Светочувствительные материалы: .составы, содержащие азиды в качестве светочувствительных веществ – G03C 1/695

Изобретение относится к фотолитографическим процессам по формированию на функциональной поверхности подложки с помощью фоторезистов рельефного покрытия заданной конфигурации для получения изображения рисунков при изготовлении интегральных схем в микроэлектронике, радиоэлектронике. Предлагается способ получения позитивного фоторезиста взаимодействием пленкообразующего в виде фенолоформальдегидных смол и светочувствительного компонента - продукта взаимодействия 1,2-нафтохинондиазид-(2)-4-сульфохлорида с 3-(2-этилгексилокси)пропиламином. Процесс ведут в смеси органических растворителей на основе сложных эфиров карбоновых кислот и ксилола в присутствии неионогенного поверхностно-активного вещества - фторалифатического эфира плотностью 1,1-1,17 г/см³ и альфа-метилстирола и/или п-аминофенола при массовом соотношении их в смеси 1:1. Полученный позитивный фоторезист обладает повышенной светочувствительностью и разрешающей способностью для экспонирующего излучения _max=365 нм. 4 з.п. ф-лы.