Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности, материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты, устройства, специально приспособленные для этих целей: ...жидкие составы для этих целей, например проявители – G03F 7/32
Патенты в данной категории
РАСТВОРИТЕЛЬ ДЛЯ ВЫМЫВАНИЯ ПОЛИМЕРА И ЕГО ПРИМЕНЕНИЕ ДЛЯ ОБРАБОТКИ ФЛЕКСОГРАФИЧЕСКОЙ ПЕЧАТНОЙ ФОРМЫ
Изобретение относится к растворителю для вымывания полимера и его использованию для обработки флексографической печатной формы. Растворитель включает 10-25 мас.% сложноэфирного углеводородного компонента, 50-75 мас.% простоэфирного углеводородного компонента и 10-25 мас.% спиртового углеводородного компонента. Растворитель применяют для обработки флексографической печатной формы на стадии промывки. Растворитель обладает менее опасными свойствами, чем известные растворители. Использование растворителя позволяет сократить время вымывания неотвержденного полимера из формы, при этом фактически никакого набухания формы после промывки не происходит, а также сократить время высушивания формы. 2 н. и 14 з.п. ф-лы, 1 табл., 1 пр. |
2523810 патент выдан: опубликован: 27.07.2014 |
|
СОСТАВ РАЗБАВИТЕЛЯ ДЛЯ СМЫВАНИЯ НЕНУЖНОГО ФОТОРЕЗИСТА НА ПЛАСТИНЕ В ПРОЦЕССЕ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ УСТРОЙСТВ (ВАРИАНТЫ) И СПОСОБ СМЫВАНИЯ НЕНУЖНОГО ФОТОРЕЗИСТА (ВАРИАНТЫ) Использование: для смывания ненужного фоторезиста в процессе изготовления полупроводниковых устройств. Техническим результатом изобретения является обеспечение возможности удаления ненужного фоторезиста по краю и на оборотной стороне пластины составом, обладающим достаточным коэффициентом растворимости для фоторезиста, но практически нетоксичным для человеческого организма. Сущность изобретения: состав разбавителя для смывания ненужного фоторезиста на пластине в процессе изготовления полупроводников содержит этиллактат (EL), этил-3-этоксипропионат (ЕЕР) с предпочтительным добавлением гамма-бутиролактона. Остаток фоторезиста, приставшего к поверхности, может быть полностью удален, что допускает повторное и экономичное использование пластин. 4 с. и 12 з.п. ф-лы, 4 табл., 2 ил. | 2126567 патент выдан: опубликован: 20.02.1999 |
|