Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности, материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты, устройства, специально приспособленные для этих целей: ...имеющие более одного светочувствительного слоя – G03F 7/095

МПКРаздел GG03G03FG03F 7/00G03F 7/095
Раздел G ФИЗИКА
G03 Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
G03F Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
G03F 7/00 Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
G03F 7/095 ...имеющие более одного светочувствительного слоя

Патенты в данной категории

СПОСОБ СОЗДАНИЯ МАТРИЧНОЙ ТРИАДЫ СВЕТОФИЛЬТРОВ ДЛЯ АКТИВНО-МАТРИЧНЫХ ЖИДКОКРИСТАЛЛИЧЕСКИХ ЭКРАНОВ

Изобретение относится к способу создания матричной триады светофильтров для активно-матричных жидкокристаллических экранов. Предложенный способ создания матричной триады светофильтров для активно-матричных жидкокристаллических экранов включает последовательное формирование на субстрате окрашенных полимерных дискретных микрорельефов с использованием трех окрашенных светочувствительных композиций. Каждая светочувствительная композиция включает краситель определенной цветовой гаммы и бис-диазонафталиноновое производное или продукт поликонденсации дихлорида изофталевой кислоты с 3,3'-дигидрокси-4,4'-диаминодифенилметаном и бис-диазонафталиноновым производным. Каждый сформированный окрашенный микрорельеф перед нанесением последующего окрашенного слоя подвергают термической обработке при 200-220°С в течение 15-20 мин. Предложенный способ надежно обеспечивает формирование высокоразрешенного окрашенного микрорельефа и полосовых фильтров на различных субстратах, в том числе стеклянных подложках, без применения защитного полимерного слоя и может быть использован для формирования активно-матричных жидкокристаллических экранов, давая узкополосные контрастные линии. 2 з.п. ф-лы, 1 табл.

2411563
патент выдан:
опубликован: 10.02.2011
Наверх