Полупроводниковые приборы, специально предназначенные для выпрямления, усиления, генерирования или переключения и имеющие по меньшей мере один потенциальный барьер, на котором имеет место скачкообразное изменение потенциала, или поверхностный барьер, конденсаторы или резисторы, содержащие по меньшей мере один потенциальный барьер, на котором имеет место скачкообразное изменение потенциала, или поверхностный барьер, например имеющие обедненный слой с электронно-дырочным переходом или слой с повышенной концентрацией носителей, конструктивные элементы полупроводниковых подложек или электродов для них: .....с полевым эффектом, создаваемым при помощи управляющего p-n-перехода или другого выпрямляющего перехода – H01L 29/80

МПКРаздел HH01H01LH01L 29/00H01L 29/80
Раздел H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
H01 Основные элементы электрического оборудования
H01L Полупроводниковые приборы; электрические приборы на твердом теле, не отнесенные к другим классам или подклассам
H01L 29/00 Полупроводниковые приборы, специально предназначенные для выпрямления, усиления, генерирования или переключения и имеющие по меньшей мере один потенциальный барьер, на котором имеет место скачкообразное изменение потенциала, или поверхностный барьер; конденсаторы или резисторы, содержащие по меньшей мере один потенциальный барьер, на котором имеет место скачкообразное изменение потенциала, или поверхностный барьер, например имеющие обедненный слой с электронно-дырочным переходом или слой с повышенной концентрацией носителей; конструктивные элементы полупроводниковых подложек или электродов для них
H01L 29/80 .....с полевым эффектом, создаваемым при помощи управляющего p-n-перехода или другого выпрямляющего перехода

Патенты в данной категории

СПОСОБ УПРАВЛЕНИЯ ТОКОМ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ

Изобретение относится к области полупроводниковой электроники. Управление величиной тока в приборе с вертикальной структурой, содержащем проводящую область с n-типом проводимости (n-область), анод, который расположен на нижней стороне n-области, управляющий электрод, сформированный на верхней стороне n-области и образующий с ней барьер Шотки, и катод, расположенный на боковой поверхности n-области между анодом и управляющим электродом, осуществляется путем изменения площади и, следовательно, сопротивления омического контакта между катодом и n-областью. Прибор может содержать более одной единичной структуры, при этом соседние единичные структуры объединены в новую структуру с двумя катодами, единой n-областью с анодом и управляющим электродом. Изобретение позволяет повысить быстродействие и увеличить ток и выходную мощность прибора. 2 н. и 1 з.п. ф-лы, 5 ил.

2525154
патент выдан:
опубликован: 10.08.2014
ПОЛЕВОЙ ТРАНЗИСТОР С P-N ПЕРЕХОДОМ И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ

Использование: микроэлектроника, вертикальные полевые транзисторы с р-п переходом и технология их изготовления. Сущность изобретения: в полевом транзисторе с р-n переходом эпитаксиальный слой лигирован примесям первого или первого и второго типов проводимости. Электрод истока сформирован анизотропным травлением слоя, расположенного поверх эпитаксиального слоя и выполненного из проводящего материала, содержащего примесь первого типа проводимости. Затвор сформирован имплантацией примеси второго типа проводимости в окно электрода истока, канал сформирован с помощью имплантации примеси первого типа проводимости в то же окно и боковой диффузии. Изоляция сформирована на боковых поверхностях электрода истока. 2 с. и 2 з.п. ф-лы, 3 ил.
2102818
патент выдан:
опубликован: 20.01.1998
ПОЛЕВОЙ ТРАНЗИСТОР

Использование: в криоэлектронике при создании сверхпроводниковых интегральных схем. Сущность изобретения: полевой транзистор содержит монокристаллическую подложку, канал из сверхпроводящего материала, слой диэлектрического материала, два буферных слоя, дополнительные диэлектрический слой и затвор. Буферные слои выполнены из материала с кристаллической решеткой, одинаковой с решеткой материала канала и нормальным характером проводимости. Буферные слои расположены по обе стороны от канала, каждый слой из диэлектрического материала расположен на буферном слое, дополнительный затвор выполнен из сверхпроводящего материала и расположен между подложкой и дополнительным диэлектрическим слоем. 1 ил.
2065230
патент выдан:
опубликован: 10.08.1996
СПОСОБ ВКЛЮЧЕНИЯ ПОЛЕВОГО ТРАНЗИСТОРА С УПРАВЛЯЮЩИМ P-N- ПЕРЕХОДОМ

Использование: в микроэлектронике. Сущность изобретения: способ включения полевого транзистора с управляющим p-n-переходом заключается в том, что на затвор транзистора подают входной сигнал, на сток и исток подают напряжение смещения и обеспечивают работу транзистора в линейной области вольт-амперных характеристик. Величины напряжений смешения стока и истока выбирают такими, чтобы переход затвор-исток был смещен в прямом направлении, а переход затвор-сток в обратном. Выполняя определенное соотношение величин напряжений, обеспечивают равенство по абсолютной величине токов затвор-исток и затвор-сток и их взаимную компенсацию. 2 ил. 1 табл.
2046455
патент выдан:
опубликован: 20.10.1995
ПОЛЕВОЙ ВЕРТИКАЛЬНЫЙ ТРАНЗИСТОР

Использование: в полупроводниковых приборах. Сущность изобретения: транзистор содержит монокристаллическую подложку из полупроводника n++ -типа, на которой сформированы омический контакт истока и мезаструктура, состоящая из двух слоев: верхний слой из полупроводника n-типа, нижний из полупроводника n++ -типа. По краям боковых граней верхнего слоя мезаструктуры выполнены симметрично расположенные барьерные контакты, являющиеся затворами транзистора. На верхней грани мезаструктуры сформирован омический контакт стока. 2 ил.
2045112
патент выдан:
опубликован: 27.09.1995
Наверх