Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности, материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты, устройства, специально приспособленные для этих целей: ...полихинондиазиды, высокомолекулярные добавки, например связующие – G03F 7/023
Раздел G ФИЗИКА
G03 Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
G03F Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
G03F 7/00 Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
G03F 7/023 ...полихинондиазиды; высокомолекулярные добавки, например связующие
Патенты в данной категории
| СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОЛИЦИКЛИЧЕСКОГО ПОЛИМЕРА (ВАРИАНТЫ) И СПОСОБ ПРИСОЕДИНЕНИЯ ЛИГАНДА-АКЦЕПТОРА ЭЛЕКТРОНОВ К КОНЦЕВОМУ УЧАСТКУ ПОЛИЦИКЛИЧЕСКОГО ПОЛИМЕРА Изобретение относится к полициклическому полимеру, используемому в качестве фоторезиста при изготовлении интегральных плат. Описывается способ получения полициклического полимера и способ присоединения лиганда-акцептора электронов к концевому участку полициклического полимера полимеризацией мономерной композиции, содержащей кислотный фотоинициатор и полициклический полимер, содержащий повторяющиеся звенья с боковыми расщепляющимися под действием кислоты группами. При облучении формирующим изображение источником излучения кислотный фотоинициатор генерирует кислоту, расщепляющую боковые кислотно-лабильные группы, что приводит к изменению полярности полимера. Полимер приобретает растворимость в водном растворе основания в местах облучения формирующим изображение источником излучения и обеспечивает прозрачность по отношению к коротковолновому формирующему изображение излучению при одновременной достаточной устойчивости к условиям процесса реактивного ионного травления. 4 с. и 8 з.п. ф-лы, 17 табл., 3 ил. | 2199552 патент выдан: опубликован: 27.02.2003 |
|