Светочувствительные материалы: ..диазосульфонаты – G03C 1/56
Раздел G ФИЗИКА
G03 Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
G03C Светочувствительные материалы для фотографических целей; фотографические способы и процессы, например кинематографические, рентгенографические, цветные, стереофотографические; вспомогательные способы и процессы в фотографии
G03C 1/00 Светочувствительные материалы
G03C 1/56 ..диазосульфонаты
Патенты в данной категории
| ПОЗИТИВНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ Изобретение относится к позитивным фоторезистам и может быть использовано в фотолитографических процессах при изготовлении интегральных схем в микроэлектронике, радиоэлектронике. Предложен позитивный фоторезист, содержащий, мас.%: крезолформальдегидную новолачную смолу 60 - 66,5; диэфир 1,2 - нафтохинодиазид-(2), 5 - сульфокислоты и 2,4 - диокисибензофенона 30 - 33; органическое соединение, обладающее электродонорными свойствами, выбранное из ряда: п-диметиламинобензальдегид, п-диэтиламинобензальдегид, п-фенилендиамин, нитрозодиэтиланилин, о-фенилендиамин, ферроцен 2 - 9 и органический растворитель остальное. Фоторезист обладает высокой чувствительностью к изучению в ближнем ультрафиолете, высокой контрастностью и резестентностью в кислых средах. | 2100835 патент выдан: опубликован: 27.12.1997 |
|