Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности, материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты, устройства, специально приспособленные для этих целей: ..азиды – G03F 7/008
Раздел G ФИЗИКА
G03 Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
G03F Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
G03F 7/00 Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
G03F 7/008 ..азиды
Патенты в данной категории
| АЗИДОЗАМЕЩЕННЫЕ 2-АРИЛАМИНО-3-ЦИКЛОАЛКИЛАМИНО-1,4- НАФТОХИНОНЫ В КАЧЕСТВЕ ФОТОРЕЗИСТОВ ДЛЯ ВАКУУМНОГО ОСАЖДЕНИЯ Использование: для получения фоторезистивной пленки путем вакуумного осаждения. Сущность: азидозамещенные 2-ариламино-3-циклоалкиламино-1,4-нафтохиноны получают диазотированием аминогруппы в ароматическом остатке 2-ариламино-3-хлор-1,4-нафтохинона азотокислым натрием в уксусной кислоте с последующим нуклеофильным замещением диазогруппы на азидогруппу при действии азида натрия. Полученное соединение выдерживают с изб. циклического амина (пиперидин, морфолин, пирролидин) в диметилсульфоксиде при 80 - 100oС в течение 2 - 4 ч. 2-(4-азидоанилино)-3-пиперидино-1,4-пиперидино-1,4-нафтохинон, Б. Ф. C21 H19 N5 O2, т. пл. 125 - 126oС (гексан), 2-(4-азидонилино)-3-пирролидино-1,4-нафтохинон. Б. Ф. C20 H17 N5 O2 т. пл. 106 - 108oС (бензол-гексан), 2-(4-азидонилино)-3-морфолино-1,4- нафтохинон. Б.Ф. C20 H17 N5 O3, т. пл. 154 - 155oС (с разлож.), 4-азидо-4N-(3-пиперидино-1,4-нафтохиноламино-2)-дифенилметан. Б. Ф. C28 H25 N5 O2, т. пл. 128 - 131oС. Соединения ф-лы I обладают высокой разрешающей способностью в диапазоне 300 - 700 нм. 1 табл. | 2059613 патент выдан: опубликован: 10.05.1996 |
|