Покрытие вакуумным испарением, распылением металлов или ионным внедрением материала, образующего покрытие: ...с использованием источника резистивного или индуктивного нагрева – C23C 14/26
Патенты в данной категории
СПОСОБ НАПЫЛЕНИЯ В ВАКУУМЕ СТРУКТУР ДЛЯ ПРИБОРОВ ЭЛЕКТРОННОЙ ТЕХНИКИ, СПОСОБ РЕГУЛИРОВАНИЯ КОНЦЕНТРАЦИИ ЛЕГИРУЮЩИХ ПРИМЕСЕЙ ПРИ ВЫРАЩИВАНИИ ТАКИХ СТРУКТУР И РЕЗИСТИВНЫЙ ИСТОЧНИК ПАРОВ НАПЫЛЯЕМОГО МАТЕРИАЛА И ЛЕГИРУЮЩЕЙ ПРИМЕСИ ДЛЯ РЕАЛИЗАЦИИ УКАЗАННОГО СПОСОБА РЕГУЛИРОВАНИЯ, А ТАКЖЕ ОСНОВАННЫЙ НА ИСПОЛЬЗОВАНИИ ЭТОГО ИСТОЧНИКА ПАРОВ СПОСОБ НАПЫЛЕНИЯ В ВАКУУМЕ КРЕМНИЙ-ГЕРМАНИЕВЫХ СТРУКТУР
Изобретение относится к технологии полупроводниковых структур для приборов электронной техники. Изобретение обеспечивает возможность прецизионного варьирования в широких пределах концентрацией легирующей примеси в выращиваемой структуре путем изменения температуры и агрегатного состояния источника примеси из напыляемого легированного материала. В способе напыления в вакууме структур для приборов электронной техники в получении потока паров одновременно участвуют пластина, температуру нагрева которой поддерживают на уровне величины, задающей скорость роста напыляемой структуры, требуемую для эффективного встраивания легирующих примесей в растущую структуру, и группа пластин, различающихся легирующими примесями, температуры нагрева которых изменяют для регулирования концентрации легирующих примесей в растущей структуре за счет изменения состава потока паров в результате изменения скорости образования паров примесей. Резистивный источник примеси из напыляемого легированного материала выполнен в виде пластины так, что центральная полоса пластины в направлении между токовводами имеет большую толщину, чем полосы, прилегающие к краям пластины. Предлагаемое решение позволяет до минимума сократить количество резистивно нагреваемых источников примеси, вести легирование структур несколькими примесями одновременно. 4 н. и 4 з.п. ф-лы, 2 ил. |
2511279 патент выдан: опубликован: 10.04.2014 |
|
СПОСОБ ОСАЖДЕНИЯ МОНОМОЛЕКУЛЯРНЫХ ПЛЕНОК ФТОРФУЛЛЕРЕНА C60F18 НА ПОДЛОЖКУ, УСТРОЙСТВО ВВОДА ПОДЛОЖКИ В ВАКУУМ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИСПАРЕНИЯ ФТОРФУЛЛЕРЕНА C60F18
Изобретение может быть использовано в нелинейной оптике и пироэлектрических устройствах. Перед осаждением пленки подготавливают подложку, отделяя от высокоориентированного пирографита тонкий слой с помощью двусторонней липкой ленты. Порошок C 60F18 загружают в испарительную ячейку, помещают в вакуумную камеру, на расстоянии от 10 до 40 мм от нее устанавливают контейнер с подготовленной подложкой. Испарение порошка C 60F18 производят посредством нагрева испарительной ячейки до 120-170°С, поддерживая температуру подложки 18-25°С. Устройство ввода подложек в вакуум включает вакуумную камеру, шлюзовое устройство с прямопролетным клапаном и фланцем-окном для смены и загрузки подложек, шток, выполненный с возможностью возвратно-поступательного перемещения и вращения, держатель с подложкой. Устройство для испарения фторфуллерена включает средства механической и тепловой защиты, контроля и регулирования температуры нагрева, монтажа и позиционирования составляющих элементов, трубчатый нагреватель и средство для размещения испаряемого вещества. Трубчатый нагреватель выполнен в виде кварцевой трубки 8 с намотанным снаружи проволочным нагревателем 7. Средства монтажа и позиционирования выполнены в виде шпильки 4 для консольного крепления ячейки, винта с гайкой 9 и хомута 10, размещенных на керамической стойке 11, установленной в круглом основании 1 испарительной ячейки. Средства позиционирования включают алундовую двухканальную трубку 6 для термопары 5. Изобретение позволяет упростить получение пленок, а также обслуживание и ремонт оборудования, снизить энергоемкость и повысить надежность. 3 н. и 9 з.п. ф-лы, 2 ил. |
2471705 патент выдан: опубликован: 10.01.2013 |
|
УСТРОЙСТВО ДЛЯ РЕЗИСТИВНОГО ИСПАРЕНИЯ МЕТАЛЛОВ И СПЛАВОВ В ВАКУУМЕ
Изобретение относится к оборудованию для нанесения металлических покрытий в вакууме и может найти применение в космической, авиационной промышленности и радиотехнике. Устройство для резистивного испарения металлов и сплавов в вакууме состоит из установленных в вакуумной камере двух токоподводов, протяженных и выполненных гибкими испарительных элементов, предназначенных для нагрева и испарения навесок испаряемого материала, размещаемого на испарительных элементах, а также источник питания и пульт управления. Устройство снабжено тиристорами, связанными с источником питания и пультом управления и установленными на одном из токоподводов. Тиристоры оснащены зажимами, в каждом из которых концом закреплен испарительный элемент, а второй конец каждого из которых связан с другим токоподводом и с введенным в устройство натяжным элементом. Расширяются технологические возможности устройства, повышается качество покрытия и снижается время нанесения его на газонасыщенные изделия большой площади из неметаллических композиционных материалов. 2 ил. |
2468121 патент выдан: опубликован: 27.11.2012 |
|
ВАКУУМНОЕ ОБРАБАТЫВАЮЩЕЕ УСТРОЙСТВО
Изобретение относится к устройству для вакуумного парового осаждения слоя на подложку путем облучения материала напыления. Устройство содержит источник - испаритель материала напыления, электронную пушку Пирса, расположенную напротив источника-испарителя. Снаружи вакуумной камеры, с задней стороны поверхности излучения электронного пучка, за точкой испарения источника-испарителя расположен постоянный магнит для создания магнитного поля, по существу, перпендикулярного направлению падения электронного пучка и практически параллельного поверхности излучения электронного пучка источника-испарителя, для отклонения и направления электронного пучка к точке испарения источника-испарителя. В результате получают нанесенный паровым осаждением слой с большой скоростью осаждения посредством направления электронного пучка на точку испарения испаряемого и осаждаемого материала, содержащегося в источнике-испарителе в вакуумной камере, и оптимизация диапазона излучения электронного пучка в точке испарения. 9 з.п. ф-лы, 27 ил. |
2421543 патент выдан: опубликован: 20.06.2011 |
|
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВАКУУМНОГО НАПЫЛЕНИЯ ПЛЕНОК
Изобретение относится к технике получения пленок в вакууме, в частности к устройству для вакуумного напыления пленок, и может быть использовано для эпитаксиального выращивания слоев при изготовлении полупроводниковых приборов, устройств интегральной оптики, при нанесении функциональных покрытий из металлов и кремния и т.п. Устройство содержит расположенные в вакуумной камере (1) подложкодержатель (2) и резистивный испаритель (3) напыляемого материала, подключенные к источнику тока токовводами (4), которые соединены между собой изолятором и расположены внутри герметично укрепленного в стенке камеры сильфона (7). Токовводы (4) соединены с приводом для обеспечения качательного движения испарителя напыляемого материала. Устройство позволяет повысить однородность толщины напыляемых слоев и обеспечивает возможность выращивания однородных эпитаксиальных слоев на подложке большой площади. 4 з.п. ф-лы, 1 ил. |
2411304 патент выдан: опубликован: 10.02.2011 |
|
ИСПАРИТЕЛЬ ДЛЯ МЕТАЛЛОВ И СПЛАВОВ
Изобретение относится к испарителю для металлов и сплавов и может найти применение в порошковой металлургии для получения высокодисперсных и ультрадисперсных металлов и сплавов. Испаритель содержит горизонтальную испарительную трубу (1) с торцевыми крышками (2.1 и 2.2), емкости для испарения (3.1 и 3.2), нагреватели (4), электрически управляемые независимо друг от друга, узел для отвода испаряемого металла или сплава, впускной канал для подачи испаряемого металла или сплава (7). Впускной канал (7) имеет U-образную форму для обеспечения гидрозатвора, расположен со стороны торцевой крышки (2.1) и соединен с емкостью для испарения (3.1). Емкости для испарения (3.1 и 3.2) расположены по всей длине испарительной трубы (1) и установлены параллельно друг другу в горизонтальной плоскости и связаны между собой переливными каналами (8). Нагреватели (4) установлены внутри трубы (1). Концы нагревателей (4) со стороны торцевой крышки (2.1) размещены вокруг впускного канала (7), электрически изолированы кольцами (9) от нее и соединены с токоподводами (10). Торцевая крышка (2.2) соединена с другими концами нагревателей (4) и токоподводом (11). Узел для отвода испаряемого металла выполнен в виде каналов (5), расположенных в нагревателях над емкостями для испарения (3.1 и 3.2), и содержит форсуночные головки (6). Испаритель обеспечивает повышение производительности и снижение энергопотребления и теплопотерь при сохранении качества получаемых высокодисперсных и ультрадисперсных порошков металлов и сплавов. 1 з.п. ф-лы, 2 ил. |
2382117 патент выдан: опубликован: 20.02.2010 |
|
ИСПАРИТЕЛЬ ДЛЯ МЕТАЛЛОВ
Изобретение относится к области металлургии, а именно к испарителям для металлов, и может быть использовано для изготовления металлических порошков и нанесения покрытий на различные поверхности. Испаритель включает резистивный нагреватель, кольцевую испарительную камеру с паропроводом и с расположенными в ней кольцевыми емкостями для металлического расплава с переливными окнами, форсуночный узел, расположенный в паропроводе испарительной камеры, и канал для подачи расплава в испарительную камеру. Причем нагреватель выполнен в виде нагревающего стержня. Испаритель снабжен трубчатым элементом, расположенным снаружи нагревающего стержня и коаксиально ему, и кольцевым металлоприемником-плавителем, расположенным коаксиально трубчатому элементу на его верхней части. Кольцевая испарительная камера выполнена в нагревающем стержне, а паропровод - в виде осевого канала в верхней части нагревающего стержня и сообщенных с ним и с верхней частью испарительной камеры тангенциальных каналов. Причем трубчатый элемент соединен с нагревающим стержнем в зоне размещения форсуночного узла, а канал для подачи расплава сообщен с кольцевым металлоприемником-плавителем и с верхней кольцевой емкостью испарительной камеры. Технический результат - снижение потерь электроэнергии, предотвращение конденсации пара в форсуночном узле и его засорения продуктами конденсации. 3 з.п. ф-лы, 2 ил. |
2347849 патент выдан: опубликован: 27.02.2009 |
|
ЗАЩИТНЫЙ ЭЛЕМЕНТ И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ
Изобретение относится к защитному элементу для защищенной от подделки бумаги, банкнот, удостоверений личности или иных аналогичных документов, к защищенной от подделки бумаге и ценному документу с таким защитным элементом, а также способу их изготовления. На основу осаждением из паровой фазы напыляют многокомпонентный испаряемый материал, переводимый в паровую фазу с помощью электронного луча или нагрева сопротивлением. Пары испаряемого материала осаждают на основе, образуя на ней покрытие, окрашенное в цвет благородного или драгоценного металла. Состав покрытия определяют посредством измерения в отраженном свете и при необходимости корректируют возможные отклонения состава покрытия от заданного значения путем изменения мощности, расходуемой на нагрев испаряемого материала, и/или энергии электронного луча. 5 н. и 29 з.п. ф-лы, 3 ил. |
2316429 патент выдан: опубликован: 10.02.2008 |
|
ИСПАРИТЕЛЬ ДЛЯ МЕТАЛЛОВ И СПЛАВОВ
Изобретение относится к устройствам для получения газофазным методом порошков металлов и сплавов, а также для нанесения покрытий. В предложенном испарителе, содержащем нагреватель, цилиндрические ячейки, образующие емкость для металлического расплава, форсунки, каналы для впуска металлического расплава и выхода пара металлического расплава, перепускные патрубки-распределители, согласно изобретению нагреватель выполнен сборным из полых цилиндрических элементов, соединенных между собой токопроводящими муфтами, при этом каждый цилиндрический элемент нагревателя по его высоте является стенкой цилиндрической ячейки, ограничивающей ее размер в радиальном направлении, а на торцевых дискообразных крышках каждой цилиндрической ячейки, кроме верхней крышки, по оси которой установлена пробка с каналом для впуска расплава, соосно оси испарителя установлены форсунки, причем пробка и форсунка верхней ячейки и каждые последующие форсунки ячеек образуют между собой кольцевую конусообразную полость с наклоном к нижней форсунке, а полости и осевые отверстия форсунок составляют канал для выхода пара расплава. Обеспечивается экономия материала, электроэнергии и надежность конструкции. 1 ил.
|
2254963 патент выдан: опубликован: 27.06.2005 |
|
ИСПАРИТЕЛЬ ДЛЯ МЕТАЛЛОВ И СПЛАВОВ Изобретение предназначено для получения газофазным методом ультрадисперсных порошков из металлов и сплавов, а также для нанесения металлических покрытий в вакууме. Испаритель состоит из нагревателя, цилиндрического экрана, контейнера с цилиндрическими ячейками, образующими емкость для расплава, каналы для впуска расплава и выхода пара расплава. Цилиндрический экран и помещенный в него контейнер размещены внутри нагревателя. Цилиндрические ячейки образованы дискообразными тарелями с окружной выточкой в средней части тарелей. Тарели установлены друг над другом на несущем стержне. Стержень сочленен с крышкой цилиндрического экрана. По оси стержня выполнен впускной канал для подачи расплава. Канал введен в верхнюю цилиндрическую ячейку и сообщается с последующими ячейками через перепускные патрубки-распределители. Канал для выхода расплава образован кольцевым зазором между торцом внешней вертикальной стенки тарели и основанием предыдущей тарели, крышкой цилиндрического экрана, внешними стенками тарелей, основанием нижней тарели, внутренними стенками цилиндрического экрана и отверстием выпускной форсунки. Форсунка установлена в дне цилиндрического экрана по оси несущего стержня напротив окна в нагревателе. Соотношение площади поперечного сечения отверстия форсунки к суммарной площади внутренней донной части всех цилиндрических ячеек равно (27)10-3. Отношение ширины торца внешней вертикальной стенки тарели к величине кольцевого зазора между торцом внешней вертикальной стенки тарели и основанием предыдущей тарели, а также крышкой цилиндрического экрана равно 310. Конструкция испарителя обеспечивает более высокие технические, эксплуатационные характеристики и качество получаемой продукции. 1 ил. | 2219283 патент выдан: опубликован: 20.12.2003 |
|
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ЗАЩИТНЫХ ПОКРЫТИЙ ГРАФИТОВЫХ ПОДЛОЖКОДЕРЖАТЕЛЕЙ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ Изобретение относится к технологии и оборудованию для получения эпитаксиальных структур кремния методом осаждения из газовой фазы. Технический результат - повышение качества эпитаксиальных структур за счет улучшения газопрочности защитного покрытия и повышения срока службы подложкодержателя. Сущность изобретения: способ заключается в одновременной термообработке всей поверхности подложкодержателя при температуре 1300 - 1400oC в смеси Н2 + HCl при давлении 1 - 10 мм рт.ст. /1,33 - 13,3 102 Па/ в течение 2 ч, формировании буферного покрытия при температуре 900 - 1200oC при давлении 1 - 30 мм рт.ст. /1,33 - 39,9 102 Па/ в смеси газов Н2 - SiCl4 - C2HCl3 толщиной 3 - 10 мкм и формировании защитного покрытия при температуре 1200 - 1400oC при давлении 100 - 200 мм рт.ст. /133 - 266 102 Па/ толщиной 10 - 20 мкм. Конструктивно реактор установки УНЭС-101 выполнен в виде колпака с опорным фланцем. Внутри колпака расположен полый графитовый подложкодержатель. Графитовый подложкодержатель установлен на кварцевой цилиндрической подставке. Для повышения однородности покрытия графитовый подложкодержатепь в процессе осаждения из парогазовой смеси вращается. С целью интенсивной рециркуляции парогазовой смеси в нижней боковой поверхности опорного фланца выполнено отверстие, в которое устанавливают штуцеры для подвода парогазовой смеси, а по периметру верхней поверхности кварцевой подставки на равном расстоянии друг от друга выполнены три выступа, на которые помещают подложкодержатель. 2 с. п. ф-лы, 2 ил. | 2165999 патент выдан: опубликован: 27.04.2001 |
|
СПОСОБ ПОВЫШЕНИЯ ИЗНОСОСТОЙКОСТИ РЕЖУЩИХ ИНСТРУМЕНТОВ Использование: изобретение относится к металлургии, в частности к способам нанесения износостойких покрытий на режущий инструмент. Сущность изобретения: с целью повышения прочности покрытия и улучшения технологического процесса закаленный и отпущенный инструмент обрабатывается потоком вторично распыленных атомов и ионов титана с последующим нанесением основного слоя нитрида титана методом ионно-плазменной технологии. 1 з.п. ф-лы, 1 ил. | 2062817 патент выдан: опубликован: 27.06.1996 |
|
ИСПАРИТЕЛЬ Использование: в микроэлектронике, устройствах для нанесения покрытий. Сущность изобретения: испаритель, содержащий тигель, нагреватель и формирователь потока пара, снабжен рыхлителем, установленным внутри плоского со щелевидной полостью тигля с возможностью возвратно-поступательного перемещения. Между формирователем потока пара и рыхлителем размещена соединенная с ними форсунка. Дополнительно предусмотрены формы выполнения тигля, рыхлителя и форсунки. 4 з.п. ф-лы, 2 ил. | 2058424 патент выдан: опубликован: 20.04.1996 |
|
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОЛИМЕРНЫХ ПЛЕНОК В ВАКУУМЕ Изобретение относится к вакуумному нанесению слоев и может быть использовано для термического нанесения полимерных пленок из газовой фазы. Устройство для нанесения полимерных пленок содержит размещенные в вакуумной камере подложку и испаритель, снабженный нагревателем, и состоящий из двух камер, расположенных коаксиально и соосно испарителю, в одну из камер загружается испаряемое вещество, а другая выполнена цилиндрической и расположена в центральной части испарителя, в днище испарителя расположено отверстие для выпуска паров с установленым в нем сверхзвуковым соплом, верхняя часть испарителя снабжена крышкой. Устройство позволяет повысить однородность и равномерность наносимого слоя при одновременном увеличении использования массы испаряемого вещества. 1 з. п. ф-лы, 3 ил. | 2051200 патент выдан: опубликован: 27.12.1995 |
|
СПОСОБ ПОДАЧИ ИСПАРЯЕМОГО МАТЕРИАЛА К ИСПАРИТЕЛЮ ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ Изобретение относится к области вакуумной технологии нанесения покрытий и может быть использовано в технике нанесения алюминиевых покрытий путем термического испарения в вакууме. Способ подачи испаряемого материала, выполненного в виде алюминиевой ленты, включает перемещение ленты к испарителю, выполненному в виде вольфрамового жгута, путем приближения края ленты к жгуту не более чем на 5 с и удаления на 30-45 с. Предлагаемый способ увеличивает надежность и срок службы испарителя. 1 ил. | 2034095 патент выдан: опубликован: 30.04.1995 |
|
ИСПАРИТЕЛЬ Изобретение относится к вакуумной технике и может быть использовано в микроэлектронике для нанесения покрытий при изготовлении интегральных схем. Испаритель содержит установленные в вакуумной камере тигель с крышкой, в которой имеется центральное отверстие, нагреватель тигля, формирователь потока пара в виде конического сопла, механизм транспортировки тигля, нагреватель сопла в виде катушки электромагнита с коническим центральным отверстием в каркасе катушки, установленной на тигле соосно ему и являющеся крышкой тигля. Коническое сопло образовано внутренней поверхностью каркаса катушки и внешней поверхностью управляемого клапана, установленного в центральном отверстии крышки и выполненного в виде усеченного конуса из термостойкого магнитного сплава с полированным основанием, контактирующим с нижней полированной поверхностью сопла. В основании клапана имеются продольные каналы для выхода пара, в нагревателях сопла и тигля установлены датчики температуры в виде термопар, датчик температуры тигля установлен в продольном осевом углублении тигля, магнитопровод катушки в части, прилегающей к основанию клапана, выполнен с уступом, контактирующим с опорной поверхностью клапана и обеспечивающим постоянный зазор для выхода паров. 1 з.п.ф-лы, 1 ил. | 2031187 патент выдан: опубликован: 20.03.1995 |
|