизатор, состоящий из термостата, емкости для выращивания кристалла, внутри которой размещен кристаллоносец, причем конструкция кристаллоносца, снабженная системой определенным образом выполненных каналов, позволяет выращивать бездефектные кристаллы высокого качества. 4 з.п.ф-лы, 4 ил.
2165486
патент выдан:
опубликован: 20.04.2001
СПОСОБ ВЫРАЩИВАНИЯ КРИСТАЛЛОВ КАЛЬЦИЙФОСФАТОВ

Способ выращивания кристаллов кальцийфосфатов относится к области биомедицины и может быть использован в травматологии, ортопедии, стоматологии, клеточной инженерии, фармакологии. Сущность способа заключается в выращивании кристаллов при 37°С, рН 5-7. Новизна способа состоит в том, что процесс ведут 30-40 дней в сбалансированном солевом растворе, дополнительно содержащем насыщенный раствор порошка гидроксиапатита в органической кислоте. Техническим результатом изобретения является выращивание кристаллов из трудно растворимых кальцийфосфатных соединений. 1 табл.
2156325
патент выдан:
опубликован: 20.09.2000
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВЫРАЩИВАНИЯ КРИСТАЛЛОВ ГРУППЫ КДР

Изобретение относится к технике для выращивания кристаллов из водных растворов и может быть использовано для получения кристаллических заготовок оптических элементов, например, для нелинейной оптики. Сущность изобретения: в кристаллизационный сосуд с рабочим раствором соответствующей соли введены две скрепленные между собой на расстоянии, определяемом требуемой толщиной кристалла, платформы, установленные с возможностью вращения. В центре нижней платформы, изготовленной в виде пластины, выполнено углубление для точечной затравки, дно которого параллельно рабочей поверхности верхней платформы, а его поперечный размер d много меньше линейных размеров платформ. Высота углубления выбрана равной 1 - 1,5d. Рабочая поверхность верхней платформы параллельна рабочей поверхности нижней платформы. При этом в качестве точечной затравки выбран кристалл с заранее заданной ориентацией кристаллографических осей х, у, z относительно его базовой поверхности. Разработанное устройство обеспечивает выращивание высококачественных кристаллических заготовок требуемой толщины и с требуемой ориентацией кристаллографических осей. 1 з.п. ф-лы, 2 ил.
2136789
патент выдан:
опубликован: 10.09.1999
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВЫРАЩИВАНИЯ ПРОФИЛИРОВАННЫХ КРИСТАЛЛОВ ИЗ РАСТВОРА

Изобретение относится к выращиванию кристаллов из водных растворов и может быть использовано для скоростного выращивания монокристаллов заданной формы и кристаллографической ориентации, например, кристаллов группы КДР. Сущность изобретения: ростовая камера, установленная на штанге внутри кристаллизатора с раствором соли, выполнена так, что внутренние размеры ее продольных стенок, параллельных плоскости качания погружного насоса с соплом, определяются требуемым размером апертуры будущего кристалла, а ширина поперечных стенок определяется требуемой толщиной кристалла. При этом верхние кромки продольных стенок камеры и нижние кромки продольных стенок сопла выполнены в форме дуг окружностей соответственно с радиусами R1 и R2, связанными соотношением 0,1 мм R1 - R2 3 мм. Каждая пара окружностей с радиусами R1 и R2 имеет свой центр, расположенный на оси качания насоса, а поперечный размер сопла выбран равным ширине поперечных стенок камеры. Разработанное устройство обеспечивает выращивание профилированных высококачественных монокристаллов большой апертуры и малой толщины с любой требуемой ориентацией кристаллографических осей. 1 з.п. ф-лы, 1 ил.
2133307
патент выдан:
опубликован: 20.07.1999
СПОСОБ УМЕНЬШЕНИЯ ВОДЫ В ПЬЕЗОЭЛЕКТРИЧЕСКИХ КРИСТАЛЛИЧЕСКИХ ЭЛЕМЕНТАХ GAPO4 И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ

Изобретение относится к способам уменьшения содержания воды в пьезоэлектрических кристалических элементах GaPO4. Для этого предлагают, чтобы пьезоэлектрические кристаллические элементы GaPO4 приводились в контакт с водопоглощающим раствором (P) до тех пор, пока при длине волны в области 2,9 мкм не будет достигнут коэффициент инфракрасного излучения < 1,5 см-1. В качестве Р используют смесь из раствора Фишера и метанола, а также толуол, бензол или ксилол. Устройство снабжено экстрактором, имеющим внутри молекулярное сито. 2 с. и 9 з. п. ф-лы, 5 ил.
2060306
патент выдан:
опубликован: 20.05.1996
СПОСОБ ТЕРМООБРАБОТКИ ЭЛЕКТРООПТИЧЕСКИХ КРИСТАЛЛОВ ДИДЕЙТЕРОФОСФАТА КАЛИЯ

Использование: в электронной технике при применении кристаллов ДКДР в качестве элементов пространственного модулятора света, в лазерном приборостроении. Сущность изобретения: кристаллы ДКДР нагревают поэтапно при 60 3, 80 + 3, 110 + 3, 130 + 3, и 150 + 3°С в течение 1 ч на каждом этапе со скоростью нагрева и охлаждения, равной 0,5 - 1,5 град/мин. На последнем этапе при 150 + 3°С проводят дополнительную выдержку в течение 2 - 10 ч. После каждого этапа проводят охлаждение при 20 - 25°С в течение 12 - 16 ч. Теплоустойчивость кристаллов повышается до 145 - 150°С, порог мощности лазерного разрушения кристалла увеличивается в 1,2 1,4 раза. 4 ил.
2032777
патент выдан:
опубликован: 10.04.1995
Наверх