Покрытие вакуумным испарением, распылением металлов или ионным внедрением материала, образующего покрытие: ...триодное распыление – C23C 14/42
Патенты в данной категории
| УСТРОЙСТВО ДЛЯ ХИМИКО-ТЕРМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ДЕТАЛЕЙ В НЕСАМОСТОЯТЕЛЬНОМ ТЛЕЮЩЕМ РАЗРЯДЕ
Изобретение относится к области химико-термической обработки металлов, а именно к устройствам для обработки деталей в несамостоятельном тлеющем разряде и может быть использовано в машиностроении, автостроении и арматуростроении. Устройство содержит вакуумную камеру, подложку для размещения деталей, источник питания, соединенный отрицательным полюсом с подложкой, положительным - с корпусом камеры, термоэмиссионный электрод, второй источник питания, соединенный отрицательным полюсом с термоэмиссионным электродом, положительным - с корпусом камеры. Устройство также содержит дополнительный полый цилиндрический электрод и дополнительный регулируемый источник постоянного напряжения. Внутренний диаметр дополнительного электрода превышает геометрические размеры обрабатываемой детали и обеспечивает угол падения ионного потока на поверхность обрабатываемой детали от нуля до критического. При этом дополнительный электрод коаксиально расположен между термоэмиссионным электродом и обрабатываемой деталью. Дополнительный регулируемый источник постоянного напряжения отрицательным полюсом соединен с подложкой, а положительным - с дополнительным электродом. Технический результат - повышение предела выносливости деталей и снижение энергозатрат. 1 ил. |
2355817 патент выдан: опубликован: 20.05.2009 |
|
| ТРИОДНЫЙ СПОСОБ КАТОДНО-ПЛАЗМЕННОГО АЗОТИРОВАНИЯ ДЕТАЛЕЙ С ОТВЕРСТИЯМИ
Изобретение относится к химико-термической обработке, в частности к ионному азотированию. Способ включает азотирование при низком давлении с напряжением смещения, которое создают между деталью и горячим электродом. Вокруг вакуумной камеры создают вращающееся магнитное поле, амплитудное значение магнитной индукции которого определяют из соотношения: |
2279496 патент выдан: опубликован: 10.07.2006 |
|
| УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОБРАБОТКИ ОТВЕРСТИЙ ДЕТАЛЕЙ В РАЗРЯДЕ В УСЛОВИЯХ НИЗКОГО ДАВЛЕНИЯ Устройство относится к электротермическому машиностроению, в частности к вакуумным установкам для нанесения покрытий в разряде. Техническим результатом является повышение глубины и равномерности обработки в разряде отверстий малого диаметра. Устройство содержит вакуумную камеру и подложку для размещения деталей, источник питания, соединенный отрицательным полюсом с подложкой, положительным - с корпусом камеры, термоэмиссионный электрод, второй источник питания, соединенный отрицательным полюсом с термоэмиссионным электродом, положительным - с корпусом камеры, дополнительный полый цилиндрический электрод, коаксиально расположенный между термоэмиссионным электродом и отверстием в обрабатываемой детали, а также дополнительный регулируемый источник постоянного напряжения, отрицательный полюс которого соединяется с подложкой, а положительный с дополнительным электродом. 1 з.п. ф-лы, 1 ил. | 2173353 патент выдан: опубликован: 10.09.2001 |
|
| КАТОДНЫЙ УЗЕЛ Сущностью изобретения является катодный узел, в котором элементы напуска газа выполнены в виде двух блоков, расположенных по периферии электрода-мишени, совмещенного с подложкой. Блоки выполнены с возможностью последовательной подачи через них инертных и активных газов посредством золотниковой системы, магнитная система выполнена с возможностью регулирования индукции магнитного поля от нуля до максимальной эксплутационной величины. Подложка имеет трафарет, установленный с возможностью перемещения относительно подложки. 1 з.п. ф-лы 4 ил. | 2089661 патент выдан: опубликован: 10.09.1997 |
|
| КАТОДНЫЙ УЗЕЛ ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК В ВАКУУМЕ Сущностью изобретения является катодный узел для получения тонких пленок в вакууме. При выполнении технологического процесса в вакууме происходит перемещение магнитной системы 2 по мере наращивания пленки на локальном участке посредством устройства перемещения 12. При этом ввиду предварительной регулировки зазоров в магнитной системе 2 с неподвижным ярмом 8 посредством перемещения сердечников 6, 7, выполненных в виде набора уголков, относительно ярма с помощью передачи винт-гайка 10, индукция магнитного поля является величиной постоянной на всей протяженности магнитной системы. Величину индукции магнитного поля можно изменять изменением тока в цепи катушки индуктивности 9. Устройство обеспечивает равномерность поля. 3 ил. | 2089660 патент выдан: опубликован: 10.09.1997 |
|
| УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ЗАЩИТНО-ДЕКОРАТИВНЫХ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ ИОННО-ПЛАЗМЕННЫМ НАПЫЛЕНИЕМ Существо изобретения заключается в том, что устройство для получения защитно-декоративных покрытий в вакууме методом ионно-плазменного напыления содержит вакуумную камеру, внутри которой расположены мишень источника напыляемого материала, анод, термоэмиссионный катод, держатель покрываемых изделий, экран-заслонку, а также источник рабочего газа и, по крайней мере, в частном случае один источник реакционных газов. Мишень выполнена в виде двух кругообразных элементов, электрически соединенных и установленных параллельно. Анод выполнен в виде одного или двух электрически соединенных колец, соосных цилиндрическому каркасу, причем анод соединен с первым источником регулируемого постоянного напряжения, мишень источника напыляемого материала соединена со вторым источником регулируемого напряжения, катод соединен с источником регулируемого напряжения, а источники рабочего и реакционного газов соединены с внутренней полостью вакуумной камеры. Устройство отличается оригинальной конструкцией источника напыляемого материала и анода и предусматривает наличие между термоэмиссионным катодом и держателем экрана-заслонки, что устраняет в неравномерность концентрации ионов в области между катодом и анодом и исключает нежелательные неоднородности в оттенке покрытия. 6 з.п.ф., 1 ил. | 2065890 патент выдан: опубликован: 27.08.1996 |
|