Конструктивные элементы приборов с использованием времени пролета электронов, отнесенных к группе ,25/00: ...имеющие цилиндрическую эмиссионную поверхность, например катоды для магнетронов – H01J 23/05
Раздел H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
H01 Основные элементы электрического оборудования
H01J Электрические газоразрядные и вакуумные электронные приборы и газоразрядные осветительные лампы
H01J 23/00 Конструктивные элементы приборов с использованием времени пролета электронов, отнесенных к группе 25/00
H01J 23/05 ...имеющие цилиндрическую эмиссионную поверхность, например катоды для магнетронов
Патенты в данной категории
| СПОСОБ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО НАНЕСЕНИЯ МНОГОКОМПОНЕНТНЫХ ПЛЕНОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ, МОЗАИЧНАЯ МИШЕНЬ ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ И СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МИШЕНИ Изобретение может быть использовано в электронной, атомной, оптической и других областях науки и техники. Задача изобретения состоит в формировании многокомпонентных пленок заданного состава в установившемся режиме при высокой скорости распыления. Способ включает создание в магнетронном устройстве ортогональных магнитного и электрического полей, распыление мозаичной мишени, содержащей вставки из разнородных металлов, и нанесение распыленных материалов на подложки, закрепленные на аноде, при этом для распыления используют мишень, в которой вставки заглублены и/или выступают относительно поверхности других элементов мишени в зоне эрозии в пределах от 0,01 до 0,1 мм, суммарная площадь поверхности вставок каждого материала пропорциональна концентрации элемента в покрытии, распыление осуществляют в сбалансированной магнетронной системе при плотности мощности разряда от 20 до 500 Вт/см2 и остаточной индукции от 0,03 до 0,1 Т, а нанесение покрытия проводят в установившемся режиме одинаковой линейной скорости распыления материалов мозаичной мишени. Мозаичная мишень состоит из плоской матрицы, закрепленной на охлаждаемом основании, и размещенных на матрице вставок из напыляемых разнородных материалов, расположенных в зоне эрозии мишени равномерно вдоль проекций силовых линий магнитного поля, заглубленных и/или выступающих относительно поверхности других элементов мишени в пределах от 0,01 до 0,1 мм, при этом суммарная площадь поверхности вставок каждого материала пропорциональна концентрации элемента в покрытии. Способ изготовления мишени включает изготовление элементов мишени и охлаждаемого основания, сборку рабочих элементов мишени на основании заподлицо, после чего мишень распыляют в сбалансированной магнетронной системе при плотности разряда в зоне эрозии от 20 до 500 Вт/см2 и напряженности магнитного поля от 0,03 до 0,1 Т в течение 15-30 мин. 3 с. и 11 з.п. ф-лы, 5 ил., 1 табл. | 2210620 патент выдан: опубликован: 20.08.2003 |
|
| МАГНЕТРОН С УПРАВЛЯЮЩИМ ЭЛЕКТРОДОМ Изобретение относится к технике сверхвысоких частот, в частности к конструированию магнетронов прямой схемы. Техническим результатом является уменьшение уровня сигнала управления. Магнетрон содержит центральный катод с подогревателем, анодный блок с элементами питания, кольцевую магнитную систему, корпус и систему вывода энергии. В устройство введена защитная оболочка подогревателя, которая является одной обкладкой конденсатора, другой обкладкой которого является катод, а подогреватель размещен между ними. К конденсатору приложен управляющий сигнал. 1 ил. | 2197029 патент выдан: опубликован: 20.01.2003 |
|
| МАГНЕТРОН Использование: в приборах СВЧ М-типа. Сущность изобретения: в катодном узле, имеющем вторично-эмиссионную и автоэмиссионную части, последняя изолирована от вторично-эмиссионной части и приспособлена для поддержания ее под потенциалом, отличным от потенциала вторично-эмиссионной части и вызывающим автоэмиссионную эмиссию. Магнетрон может иметь структуру, поддерживающую автоэмиссионную часть и приспособленную для ее электрического соединения с внешним источником потенциала. Фокусирующий фланец катодного узла может иметь сквозной проход, через который проходит проводящий элемент автоэмиссионной части. Вторично-эмиссионная часть может быть выполнена в виде спирали. 6 з.п.ф-лы, 11 ил. | 2115193 патент выдан: опубликован: 10.07.1998 |
|