Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности, материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты, устройства, специально приспособленные для этих целей: .процессы нанесения покрытий, устройства для этих целей – G03F 7/16

Изобретение относится к оборудованию для электронной промышленности, а именно к оборудованию для нанесения фоторезиста на подложки методом центрифугирования. Технический результат - уменьшение времени изготовления и увеличение выхода годных изделий - достигается тем, что устройство для нанесения фоторезиста содержит защитный корпус с крышкой, держатель подложек, гайки, вал центрифуги. Защитный корпус закреплен на валу центрифуги. Держатель подложек установлен на вал центрифуги и закреплен гайками. Держатель подложек содержит основание, крышку, ограничительные штифты и заливочные отверстия. На внутренних поверхностях основания и крышки держателя выполнены сквозные пазы со ступенчатой боковой поверхностью для установки подложек. На периферийных частях держателя подложек установлены ограничительные штифты. В крышке держателя подложек выполнены дозировочные отверстия. 1 з.п. ф-лы, 3 ил.

Изобретение относится к области производства интегральных схем, основанной на переносе изображения фотолитографическим способом с использованием фотошаблонов. Согласно способу на очищенную поверхность стекла наносят светочувствительный слой позитивного фоторезиста. В указанном слое с помощью фотолитографии формируют окна размерами 5-10 мкм. Поверхность просушивают и наносят второй слой металлсодержащего полимера с соотношением компонентов (%) ПММА - 5,0; хлороформ - 93,4; Cu(CF₃COO)₂ - 1,6. Производят термический отжиг в электропечи в течение 3 часов при Т=600°С и удаляют продукты сгорания. Технический результат - простота изготовления и повышенная износоустойчивость. 1 табл., 3 ил.

Настоящее изобретение относится к фотоотверждаемой композиции для получения трехмерных изделий и может применяться в процессе быстрого макетирования при получении реальных изделий, спроектированных на компьютере. Предложенная композиция содержит 30-80% вес. эпоксисодержащего соединения; 5-40% вес. дифункционального (мет)акрилата; катионный фотоинициатор; свободно-радикальный фотоинициатор; необязательно один или более стабилизаторов; 5-40% вес. полиолсодержащей смеси из, по крайней мере, одного компонента, выбранного из поли(окситетраметилен)гликоля, поли(оксипропилен)гликоля, поли(оксиэтилен)гликоля, полибутадиена с концевыми гидроксильными группами или полисилоксана с концевыми гидроксильными группами, и, по крайней мере, одного полиола, отличного от вышеуказанных, с большим молекулярным весом, чем вышеуказанные; где процент по весу рассчитан исходя из полного веса фотоотверждаемой композиции. Технический результат - предложенная композиция обеспечивает прозрачную, с низкой вязкостью фотоотверждаемую композицию, которая может быть отверждена с использованием метода быстрого макетирования с образованием матово-белых трехмерных изделий, имеющих свойства, подобные акрилонитри-бутадиен-стиролу (АБС). 2 н. и 5 з.п. ф-лы, 27 табл.

Способ изготовления резистной матрицы, которая имеет по меньшей мере два участка с различными изображениями на них и при изготовлении которой используют по меньшей мере два слоя фоторезистов, согласованных с типом создаваемых изображений, причем в слое первого и/или второго фоторезиста экспонированием формируют или записывают дифракционные структуры. Технический результат: упрощение способа экспонирования резистов излучениями различных типов, обеспечение возможности согласования толщины слоя резиста на различных участках с параметрами экспонирования при возникновении в этом необходимости. 11 н. и 26 з.п. ф-лы, 48 ил.

Способ изготовления газового сенсора включает последовательное формирование на подложке системы контактов методами микротехнологии и чувствительного элемента на основе композиционного материала, состоящего из полимерной матрицы, армированной частицами наполнителя. В качестве материала полимерной матрицы используют фоточувствительные композиции. Формирование чувствительного элемента осуществляют методами литографии. Формирование слоя композиционного материала чувствительного элемента осуществляют из смеси раствора фоточувствительной композиции в растворителе с частицами наполнителя. В качестве наполнителя используют моно- или полидисперсные порошки нанотрубок, фуллеренов, сажи, графита, наночастицы окиси олова. Формирование слоя композиционного материала чувствительного элемента осуществляют методом центрифугирования смеси раствора фоточувствительной композиции с частицами наполнителя. Термообработка слоя композиционного материала чувствительного элемента осуществляется после проведения процесса литографии термическим методом при температуре, не выше температуры деструкции полимерной матрицы. Технический результат - упрощение технологии изготовления, исключая операцию формирования микрообъема. 4 з.п. ф-лы.

Изобретение относится к области технологии изготовления микроэлектронных и микромеханических устройств и может быть использовано при изготовлении датчиков перемещения движущихся сред, газовых анализаторов термометров сопротивления и т.д. Технический результат изобретения состоит в том, что способ формирования элементов из каталитических металлов на поверхностях сенсоров позволяет получить хорошую адгезию металлов к поверхности и стабильные C-V характеристики МДП-структур, что обеспечивает повышение надежности и долговечности сенсоров. Сущность изобретения: способ формирования элементов из каталитических металлов на поверхности сенсора включает осаждение на поверхности подложки сенсора слоя поликремния или лэнгмюровского слоя поверхностно-активного термостойкого полимерного соединения, формирование маски из осажденного слоя, очищение свободной поверхности подложки методом сухого травления, нанесение каталитического металла при температуре подложки 400-600°C при отношении толщины осажденного слоя к толщине металла не менее двух и формирование элементов из каталитических металлов методом взрывной фотолитографии. Нанесение каталитического металла можно осуществлять методом магнетронного напыления. 1 з.п. ф-лы, 2 ил.