Покрытие вакуумным испарением, распылением металлов или ионным внедрением материала, образующего покрытие: ....электронной бомбардировкой – C23C 14/30
Патенты в данной категории
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ НА ОСНОВЕ КАРБИДА ТИТАНА НА ТИТАНОВЫЕ СПЛАВЫ
Изобретение относится к технологии химико-термической обработки металлов с использованием концентрированных потоков энергии. Способ включает элетровзрывное науглероживание поверхности сплава на основе титана путем электрического взрыва углеграфитовых волокон с формированием импульсной плазменной струи, оплавления ею поверхности сплава при поглощаемой плотности мощности 4,5-5,0 ГВт/м2 и введения в расплав частиц углеграфитовых волокон, последующую самозакалку расплава путем отвода тепла в объем титанового сплава и импульсно-периодическое воздействие на науглероженную поверхность сильноточным электронным пучком при поглощаемой плотности энергии 30-40 Дж/см2, длительности импульсов 150-200 мкс и количестве импульсов 10-30. Покрытия обладают высокими значениями износо- и коррозионной стойкости, микротвердости и имеют адгезию с основой на уровне когезии. 2 пр., 3 ил. |
2470090 патент выдан: опубликован: 20.12.2012 |
|
МЕТАЛЛОКЕРАМИЧЕСКИЙ СПЛАВ НА ОСНОВЕ КАРБИДА ТИТАНА И МЕТАЛЛИЧЕСКОГО СВЯЗУЮЩЕГО С МОДИФИЦИРОВАННОЙ СТРУКТУРОЙ ПОВЕРХНОСТНОГО СЛОЯ
Изобретение относится к металлокерамическим сплавам с металлическим связующим инструментального назначения и может быть использовано для изготовления высокоресурсного режущего инструмента и пар трения для экстремальных условий эксплуатации. Предложен металлокерамический сплав из карбида титана и никельхромалюминиевой связки (Ni-Cr-Al) с модифицированной структурой поверхности. Модифицированная структура поверхности получена путем облучения импульсным сильноточным электронным пучком в азотсодержащей плазме газового разряда. Поверхность сплава с модифицированной структурой содержит в виде структурно-фазовой составляющей наночастицы нитридов титана и алюминия. Наночастицы нитрида титана имеют преимущественно округлую форму с размерами в пределах 50 |
2459887 патент выдан: опубликован: 27.08.2012 |
|
УСТАНОВКА ДЛЯ КОМПЛЕКСНОЙ ИОННО-ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ
Изобретение относится к вакуумной ионно-плазменной технологии и может быть использовано, в частности, для обработки длинномерного инструмента (протяжки и др.). Установка содержит вакуумную камеру, электродуговой источник плазмы в виде расположенного в вакуумной камере, по меньшей мере, одного длинномерного электрода, держатель изделий с изолированным токоподводом, эмиттер электронов, выполненный в виде эмиссионной камеры, внутри которой установлен длинномерный линейный катод эмиттера электронов, сообщающейся с вакуумной камерой через перфорированную перегородку, отверстия которой расположены вдоль продольной оси упомянутого линейного катода. Источник питания вакуумно-дугового разряда выполнен с возможностью подключения отрицательного полюса к упомянутому линейному катоду или электроду, а положительного - к эмиссионной камере или вакуумной камере. Источник питания эмиттера электронов выполнен с возможностью подключения отрицательного полюса к эмиссионной камере, а положительного - к держателю изделий или к электроду. Технический результат: обеспечение равномерного прогрева длинномерных изделий посредством бомбардировки изделий ускоренным электронным потоком. 1 з.п. ф-лы, 2 ил. |
2453629 патент выдан: опубликован: 20.06.2012 |
|
УСТАНОВКА ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ
Изобретение относится к установке для нанесения покрытий в вакууме на рулонные материалы и может быть использовано в различных областях, например, при производстве электронных компонентов, магнитных носителей записывающих устройств, декоративных покрытий. Установка включает камеру напыления, камеру пушек, систему откачки воздуха, систему газонатекания, систему охлаждения, пневмосистему, систему электропитания и управления, устройство перемещения. Устройство перемещения выполнено с возможностью стыковки- расстыковки с камерой напыления. На устройстве перемещения расположены система подъема-опускания рулона обрабатываемого материала, а также система перемотки с механизмами намотки и размотки, охлаждаемыми и неохлаждаемыми роликами. Камера напыления оснащена, по меньшей мере, одним испарителем, защитными экранами, механизмами подачи испаряемого материала в виде слитка и в виде проволоки. При этом в непосредственной близости от испарителя и в камере пушек установлена система электромагнитного отклонения лучей. Установка позволяет равномерно наносить испаряемый материала в течение длительного и непрерывного процесса работы при увеличении коэффициента использования испаряемого материала. 3 ил. |
2391443 патент выдан: опубликован: 10.06.2010 |
|
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ КОМБИНИРОВАННОГО ТЕПЛОЗАЩИТНОГО ПОКРЫТИЯ НА ЛОПАТКИ ТУРБИН ГТД
Изобретение относится к машиностроению, а именно к способам нанесения комбинированных покрытий для защиты деталей ГТД от газовой и сульфидной коррозии. Способ включает хромоалитирование в порошковой смеси, последующую термовакуумную обработку путем закалки, напыление слоя керамики ZrO2-8Y 2O3 на входные кромки лопаток электронно-лучевым методом и диффузионный отжиг для окончательного формирования структуры покрытия. Перед диффузионным отжигом на слой керамики ZrO2-8Y2О 3 электронно-лучевым методом наносят слой керамики ZrO 2-11Y2O3-40Аl 2О3 толщиной 10-15 мкм. Диффузионный отжиг проводят с формированием структуры покрытия на входных кромках лопаток, состоящей из [ZrO2-11Y 2O3-40Аl2O 3]-(ZrO2-8V2 О3) - |
2349679 патент выдан: опубликован: 20.03.2009 |
|
ЗАЩИТНЫЙ ЭЛЕМЕНТ И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ
Изобретение относится к защитному элементу для защищенной от подделки бумаги, банкнот, удостоверений личности или иных аналогичных документов, к защищенной от подделки бумаге и ценному документу с таким защитным элементом, а также способу их изготовления. На основу осаждением из паровой фазы напыляют многокомпонентный испаряемый материал, переводимый в паровую фазу с помощью электронного луча или нагрева сопротивлением. Пары испаряемого материала осаждают на основе, образуя на ней покрытие, окрашенное в цвет благородного или драгоценного металла. Состав покрытия определяют посредством измерения в отраженном свете и при необходимости корректируют возможные отклонения состава покрытия от заданного значения путем изменения мощности, расходуемой на нагрев испаряемого материала, и/или энергии электронного луча. 5 н. и 29 з.п. ф-лы, 3 ил. |
2316429 патент выдан: опубликован: 10.02.2008 |
|
ФОКУСИРОВАННОЕ ОСАЖДЕНИЕ ПАРА
Изобретения относятся к области металлургии, в частности к способу и оборудованию электронно-лучевого испарения и осаждения материалов. Процесс испарения и процесс осаждения проводят в двух различных камерах, соединенных между собой отверстием. В камерах поддерживают различное давление. Вокруг отверстия создают кольцевую сверхзвуковую струю газа, поддерживающую перепад давлений между камерами и позволяющую потоку пара проходить через отверстие из одной камеры в другую. Процесс испарения проводят при давлении от 10-4 до 10-1 Па. Процесс осаждения проводят при давлении от 10-1 Па до атмосферного. Осаждение производится из струи газа, которая захватывает прошедший в отверстие пар, перемешивает его компоненты и фокусирует. Также предлагается оборудование для осуществления способа. Технический результат состоит в повышении коэффициента использования материала и получении однородных по химическому составу конденсатов при испарении из нескольких источников, содержащих различные материалы без снижения энергетического КПД процесса и усложнения оборудования, в возможности осаждения электронно-лучевых покрытий на внутреннюю поверхность изделий, а также осаждении покрытий в условиях низкого вакуума на Ni-, Со-, Ti- основе, содержащих до 20% W, Mo, Re и других тугоплавких металлов. 2 н. и 23 з.п. ф-лы, 8 ил. |
2277137 патент выдан: опубликован: 27.05.2006 |
|
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ВАКУУМНЫХ ПОКРЫТИЙ В ОТВЕРСТИЯХ Изобретение относится к области нанесения покрытий в вакууме, а точнее к нанесению покрытий способом электронно-лучевого нагрева испаряемого материала с одновременным его осаждением на внутренних поверхностях деталей сложной формы. Электронный пучок направляют перпендикулярно к поверхности массивного испарителя, расположенного горизонтально, непосредственно через покрываемые отверстия. Детали с покрываемыми отверстиями располагают на поверхности испарителя, обращенной к электронно-лучевой пушке. Оси отверстий ориентируют перпендикулярно этой поверхности. Отверстия закрываются с двух сторон масками. Маска, прилегающая к испарителю, имеет соосные отверстия, которые обеспечивают поступление паров на покрываемые поверхности. Маска, закрывающая деталь со стороны электронного пучка, выполняет функцию диафрагмы и ограничивает выход паров наружу из напыляемого объема. Для этого отверстия в ней сделаны минимально необходимыми для прохода через них сфокусированного электронного пучка. Технология способа позволяет повысить производительность и стабильность наносимого слоя. 1 ил. | 2211258 патент выдан: опубликован: 27.08.2003 |
|
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОЛЫХ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ОБЪЕКТОВ Изобретение относится к изготовлению металлических объектов с внутренними полостями сложной формы и может найти применение в различных отраслях машиностроения при изготовлении турбин, оптических систем лазеров и других. Изобретение позволяет получить покрытия требуемых толщины, физико-механических свойств и разные по химическому составу. Изготавливают основу требуемой конструкционной прочности и содержащую на поверхности выемки и/или канавки, соответствующие внутренним размерам конечного изделия. Наполняют выемки и канавки легко удаляемым материалом. Образуют многослойное внешнее покрытие заданной толщины способом электронно-лучевого напыления. Предварительно напыляют на основу тонкий слой легкоплавкого металла или материала, способного образовывать низкотемпературную эвтектику с напыляемым материалом внешнего покрытия. Затем осуществляют термопластическую обработку, в результате которой образуется оболочка с заданной стабильной и гомогенной структурой и многослоевым или постепенно изменяющимся составом. Удаляют легко удаляемый материал сублимацией во время термической обработки. 2 з.п. ф-лы, 3 ил., 2 табл. | 2210478 патент выдан: опубликован: 20.08.2003 |
|
СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ВАКУУМНЫХ ПОКРЫТИЙ НА РУЛОННЫЕ МАТЕРИАЛЫ Изобретения относятся к вакуумному напылению на рулонные материалы и могут использоваться для изготовления функциональных покрытий при производстве электронных компонентов, магнитных носителей записывающих устройств или декоративных покрытий в различных областях техники. Технический результат изобретения заключается в повышении производительности нанесения покрытия за счет увеличения скорости напыления из испарителя при одновременном улучшении охлаждения пленки. Балластный газ, перетекающий из пространства между пленкой и барабаном, откачивают в высоковакуумную камеру. Откачку перетекающего балластного газа осуществляют шлюзовой системой, окружающей камеру охлаждения. Давление балластного газа в пространстве между пленкой и барабаном поддерживают на уровне 103 - 104 Па. Усилие натяжения пленки выбирают таким, чтобы давление пленки на барабане и давление балластного газа были близки по величине. В качестве балластного газа используют гелий. В камере шлюзования поддерживают давление балластного газа, равное 10 Па. 2 с. и 3 з.п.ф-лы, 3 ил. | 2208658 патент выдан: опубликован: 20.07.2003 |
|
ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВАЯ УСТАНОВКА Изобретение относится к приборам для электронно-лучевой обработки объектов и может использоваться для обработки изделий электронным лучом как при вертикальном, так и при горизонтальном положении рабочей камеры и лучевого тракта, в том числе в условиях низкого вакуума в рабочей камере. Техническим результатом является стабилизация положения и размеров пучка в переходных режимах. В установке система транспортировки электронного пучка выполнена в виде секции, установленной с возможностью поступательно-вращательного перемещения относительно продольной оси вакуумного корпуса, в котором размещена триодная электронная пушка, на торцевом фланце секции транспортировки электронного пучка закреплен анод электронной пушки и в нее введены датчики контроля тока и положения пучка, а катодный блок пушки смонтирован с возможностью поворота на 90o относительно продольной оси вакуумного корпуса. Полюсные наконечники магнитной линзы, установленной на выходе вакуумного корпуса, совмещают функции системы дифференциальной откачки. Эти особенности конструкции обеспечивают эффективность технологического процесса в горизонтальном положении пушки и камеры, а также в условиях невысокого вакуума в зоне обработки изделий. 2 з.п. ф-лы, 4 ил. | 2192687 патент выдан: опубликован: 10.11.2002 |
|
СПОСОБ ВАКУУМНОГО НАПЫЛЕНИЯ ПЛЕНОК И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ Изобретение относится к вакуумной технике, в частности к вакуумному напылению пленок, и направлено на повышение качества напыляемых пленок за счет снижения расхода испаряемого материала и увеличения скорости испарения. Способ включает формирование электронного пучка, воздействие на него ускоряющим напряжением, испарение материала мишени электронным пучком и его осаждение на подложку, при этом осуществляют дополнительный нагрев материала мишени направленным тепловым излучением. Способ реализуется устройством, содержащим термокатод, экран, источник питания, цилиндрический нагревательный элемент, расположенный соосно со стержнем из сублимируемого материала и соединенный с ним и с положительной клеммой источника питания. 2 с. и 1 з. п.ф-лы, 1 ил. | 2190036 патент выдан: опубликован: 27.09.2002 |
|
СПОСОБ ИСПАРЕНИЯ И КОНДЕНСАЦИИ ТОКОПРОВОДЯЩИХ МАТЕРИАЛОВ Изобретение может быть использовано в авиационном и энергетическом газотурбиностроении. Способ включает вакуумно-дуговое испарение токопроводящего материала при наложении на поверхность испарения магнитного поля и при радиационном охлаждении испаряемого материала при температуре его нагрева на уровне от 0,3 температуры его плавления до температуры его разупрочнения путем регулирования температуры токопроводящего материала изменением тока вакуумной дуги и площади поверхности излучения испаряемого материала, генерацию плазмы токопроводящего материала вакуумной дугой и конденсацию этой плазмы с образованием покрытия на подложке. Изобретение позволяет повысить точность переноса состава многокомпонентных материалов при их конденсации при одновременном увеличении производительности. 1 табл. | 2164549 патент выдан: опубликован: 27.03.2001 |
|
СПОСОБ ЛОКАЛЬНОГО ЛАЗЕРНОГО НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНКИ Изобретение относится к области лазерной обработки материалов и может быть использовано в точном приборостроении, микроэлектронике, в изготовлении оптических и электронных элементов, в нанесении декоративных рисунков. Способ позволяет расширить класс материалов наносимых пленок. Способ включает перенесение материала донорной пленки, нанесенной на прозрачную для лазерного излучения подложку, на вторую подложку путем нагревания донорной пленки лазерным излучением через подложку, испарение материала второй подложки с ее поверхности пучком лазерного излучения, прошедшего через донорную пленку, причем толщину донорной пленки выбирают в соответствии с заданным массовым отношением материалов донорной пленки и второй подложки в составе осажденной пленки. 4 з.п. ф-лы, 1 ил. | 2117071 патент выдан: опубликован: 10.08.1998 |
|
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ПОВЕРХНОСТНЫХ СПЛАВОВ Изобретение относится к методам модификации поверхностных слоев материалов, в частности к способам формирования поверхностных сплавов с помощью концентрированных потоков энергии (КВЭ). Сущность изобретения: в испарении мишени с помощью импульсного КПЭ и одновременном воздействии этого же потока на подложку, на которой формируется сплав. При этом мишень размещают между источником КПЭ и подложкой, а в качестве концентрированного потока энергии используют импульсный электронный пучок, транспортируемый в ведущем магнитном поле с максимальной энергией электронов 10 - 100 кэВ и током I, причем I > Iп, где Iп - значение тока Пирса в области между мишенью и подложкой. 3 ил. | 2111281 патент выдан: опубликован: 20.05.1998 |
|
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЯ Использование: в металлургической промышленности для вакуумной металлизации поверхностей и синтеза неорганических пленок в пучково-плазменном разряде, в частности в устройствах для плазмохимического нанесения покрытия. Сущность изобретения: устройство для плазмохимического нанесения покрытия снабжено вакуумными сопротивлениями, а вакуумная камера 1 выполнена с вакуумным отсеком 6, разделенным с упомянутой камерой упомянутыми сопротивлениями. Электронная пушка 9 выполнена с системой катодов, обеспечивающих формирование не менее двух электронных пучков, и установлена в вакуумном отсеке 6 с возможностью направления электронных пучков через вакуумные сопротивления соответственно в зону расположения твердого тела для поддержания процесса его испарения и в зону обрабатываемого изделия для поддержания в ней процесса плазмообразования. 3 з.п. ф-лы, 2 ил. | 2096933 патент выдан: опубликован: 20.11.1997 |
|
ЭЛЕКТРОДУГОВОЙ ИСПАРИТЕЛЬ Электродуговой испаритель металлов и сплавов относится к области техники вакуумных электродуговых испарителей. В электродуговом испарителе создается неоднородное осесимметричное магнитное поле, имеющее по крайней мере два максимума, один из которых находится на рабочей поверхности катода, а другой - в плоскости выходного отверстия анода, а в области минимумов поля между анодом и катодом расположены промежуточные электроды, перекрывающие все линии прямого луча от рабочей поверхности катода к выходному отверстию анода, но не пересекающие силовые линии магнитного поля, проходящие через рабочую поверхность катода и выходное отверстие анода. 1 ил. | 2096520 патент выдан: опубликован: 20.11.1997 |
|
СПОСОБ ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТИ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ Сущность изобретения: способ плазменной обработки поверхности заключается в том, что используют по крайней мере два рабочих газа, вступающих в химическое взаимодействие при комнатной температуре, которые подают к обрабатываемой поверхности автономными потоками. Устройство для плазменной обработки поверхности содержит узел ввода рабочих газов, выполненный в виде корпуса, полость которого разделена на секции, число которых равно числу используемых газов. Каждая секция имеет входное отверстие и снабжена множеством каналов с выходными отверстиями, ориентированными к обрабатываемой поверхности и распределенными по заданному закону. 2 с. и 8 з.п. ф-лы, 1 ил. | 2094960 патент выдан: опубликован: 27.10.1997 |
|
ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВАЯ УСТАНОВКА Сущность изобретения: установка содержит откачиваемую технологическую камеру и электронную пушку, разделенные отверстием для транспортировки электронного луча, а также систему напуска рабочего газа. Новым является то, что выходное устройство системы напуска рабочего газа (отверстие, сопло, решетка и т.п.)<расположено со стороны пушки в пространстве перед отверстием для транспортировки электронного луча, давление рабочего газа в этом пространстве не менее, чем в 2,5 раза превышает давление в технологической камере, а размеры отверстия для транспортировки электронного луча удовлетворяют условию Кn <0,3, где Кn - критерий Кнудсена, причем в качестве рабочего газа выбран легкий газ с атомной массой не более 30. 1 з.п. ф-лы. | 2080684 патент выдан: опубликован: 27.05.1997 |
|
СПОСОБ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЯ Иcпользование: в плазменной технике, преимущественно в процессах вакуумной металлизации поверхности и синтеза неорганических пленок в пучково-плазменном разряде. Сущность изобретения: в рабочей камере размещают обрабатываемое изделие и мишень твердого неорганического вещества, камеру вакуумируют, напускают в нее рабочий газ и формируют в зоне обработки поверхности изделия паровой поток, полученный испарением твердого неорганического вещества стационарным электронным пучком, в камере формируют по меньшей мере один дополнительный электронный пучок, направляют его в зону обработки поверхности изделия, причем дополнительный электронный пучок пересекает паровой поток. Предусмотрена подача в дополнительный электронный пучок дополнительного твердого неорганического вещества, его испарение и направление на поверхность изделия потока химически активных частиц из смеси паров твердых веществ и рабочего газа. Предпочтительным является формирование дополнительного электронного пучка ленточной конфигурации. 2 з.п. ф-лы, 1 ил. | 2068029 патент выдан: опубликован: 20.10.1996 |
|
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ВАКУУМНОГО МЕТАЛЛИЗИРОВАННОГО ПОКРЫТИЯ НА ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ ПОДЛОЖКИ Сущность: способ включает бомбардировку подложки ионами газового разряда с одновременным напылением покрытия путем осаждения металла, испаренного в рабочей камере вакуумным методом. Бомбардировка подложки положительными ионами газового разряда чередуется с процессом облучения ультрафиолетовым излучением и потоком электронов. Способ обеспечивает увеличение адгезионной прочности контакта металлизированного покрытия и диэлектрической подложки, а также предотвращает возможность появления брака покрытия, являющегося следствием формирования объемного положительного заряда на поверхности подложки, за счет компенсации объемного положительного заряда, усиления процессов очистки поверхности от гидроксильных групп, органических загрязнений, а также за счет химической активации поверхности. | 2052538 патент выдан: опубликован: 20.01.1996 |
|
СПОСОБ ВАКУУМНОГО КОНДЕНСАЦИОННОГО НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ
Использование: для получения защитных и декоративных покрытий различного назначения в области металлургии. Сущность изобретения: способ позволяет повысить эффективность испарения за счет сокращения удельных энергозатрат. Для этого, создавая поток пара путем бомбардировки распыляемой мишени сканирующим по ее поверхности электронным пучком и направляя поток пара на подложку с последующей его конденсацией и образованием покрытия, осуществляют фиксацию электронного пучка в каждом из обрабатываемых точек мишени в течение времени t, задаваемого зависимостью ![]() ![]() ![]() |
2033475 патент выдан: опубликован: 20.04.1995 |
|