Исследование или анализ материалов с помощью оптических средств, т.е. с использованием инфракрасных, видимых или ультрафиолетовых лучей: ....осмотр прозрачных материалов – G01N 21/958
Патенты в данной категории
СПОСОБ ВИЗУАЛЬНО-ОПТИЧЕСКОГО КОНТРОЛЯ ПОВЕРХНОСТИ
Способ визуально-оптического контроля поверхности глазом или с помощью микроскопа заключается в том, что между эталонной и контролируемой поверхностями помещают слой жидкости толщиной не более 10 мкм с показателем преломления больше, чем у контактирующих с ней оптических деталей, вводят в этот слой лазерное излучение, идущее по слою с полным внутренним отражением, и наблюдают свет, сконцентрированный и рассеянный на аномалиях и дефектах поверхности. В слой жидкости может быть введено поляризованное лазерное излучение, а наблюдают рассеянный от аномалий и дефектов свет через скрещенный по поляризации анализатор. Технический результат - возможность фиксировать наличие локальных аномалий поверхности глубиной меньше 0,05 мкм на больших площадях и без дорогостоящего оборудования. 1 з.п. ф-лы, 3 ил. |
2502954 патент выдан: опубликован: 27.12.2013 |
|
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ГОЛОГРАФИЧЕСКИХ ИНТЕРФЕРОГРАММ ФАЗОВОГО ОБЪЕКТА
Изобретение может быть использовано при измерении малых разностей хода (менее 0,1 длины волны) слабых оптических неоднородностей в прозрачных средах, например, при обтекании тел в потоках малой плотности, распыливании топлива из форсунок в разреженное пространство, изучении процессов смешения, воспламенения и горения топлив, обнаружении диффузных пограничных слоев. Способ включает последовательную запись на регистрирующей среде опорного пучка и объектного пучка, прошедшего сквозь фазовый объект. Объектный пучок перед записью разлагают с помощью дифракционного элемента на дифрагированные пучки нулевого и высших порядков дифракции и используют нулевой порядок дифракции, который пропускают сквозь фазовый объект как в прямом, так и в обратном ходе дифрагированных световых пучков на дифракционном элементе. Пучки N-х порядков дифракции, образованные в обратном ходе лучей через дифракционный элемент, возвращают одновременно в плоскость дифракционного элемента. Для регистрации объектного и опорного пучков регистрирующую среду устанавливают в одном из N сопряженных обратных пучков N-го порядка дифракции противоположного знака обратного хода лучей. Коэффициент чувствительности измерения определяют по формуле Ч=(N+1)·2, где N - (0, +1; +2; +3, +4 ) - порядок дифракции. Технический результат - повышение коэффициента чувствительности измерения. 3 ил. |
2500005 патент выдан: опубликован: 27.11.2013 |
|
УСТРОЙСТВО И СПОСОБ ДЛЯ РЕГИСТРАЦИИ ЗАГРЯЗНЕНИЙ НА ПРОЗРАЧНОЙ ПОДЛОЖКЕ
Устройство для регистрации загрязнений на, по меньшей мере, частично прозрачной подложке включает в себя источник (2) и приемник (1) электромагнитного излучения, а также держатель (4) для искривленной подложки. Держатель (4) расположен таким образом, чтобы установленная в нем искривленная подложка, по меньшей мере, на отдельных участках проходила между источником (2) и приемником (1) излучения. Держатель (4) подложки выполнен с возможностью крепления подложки, имеющей по существу форму полого цилиндра, и расположен таким образом, чтобы источник или приемник (1) излучения во время работы устройства находился внутри подложки, имеющей форму полого цилиндра. Причем приемник излучения является строчным, а источник (2) является источником электромагнитного излучения в диапазоне длин волн от 350 до 500 нм. Технический результат заключается в обеспечении возможности исследования участка поверхности искривленной подложки с малой угловой протяженностью, позволяющей пренебречь кривизной этого участка. 2 н. и 10 з.п. ф-лы, 2 ил. |
2461816 патент выдан: опубликован: 20.09.2012 |
|
СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ДЕФЕКТОВ КВАРЦЕВОЙ КРИСТАЛЛИЧЕСКОЙ ЛИНЗЫ
Способ определения дефектов кварцевой кристаллической линзы включает пропускание сходящегося монохроматического излучения через оптическую систему, содержащую перпендикулярно установленные к ее оси последовательно расположенные источник излучения, скрещенные поляризатор и анализатор, между которыми устанавливают исследуемую кварцевую кристаллическую линзу. Оптическую ось линзы совмещают с осью оптической системы. Получают интерференционную картину, по виду которой судят о дефекте кварцевой кристаллической линзы. О наличии поверхностного дефекта линзы судят по локальному искажению радиусов колец-изохром, пересеченных черным «мальтийским крестом», а о наличии внутреннего дефекта линзы, связанного с неоднородностью показателя преломления, судят по разрыву колец со смещением их относительно центра, пересеченных черным «мальтийским крестом». Технический результат - обеспечение определения как поверхностных, так и внутренних дефектов кварцевой линзы по виду интерференционной картины. 1 ил. |
2379656 патент выдан: опубликован: 20.01.2010 |
|
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИЗМЕРЕНИЯ ДЕФЕКТНОСТИ ОПТИЧЕСКИХ НОСИТЕЛЕЙ
Устройство для измерения дефектности оптических носителей, в состав которого входят узел осветителя, оптический носитель, объектив, имеющий оптическую связь с многоэлементным фотоприемником, вход и выход которого подключен к первому выходу и первому входу блока управления, второй выход которого подключены ко входу привода, отличающееся тем, что в устройство введены оперативное запоминающее устройство, вход и выход которого подключены к третьему выходу и второму входу блока управления, диффузный оптический фильтр и диафрагма, закрепленные на валу, подсоединенном к приводу и расположенном параллельно главной оптической оси, по его противоположным сторонам таким образом, что плоскости диффузного оптического фильтра и диафрагмы перпендикулярны оси вала, а координаты закрепления диффузного оптического фильтра и диафрагмы таковы, что диффузный оптический фильтр расположен между узлом осветителя и оптическим носителем, а диафрагма расположена перед входным зрачком объектива. 4 ил. |
2327974 патент выдан: опубликован: 27.06.2008 |
|