Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности, материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты, устройства, специально приспособленные для этих целей: ..отличающиеся конструктивными элементами, например подложками, вспомогательными слоями – G03F 7/09

Изобретение относится к фотополимеризующемуся слоистому комбинированному материалу для изготовления фотополимеризующихся цилиндрических бесконечных бесшовных элементов для флексографской печати Слоистый комбинированный материал содержит фотополимеризующийся рельефообразующий слой (а), по меньшей мере, содержащий эластомерное связующее, этиленненасыщенные мономеры и фотоинициатор, а также, при необходимости, другие добавки. Кроме того, слоистый комбинированный материал содержит, при необходимости, фотополимеризующийся эластомерный слой подложки (б), по меньшей мере, содержащий эластомерное связующее, при необходимости, этиленненасыщенные мономеры и фотоинициатор, а также, при необходимости, другие добавки. Причем в каждом случае рельефообразующий слой (а) в фотополимеризованном состоянии имеет твердость по Шору А от 30 до 70°, а эластомерный слой подложки (б) имеет твердость от 75° по Шору А, до 70° по Шору D. При этом слой подложки (б) имеет твердость, по меньшей мере, на 5° по Шору А больше, чем слой (а). Техническим результатом изобретения является повышение адгезии между адгезионным слоем и фотополимерным слоем. 3 н. и 3 з.п. ф-лы, 8 табл.

Изобретение относится к светочувствительным и компьютерным платам в области полиграфической промышленности и связано с технологией изготовления платы. Способ производства предварительно очувствленной офсетной пластины заключается в очистке алюминиевой основы от маслянистых веществ, в осуществлении электрохимического зернения поверхности основы для защиты от коррозии, прикреплении полимерной пленки к алюминиевой основе с одной ее стороны, после чего посредством анодного оксидирования на поверхности основы пластины с другой ее стороны формируют оксидный слой, который подвергают уплотнению или гидрофильной обработке, после чего наносят светочувствительный раствор и осуществляют просушивание и вырубку готового изделия. При этом прикрепление полимерной пленки к алюминиевой основе с одной ее стороны осуществляют непосредственно после очищения алюминиевой основы от маслянистых веществ или после завершения операции просушивания или вырубки, а полимерную пленку наносят на алюминиевую основу пластины методом термоплавкого спрессовывания с использованием термоплавкого клея на основе сополимера этилена с винилацетатом или полимерной смолы. Технический результат направлен на повышение качества изготовления платы. 2 ил.

Изобретение относится к способу изготовления подложки, снабженной слоем резиста с рельефной структурой, воспроизводящей дифракционную структуру. К слою резиста по меньшей мере на отдельных участках примыкает проводящий слой, который при экспонировании слоя резиста электронным лучом рассеивает первичные электроны и/или эмиттирует вторичные электроны. При осуществлении этого способа материал слоя резиста и материал проводящего слоя, а также параметры экспонирования согласуют между собой с таким расчетом, чтобы слой резиста подвергался экспонированию и вне зоны воздействия электронного луча таким образом, чтобы у получаемой таким путем рельефной структуры образующие ее рельефные элементы имели наклонные боковые поверхности. Предложенный способ позволяет простым путем получить рельефные структуры, рельефные элементы которых имеют пологие боковые поверхности с острым углом подъема, составляющим предпочтительно менее 89°, и создавать в слое резиста пологие структуры типа голограмм. 5 н. и 17 з.п. ф-лы, 10 ил.

Изобретение относится к способу получения связующего для сухого пленочного фоторезиста водно-щелочного проявления, находящего применение для получения рисунка при изготовлении печатных плат в радио- и электронной промышленности, а также в качестве компонента лакокрасочных покрытий и клеев. Описывается двухстадийный способ получения связующего для сухого пленочного фоторезиста водно-щелочного проявления, заключающийся в том, что на первой стадии проводят сополимеризацию стирола с малеиновым ангидридом в ацетоне в присутствии динитрила азо-бис-изомасляной кислоты и гидрохинона при температуре 54-72°С в течение 2,5-3,0 часов, а на второй стадии в реакционную смесь вводят 28,0-32,0 мас.ч. н-бутанола, отгоняют испарением 15,0-20,0 мас.ч. ацетона и проводят этерификацию продукта сополимеризации при температуре 64-74°С в течение 90-120 часов. Изготовленные сухие пленочные фоторезисты водно-щелочного проявления обладают высокой устойчивостью (9-10 часов) и повышенной гальванохимической стойкостью. 1 табл.