Покрытие вакуумным испарением, распылением металлов или ионным внедрением материала, образующего покрытие: ...с помощью ионного луча, получаемого от внешнего ионного источника – C23C 14/46

МПКРаздел CC23C23CC23C 14/00C23C 14/46
Раздел C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
C23 Покрытие металлических материалов; покрытие других материалов металлическим материалом; химическая обработка поверхности; диффузионная обработка металлического материала; способы покрытия вакуумным испарением, распылением, ионным внедрением или химическим осаждением паров вообще; способы предотвращения коррозии металлического материала, образования накипи или корок вообще
C23C Покрытие металлического материала; покрытие других материалов металлическим материалом; поверхностная обработка металлического материала диффузией в поверхность путем химического превращения или замещения; способы покрытия вакуумным испарением, распылением, ионным внедрением или химическим осаждением паров вообще
C23C 14/00 Покрытие вакуумным испарением, распылением металлов или ионным внедрением материала, образующего покрытие
C23C 14/46 ...с помощью ионного луча, получаемого от внешнего ионного источника

Патенты в данной категории

ИЗНОСОСТОЙКОЕ НАНОСТРУКТУРНОЕ ПОКРЫТИЕ

Изобретение относится к наноэлектронике и наноэлектромеханике и может быть использовано в различных областях современной наноиндустрии, микроэлектронике, альтернативной энергетике и т.д. Износостойкое наноструктурное покрытие выполнено из нанокомпозиционного металл-керамического материала, полученного на ситалловой подложке ионно-лучевым распылением, и имеет структуру, состоящую из гранул металлической фазы со средним диаметром 2-4 нм, изолированных металлической фазой, при этом концентрация металлической фазы составляет 30-56 ат.%. Техническим результатом изобретения является создание наноструктурного металл-керамического покрытия, обладающего высокой износостойкостью и стабильностью параметров. 1 пр., 1 ил.

2521914
патент выдан:
опубликован: 10.07.2014
НАНОСТРУКТУРНОЕ ПОКРЫТИЕ

Изобретение относится к наноэлектронике и наноэлектромеханике и может быть использовано в различных областях современной наноиндустрии, микроэлектронике, альтернативной энергетике и т.д. Наноструктурное покрытие выполнено из нанокомпозиционного металл-керамического материала состава (CO86Nb12Ta2 )x(SiOn)100-x, полученного на

ситалловой подложке ионно-лучевым распылением и имеющего структуру, состоящую из гранул металлической фазы со средним диаметром 2-4 нм, изолированных сплошной керамической фазой, при этом концентрация металлической фазы составляет 20-40 ат.%. 1 з.п. ф-лы, 1 ил.

2515733
патент выдан:
опубликован: 20.05.2014
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ НАНОСТРУКТУРНОГО ПОКРЫТИЯ

Изобретение относится к технологии нанесения наноструктурных покрытий и может быть использовано в наноэлектронике и наноэлектромеханике. Покрытие получают из композита металл-керамика состава (Co 86Nb12Ta2)x(SiOn )100-x. Осуществляют осаждение композита ионно-лучевым распылением с обеспечением образования гранул металлической фазы со средним диаметром 2-4 нм, изолированных сплошной керамической фазой. Концентрацию металлической фазы при распылении выбирают в пределах 20 - 40 ат.%. Получаемые покрытия обладают высокой твердостью и характеризуются высокой стабильностью параметров. 1 з.п. ф-лы, 1 ил., 1 пр.

2515600
патент выдан:
опубликован: 20.05.2014
ТРУЩАЯСЯ ДЕТАЛЬ В СМАЗОЧНОЙ СРЕДЕ, РАБОТАЮЩАЯ ПРИ КОНТАКТНОМ ДАВЛЕНИИ, ПРЕВЫШАЮЩЕМ 200 МПа

Трущаяся в смазочной среде деталь предназначена для работы при контактном давлении, превышающем 200 МПа. Поверхность детали текстурируют и до или после текстурирования подвергают обработке поверхностного упрочнения для снижения коэффициента трения поверхности детали. Поверхность имеет периодичную сеть микрометрических полостей, большая длина которых составляет от 5 до 500 мкм, а период меньше половины ширины контактирующей поверхности. Глубина упомянутых полостей меньше или равна 3 мкм, что способствует переходу в режим эласто- гидродинамического смазывания. 4 н. и 14 з.п. ф-лы, 4 ил., 3 пр.

2466307
патент выдан:
опубликован: 10.11.2012
СПОСОБ ТЕРМООБРАБОТКИ КОНСТРУКТИВНОГО ЭЛЕМЕНТА ИЗ ПРОКАЛИВАЕМОЙ ЖАРОСТОЙКОЙ СТАЛИ И КОНСТРУКТИВНЫЙ ЭЛЕМЕНТ ИЗ ПРОКАЛИВАЕМОЙ ЖАРОПРОЧНОЙ СТАЛИ

Изобретение относится к области термообработки. Конструктивный элемент из прокаливаемой жаростойкой стали подвергают термообработке, включающей прокаливание конструктивного элемента, закалку его граничного слоя, отпуск и дополнительное низкотемпературное охлаждение, при этом прокаливание конструктивного элемента и плазменно-ионную закалку граничного слоя производят за один производственный этап путем нагрева конструктивного элемента до общей температуры закалки и диффузии TH+D выше верхней критической температуры Ас3, осуществляют выдержку при этой температуре до полной аустенизации и освобождения содержащегося углерода, а также до желаемого насыщения граничного слоя диффузионным элементом. Конструктивный элемент обладает высокой прочностью, вязкостью, большей твердостью граничного слоя и, вследствие этого, повышенным пределом усталости. 2 н. и 11 з.п. ф-лы, 3 ил.

2366746
патент выдан:
опубликован: 10.09.2009
СПОСОБ ОБРАБОТКИ ВОЛОСЯНОГО ПОКРОВА МЕХА

Изобретение относится к способам обработки волосяного покрова меха и может быть использовано для повышения эксплуатационных свойств меховых полуфабрикатов и изделий. Способ включает ионное воздействие на мишень и напыление частиц материала мишени на волосяной покров меха. Ионное воздействие на мишень осуществляют регулируемым сфокусированным ионным пучком. Причем мишень устанавливают под углом 40-80° к регулируемому сфокусированному ионному пучку. Регулируемый сфокусированный ионный пучок создают источником ионов. В качестве источника ионов используют холловский ускоритель с замкнутым дрейфом электронов. Технический результат - расширение возможностей управления течением рабочего процесса нанесения покрытия, получение большего разнообразия цветов и оттенков на меховых изделиях. 2 з.п. ф-лы, 1 ил.

2346079
патент выдан:
опубликован: 10.02.2009
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ МНОГОСЛОЙНЫХ ОПТИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ

Изобретение относится к устройству для нанесения многослойных оптических покрытий и может быть использовано при изготовлении лазерной техники при создании просветляющих и отражающих покрытий на торцевых поверхностях полупроводниковых лазеров. Устройство содержит две размещенные в вакуумной камере мишени и два формирователя ионного пучка. В вакуумной камере размещен многоканальный загрузочный порт (МЗП) с подложками. Пары формирователь ионного пучка и мишень расположены по разные стороны (МЗП). Формирователь потока активного газа выполнен с возможностью формирования более одного потока и осуществления подачи потоков частиц активного газа на разные стороны (МЗП). (МЗП) выполнен с возможностью изменения положения подложек и переориентации их рабочих поверхностей относительно пар формирователь ионного пучка и мишень. В каждой упомянутой паре мишени выполнены в виде элементов, составляющих блок мишеней с возможностью их взаимной смены или смены на предназначенную для очистки отражающую мишень. Блок автоматизированного управления электрически связан с формирователями пучка, блоками мишеней, формирователем потоков активного газа и (МЗП). Изобретение направлено на повышение производительности технологического процесса и повышение воспроизводимости процесса нанесения покрытий в непрерывном технологическом режиме. 9 з.п. ф-лы, 6 ил.

2312170
патент выдан:
опубликован: 10.12.2007
УСТАНОВКА ДЛЯ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОГО НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ

Изобретение касается вакуумной металлургии и может быть использовано при нанесении покрытий на изделия со сложным профилем. Установка содержит технологическую камеру, в которой расположены тигли и электронные пушки, форкамеры для загрузки-разгрузки кассет с изделиями, которые покрываются. Кассета для покрываемых изделий состоит из нижней неподвижной конической шестерни, вертикальной опоры, вала, верхней подвижной конической шестерни и конических шестерен для закрепления на них покрываемых изделий. Нижняя коническая шестерня установлена на вертикальной опоре, внутри которой размещен с возможностью вращения и зацепления с верхней подвижной конической шестерней вал. Между подвижной и неподвижной коническими шестернями установлены конические шестерни для закрепления на них покрываемых изделий. Устройство позволяет получать защитные покрытия почти всех типов, а также металлические, металлокерамические, силицидные покрытия градиентного и микрослойного типов. 4 з.п. ф-лы, 5 ил.

2265078
патент выдан:
опубликован: 27.11.2005
ПОРИСТЫЕ ГАЗОПОГЛОТИТЕЛЬНЫЕ УСТРОЙСТВА СО СНИЖЕННОЙ ПОТЕРЕЙ ЧАСТИЦ И СПОСОБ ИХ ИЗГОТОВЛЕНИЯ

Изобретение относится к способу изготовления пористых газопоглотительных устройств с пониженной потерей частиц и к устройствам, изготавливаемым этим способом. Предложенный способ включает формирование покрытия с толщиной по меньшей мере 0,5 мкм на поверхности пористого газопоглотительного тела. Покрытие формируют из материала, совместимого с условиями использования газопоглотительного устройства и выбранного из числа переходных металлов, редкоземельных элементов и алюминия, путем испарения, осаждения из генерируемой дуговым разрядом плазмы, осаждения из ионного пучка или катодного осаждения, при этом частицы газопоглотительного тела покрывают покрытием частично на внешней поверхности указанного газопоглотительного тела. Предложенное устройство изготавливают заявленным способом. Техническим результатом изобретения является разработка способа, обеспечивающего изготовление пористых газопоглотительных устройств со сниженной потерей частиц. 2 н. и 17 з.п. ф-лы, 3 ил.

2253695
патент выдан:
опубликован: 10.06.2005
ИОННО-ЛУЧЕВАЯ УСТАНОВКА ВЫРАВНИВАНИЯ ПОВЕРХНОСТИ ОКСИДНЫХ МАТЕРИАЛОВ

Изобретение относится к ядерной технике и может быть использовано для выравнивания поверхности оксидных материалов. Установка содержит вакуумную камеру, в которой размещены источник ионов, компенсатор объемного заряда, мишень из оксидного материала, одинакового с материалом подложки, нагреватель. Подложка и мишень установлены противоположно источнику ионов и обращены одна к другой. Имеется сепаратор ионов, состоящий из наружного и внутреннего токопроводящих раструбов. Раструбы сужаются по дугам круговых орбит ионов и размещены один в другом с совмещением в широкой части каждого раструба. Поперечные сечения раструбов уменьшаются от области совмещения к противоположному концу каждого раструба. Раструбы имеют продольные прорези в плоскости симметрии раструбов. Сепаратор расположен последовательно с компенсатором объемного заряда. Мишень установлена у торца внутреннего раструба. Подложка установлена у торцов узких частей внутреннего и наружного раструбов. Изобретение позволяет выравнивать локальные участки поверхности оксидных материалов, наносить ленточное и точечное покрытие на подложку. 3 ил.
2217527
патент выдан:
опубликован: 27.11.2003
ИОННО-ЛУЧЕВАЯ УСТАНОВКА ВЫРАВНИВАНИЯ ПОВЕРХНОСТИ ОКСИДНЫХ МАТЕРИАЛОВ

Изобретение относится к ядерной технике и может быть использовано для выравнивания поверхности оксидных материалов. Установка содержит вакуумную камеру, в которой размещены источник ионов, компенсатор объемного заряда, мишень из оксидного материала, одинакового с материалом подложки, нагреватель. Подложка и мишень установлены противоположно источнику ионов и обращены одна к другой. Имеется сепаратор ионов, состоящий из наружной и внутренней токопроводящих труб. Трубы изогнуты по дугам и расположены одна в другой в порядке возрастания радиусов изгиба в направлении от места общего внутреннего касания вблизи компенсатора объемного заряда. Со стороны наименьшего радиуса изгиба каждой трубы в плоскости симметрии труб расположены щелевые прорези. Мишень установлена у торца внутренней трубы сепаратора ионов. Подложка установлена у торцов наружной и внутренней труб. Изобретение позволяет выравнивать локальные участки поверхности оксидных материалов, наносить ленточное и точечное покрытие на подложку. 3 ил.
2217526
патент выдан:
опубликован: 27.11.2003
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ УПРОЧНЯЮЩИХ ПОКРЫТИЙ

Изобретение относится к электротермии, в частности к устройствам для нанесения вакуумных ионно-плазменных покрытий. Технический результат от использования изобретения состоит в повышении коэффициента использования реакционных газов, снижении температуры нагрева деталей ионной бомбардировкой, уменьшении количества "микрокапельной" фазы, избежании формирования переходной зоны со столбчатой структурой. Реакционная камера имеет дверцу и патрубок для присоединения вакуумной системы. Катодные узлы состоят из катода и токоподводящей трубы. Каждый катодный узел имеет патрубки для подачи и забора воды и трубку для подвода реакционного газа, расположенную в токоведущей трубе. Внутри катода выполнен канал, сообщающийся с трубкой для подвода реакционного газа в форме конуса с вершиной, обращенной к этой трубке. 2 ил.
2210618
патент выдан:
опубликован: 20.08.2003
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ КОНТАКТОВ ВАКУУМНОЙ ДУГОГАСИТЕЛЬНОЙ КАМЕРЫ

Изобретение относится к области электротехники, а именно к технологии изготовления контактов вакуумной дугогасительной камеры. Способ включает предварительное приготовление порошковой смеси по крайней мере из двух порошковых компонентов - проводящего и термостойкого, помещение заготовки из материала с высокой электропроводностью в вакуумную камеру и нанесение покрытия из порошковой смеси методом электронно-лучевой наплавки. Изобретение направлено на улучшение качества контактов за счет получения мелкодисперсного и обезгаженного контактного материала. 1 табл.
2200210
патент выдан:
опубликован: 10.03.2003
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИОННОЙ ОБРАБОТКИ МАТЕРИАЛОВ

Изобретение относится к устройствам электронно-ионной технологии, в частности к газоразрядным устройствам для ионной очистки и травления материалов, и может найти применение при изготовлении элементной базы микроэлектроники из многокомпонентных материалов. Технологический результат - повышение производительности обработки. Устройство для ионной обработки материалов содержит генератор плазмы, извлекающие электрод с расположенной на нем подложкой, средства откачки и натекания газа, между генератором плазмы и извлекающим электродом введена газовая камера с пролетными отверстиями, диаметр которых меньше пролетного размера камеры, а в генератор плазмы введен коллектор, на который помещен материал подложки. 1 ил.
2187168
патент выдан:
опубликован: 10.08.2002
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ

Изобретение относится к нанесению однослойных и многослойных покрытий различного функционального значения на детали большого диапазона размеров. Устройство содержит вакуумную камеру, откачную систему, узел крепления деталей, плазменные источники материала покрытий, источник газовых ионов, систему подачи газов, источники питания и блок управления, при этом источники материала покрытий расположены на вакуумной камере в несколько ярусов с одинаковым их количеством в каждом ярусе и с возможностью взаимного перекрытия плазменных потоков материала покрытий в зоне крепления деталей, а источник газовых ионов имеет центральный и наружный катоды, образующие замкнутую вытянутую щель выпуска потока ионов, длина которой соответствует расстоянию между нижними и верхними ярусами источников нанесения покрытий. Изобретение позволяет повысить производительность и качество нанесения покрытий. 2 з.п. ф-лы, 2 ил.
2155242
патент выдан:
опубликован: 27.08.2000
СПОСОБ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТИ

Изобретение предназначено для упрочнения резьбовых поверхностей и трущихся поверхностей. Способ обработки поверхности включает нанесение покрытия из тугоплавких соединений и обработку покрытия высококонцентрированным источником энергии, пучками докритических энергий до исключения пластичной составляющей в поверхностной зоне слоя покрытия. 2 з. п. ф-лы, 3 ил.
2110607
патент выдан:
опубликован: 10.05.1998
СПОСОБ ОБРАБОТКИ ИЗДЕЛИЙ ИСТОЧНИКОМ ИОНОВ

Использование: для обработки изделий в вакууме с целью очистки их поверхности, для повышения адгезии наносимых покрытий, а также для травления и ионной фрезеровки изделий, полировки поверхности, распыления любых материалов, упрочнения и модификации поверхности имплантацией ионов. Сущность изобретения: в вакуумной камере посредством источника ионов формируют ионный пучок. Напротив эмиссионной поверхности источника устанавливают обрабатываемое изделие. При этом последнее размещают от эмиссионной поверхности источника ионов на расстоянии L, превышающем длину свободного пробега ионов в режиме их перезарядки. В результате перезарядки пучок положительно заряженных ионов трансформируется в пучок нейтральных атомов без заметных изменений направления и величины скорости частиц. Процентное содержание нейтральных атомов в пучке по отношению к заряженным ионам можно сделать сколь угодно большим, варьируя расстояние L и давление газа в камере. Процесс не зависит от потенциала поверхности изделия, заряжаемой оставшимися в пучке ионами. Снижению величины этого потенциала способствуют электроны из слоя синтезированной плазмы, прилегающей к эмиссионной поверхности источника ионов. Быстрые нейтральные атомы в пучке осуществляют распыление диэлектрической мишени с энергией, практически равной энергии первичного пучка ионов.
2071992
патент выдан:
опубликован: 20.01.1997
ИМПУЛЬСНЫЙ ЛАЗЕРНЫЙ ИСПАРИТЕЛЬ С СЕПАРАЦИЕЙ ИОНОВ

Изобретение относится к электронной технике, в частности к технологическим устройствам для осаждения многослойных тонкопленочных структур испарением исходных материалов в вакууме. Для создания энергетически монохроматичного пучка ионов, испаряемого материала, имеющих одинаковую массу, заряд и энергию, в импульсном лазерном испарителе, содержащем импульсный лазер, объектив, систему сканирования лазерным лучом, механизм смены мишеней новым является то, что зона дрейфа и спаренных частиц расположена внутри сепаратора ионов, на выходе которого вдоль оси движения испаренных ионов последовательно размещены системы дополнительной ионизации частиц, замедляющего поля, ускоряющего поля, причем выход последней соединен со входом следующего дополнительного сепаратора ионов, а каскад, подключенный к выходу сепаратора и состоящий из системы дополнительной ионизации, систем замедляющего поля и ускоряющего поля дополнительного сепаратора повторяются неоднократно. 2 з.п. ф-лы. 1 ил.
2070611
патент выдан:
опубликован: 20.12.1996
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОЧНОГО ПОКРЫТИЯ

Использование: для упрочнения режущего инструмента, увеличения износостойкости трущихся деталей, защиты от агрессивных сред, повышенных температур и т. д. Сущность изобретения: на поверхность изделия в вакууме наносят покрытие распылением керамической мишени компенсированным ионным пучком инертного или химически активного вещества или комбинацией этих веществ. Производят предварительную обработку этим же ионным пучком поверхности изделия. Во время нанесения покрытия на поверхность изделия часть ионного пучка направляют непосредственно на обрабатываемую поверхность изделия. 1 ил.
2052540
патент выдан:
опубликован: 20.01.1996
УСТРОЙСТВО ДЛЯ РАСПЫЛЕНИЯ МАТЕРИАЛОВ В ВАКУУМЕ

Использование: в ионно-лучевом нанесении материалов, в оптической, электронной и др. отраслях промышленности при получении покрытий из дорогостоящих либо токсичных материалов. Сущность изобретения: в устройстве используется ионный источник, пучок которого распыляет мишень, выполненную в форме собирающего рефлектора, а держатель подложек установлен относительно источника и мишени так, чтобы обеспечить фокусировку максимума индикетрисы потока распыляемого материала мишени на обрабатываемой поверхности подложки. 11 з.п.ф-лы, 4 ил.
2049152
патент выдан:
опубликован: 27.11.1995
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЯ

Использование: изобретение относится к производству изделий, где требуется улучшенная отделка, защита от агрессивных сред, повышенных температур и повышенная износостойкость. Сущность изобретения: поверхность изделия предварительно обрабатывают ионным пучком инертного вещества в вакууме, затем по крайней мере один раз наносят на обрабатываемую поверхность, бомбардируя соответствующую мишень ионным пучком, слой металла или керамики, на который наносят, бомбардируя соответствующую мишень ионным пучком, слой соответственно керамики или металла, причем все стадии процесса проводят, не ухудшая вакуумных условий, при постоянном остаточном давлении в технологическом объеме вакуумной камеры. 1 ил.
2037563
патент выдан:
опубликован: 19.06.1995
СПОСОБ ХИМИКО-ТЕРМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ИЗДЕЛИЙ ИОННО- ПЛАЗМЕННЫМ МЕТОДОМ В СРЕДЕ РЕАКЦИОННОГО ГАЗА

Использование: в области вакуумно-плазменной обработки изделий, в частности для упрочняющей обработки инструмента и деталей машин. Сущность изобретения: химико-термическую обработку изделий осуществляют погружением последних в газовую плазму, инициируемую электрическим разрядом с последующими очисткой, нагревом и выдержкой в заданном температурном режиме, при этом выдержку в заданном температурном режиме осуществляют при одновременном воздействии на изделие направленного пучка ускоренных частиц, генерируемых автономным ионным источником.
2036245
патент выдан:
опубликован: 27.05.1995
СПОСОБ КОМБИНИРОВАННОЙ ИОННО-ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ ИЗДЕЛИЙ

Использование: в вакуумно-плазменной технологии обработки изделий, в частности для упрочняющей поверхностной обработки инструмента и деталей машин посредством нанесения тонкопленочных покрытий. Сущность изобретения: способ комбинированной обработки включает погружение изделия в плазму, инициируемую электрическим разрядом, с последующей химико-термической обработкой. После химико-технологической обработки осуществляет обработку поверхности изделия направленным пучком ускоренных частиц, которые генерируются автономным ионным источником. Заключительной операцией является нанесение слоя покрытия на поверхность изделия. Данная последовательность операций позволяет повысить адгезионную связь покрытия с поверхностью изделия и, как следствие, повышает износостойкость изделий в целом.
2029796
патент выдан:
опубликован: 27.02.1995
Наверх