Светочувствительные материалы: ..с подложкой, формируемой из высокомолекулярных веществ – G03C 1/795

МПКРаздел GG03G03CG03C 1/00G03C 1/795
Раздел G ФИЗИКА
G03 Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
G03C Светочувствительные материалы для фотографических целей; фотографические способы и процессы, например кинематографические, рентгенографические, цветные, стереофотографические; вспомогательные способы и процессы в фотографии
G03C 1/00 Светочувствительные материалы
G03C 1/795 ..с подложкой, формируемой из высокомолекулярных веществ

Патенты в данной категории

СВЕТОЧУВСТВИТЕЛЬНАЯ ПОЛИМЕРНАЯ КОМПОЗИЦИЯ

Изобретение относится к светочувствительной полимерной композиции, используемой предпочтительно во флексографической печатной пластине. Предлагается светочувствительная полимерная композиция, включающая термопластичный эластомер (а), содержащий, по меньшей мере, звенья винилового ароматического углеводорода, звенья бутадиена и звенья алкилена, причем содержит звенья алкилена в количестве не менее 10 мас.% и не более 60 мас.% относительно общего количества звеньев бутадиена и звеньев алкилена; фотополимеризуемый ненасыщенный мономер (b) и инициатор фотополимеризации (с). Предложенная светочувствительная полимерная композиция обеспечивает высокую воспроизводимость тонких линий, стойкость к эфирному растворителю и предотвращение возникновения трещин на поверхности пластины. 2 н. и 13 з.п. ф-лы, 1 табл.

2376619
патент выдан:
опубликован: 20.12.2009
КОМПОЗИЦИЯ АДГЕЗИОННОГО ПОДСЛОЯ ПЛЕНОЧНОГО МАТЕРИАЛА ДЛЯ ЛАЗЕРНЫХ ГРАВИРОВАЛЬНЫХ АВТОМАТОВ

Изобретение относится к химико-фотографическим материалам, используемым для получения фотоформ - фотошаблонов с помощью лазерных гравировальных автоматов. Материал представляет собой полиэтилентерефталатную основу (ПЭТ-основу), на которую нанесен чувствительный к лазерному излучению слой - приемный слой. Приемный слой получают нанесением на ПЭТ-основу композиции на органических растворителях и ее последующим высушиванием. Качество гравирования приемного слоя и, следовательно, качество получаемых фотоформ в большей степени зависят от величины адгезии приемного слоя к ПЭТ-основе. Задачей является увеличение адгезии приемного слоя к ПЭТ-основе. Поставленная задача достигается подслоированием ПЭТ-основы композицией на органических растворителях, в которой в качестве полимерного компонента используют насыщенные полиэфирные смолы, представляющие собой олигомерные сложные эфиры фталевых кислот и полиспиртов - этиленгликоля, или глицерина, или пентаэритрита, или их смесь, а одним из органических растворителей является N-метилпирролидон. 1 табл.

2293754
патент выдан:
опубликован: 20.02.2007
Наверх