Способы удаления металлического материала с поверхностей, не предусмотренные в группах ,1/00 или ,3/00: .физическим растворением – C23F 4/04
Раздел C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
C23 Покрытие металлических материалов; покрытие других материалов металлическим материалом; химическая обработка поверхности; диффузионная обработка металлического материала; способы покрытия вакуумным испарением, распылением, ионным внедрением или химическим осаждением паров вообще; способы предотвращения коррозии металлического материала, образования накипи или корок вообще
C23F Немеханическое удаление металлического материала с поверхности; способы ингибирования коррозии металлического материала; ингибирование образования накипи вообще; многоступенчатые процессы для поверхностной обработки металлического материала, включающие по меньшей мере один способ, предусмотренный в классе C23, и по меньшей мере один способ, охватываемый подклассом C21D или C22F или классом C25
C23F 4/04 .физическим растворением
Патенты в данной категории
| ЭКСТРАГЕНТ ДЛЯ ВЫДЕЛЕНИЯ ИОНОВ МЕТАЛЛОВ ИЗ ВОДНЫХ РАСТВОРОВ
Изобретение относится к аналитической химии, а именно к экстракционным методам извлечения и концентрирования ионов металлов из водных растворов, и может быть использовано для их выделения в гибридных и комбинированных методах анализа. Изобретение основано на способности ионов металлов экстрагироваться в расслаивающейся системе вода - хлорид аммония - полиэтиленгликолевые эфиры моноэтаноламидов синтетических жирных кислот (синтамид-5) общей формулы C nH2n+1CONH(CH2 CH2O)mH (n=10-16; m=5-6) при следующем соотношении компонентов, мас.%: хлорид аммония - 2-25; синтамид-5 - 5-45; вода - до 100. Изобретение позволяет количественно выделять ионы таллия(III) и галлия из водных растворов и при этом избежать применения пожароопасных и токсичных веществ. 1 табл., 2 ил. |
2333028 патент выдан: опубликован: 10.09.2008 |
|
| СПОСОБ ЭЛЕКТРОПОЛИРОВКИ МЕТАЛЛОВ В ГАЗОВОЙ СРЕДЕ
Использование: сглаживание поверхности металлических деталей вакуумных и высоковольтных устройств. Сущность изобретения: способ электрополировки металлов в газовой среде предусматривает помещение обрабатываемой детали в вакуумную камеру и создание высокой напряженности электрического поля у ее обрабатываемой поверхности. При этом в вакуумную камеру вводят дополнительное вещество-посредник, в частности воду, облегчающее удаление атомов, выступающих над поверхностью. Ведут процесс полировки, поддерживая напряженность электрического поля у обрабатываемой поверхности на уровне 10 8-5·109 В/м, т.е. меньше, чем требуется для полевого испарения материала. Техническим результатом изобретения является возможность снижения на порядок величины электрического напряжения, необходимого для получения атомарно-гладкой поверхности. 1 ил.
|
2252273 патент выдан: опубликован: 20.05.2005 |
|
| СПОСОБ ОЧИСТКИ ПОВЕРХНОСТИ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ИЗДЕЛИЙ Изобретение относится к очистке поверхности металлических изделий. Способ включает воздействие на поверхность дуговым разрядом в импульсно-частотном режиме при пониженном давлении, при этом предварительно возбуждают маломощные дуговые разряды постоянного тока между дополнительными электродами и очищаемым изделием, на которые далее воздействуют основным импульсно-частотным разрядом, возбуждаемым в ионизированных межэлектродных промежутках маломощных дуговых разрядов, причем энергия основного разряда составляет 0,50-0,60 Дж при давлении 105-10-4 Па, а частота - 1-1000 Гц. Изобретение направлено на повышение эффективности импульсного режима очистки поверхности металлических изделий. 1 ил. | 2170283 патент выдан: опубликован: 10.07.2001 |
|
| СПОСОБ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТИ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ИЗДЕЛИЙ Изобретение может быть использовано в авиационном и энергетическом турбиностроении для ионного травления с целью контроля макроструктуры, прецизионного удаления поверхностных слоев или повышения служебных характеристик материалов. Способ включает предварительную очистку поверхности, размещение в зоне обработки изделия и токопроводящего материала, создание вакуума в зоне обработки изделия, подачу отрицательного потенциала на изделие и отдельно на токопроводящий материал, возбуждение на токопроводящем материале вакуумной дуги, горящей в парах этого материала с образованием плазмы, обработку поверхности методом ионного травления путем подбора тока вакуумной дуги токопроводящего материала и отрицательного потенциала на изделии более 300 В таким образом, чтобы обеспечить температуру поверхности изделия, не превышающую температуру начала разупрочнения материала изделия или начала термической диффузии элементов плазмы токопроводящего материала в поверхность материала изделия. Изобретение направлено на повышение скорости травления и исключение изменения свойств материала изделия из-за накопления в поверхностном слое ионов токопроводящего материала. 2 з. п. ф-лы, 1 табл. | 2165474 патент выдан: опубликован: 20.04.2001 |
|
| СПОСОБ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТИ ИЗДЕЛИЙ ДУГОВЫМ РАЗРЯДОМ В ВАКУУМЕ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ Изобретение может относиться к области очистки и обработки деталей в вакууме на различных этапах технологического процесса. Способ включает возбуждение разряда, обработку поверхности катодными пятнами дуги и перемещение их вдоль участка обработки, при этом исходное изделие сложной формы вводят в зону обработки и выводят из зоны обработки с помощью механизма перемещения, над обрабатываемой поверхностью изделия формируют магнитное поле различной конфигурации, воздействуют им на другой разряд, перемещают отрицательный электрод по обрабатываемой поверхности, а положительный электрод - над обрабатываемой поверхностью, изменяют точки подключения отрицательного потенциала к обрабатываемой поверхности, причем перемещение катодной области дуги осуществляют посредством изменения во времени и пространстве электрического и магнитного полей, а также посредством перемещения электродов относительно обрабатываемого изделия. Устройство содержит оператор, механизм ввода движения из атмосферы в вакуум, дополнительный электрод, систему вакуумирования, бокс для обработки изделия сложной формы, источник питания электрической дуги, источник питания электромагнитных катушек, сменные электромагнитные катушки, сменные дополнительные основные электроды, блок положительного электрода, манипулятор и ЭВМ. Изобретение позволяет повысить качество и производительность обработки. 2 с.п.ф-лы, 3 ил. | 2145643 патент выдан: опубликован: 20.02.2000 |
|
| СПОСОБ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТИ ИЗДЕЛИЙ ДУГОВЫМ РАЗРЯДОМ В ВАКУУМЕ Изобретение относится к области очистки и обработки деталей в вакууме, в частности для удаления с поверхности окалины, окисных пленок, технологических загрязнений и дефектов отливок, упрочнения или отпуска приповерхностного слоя обрабатываемой детали, удаления заусениц и т.д. Способ включает возбуждение разряда и обработку поверхности катодными пятнами дуги, при этом обработке подвергают горячую заготовку перед ковкой, прокатом или другими технологическими операциями, возбуждение дугового разряда проводят в режиме возрастающего участка вольт-амперной характеристики, в качестве анода используют графит, накладывают на электрическую дугу внешнее магнитное поле так, чтобы его вектор был примерно параллельным вектору электрического поля дуги, а вектор градиента магнитной индукции был примерно параллельным обрабатываемой поверхности, перемещение катодных пятен осуществляют изменением величины и направления вектора градиента магнитной индукции, а изменяя величину разрядного тока дуги регулируют интенсивность обработки поверхности вплоть до оплавления дефектов литья горячей заготовки. Способ позволяет повысить качество обрабатываемой поверхности. 5 ил. | 2144096 патент выдан: опубликован: 10.01.2000 |
|
| УСТАНОВКА ДЛЯ ОБРАБОТКИ ЛЕНТ И ФОЛЬГИ Изобретение может быть использовано для очистки поверхности от технологической смазки, стерилизации от находящихся на поверхности микроорганизмов и нанесения ионно-плазменных декоративных или технологических покрытий. Установка, содержащая расположенные по ходу технологического процесса разматыватель, неподвижные и подвижные натяжные ролики и наматыватель, дополнительно снабжена вакуумной камерой, состоящей из корпуса и крышки, источниками ионов, электронов или плазмы, источниками напряжения, механизмом протяжки, системой вакуумирования, системой подачи газа и пультом управления, причем расположенные по ходу технологического процесса разматыватель, неподвижные и подвижные натяжные ролики и наматыватель размещены в вакуумной камере с возможностью перемотки ленты и фольги в потоках заряженных частиц или плазмы источников заряженных частиц или плазменных источников, источники ионов, электронов или плазмы, корпус и крышка вакуумной камеры подключены к источникам электрического напряжения. Изобретение направлено на повышение производительности, экономичности и качества обработки поверхности. 2 ил. | 2142519 патент выдан: опубликован: 10.12.1999 |
|
| СПОСОБ УМЕНЬШЕНИЯ ШЕРОХОВАТОСТИ ПОВЕРХНОСТИ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ Изобретение относится к технологии тонких пленок и может быть использовано при создании элементов рентгеновской и нейтронной оптики. Способ включает воздействие на поверхность плазмы инертных и химически активных газов, обеспечивающих травление поверхностного слоя с одновременной полировкой поверхности, при этом травлению подвергают поверхность не самого материала, а пленку того же или иного материала, предварительно нанесенную на него из газовой фазы испарением или распылением мишени. Устройство содержит держатель образца и систему формирования плазмы, размещенные в вакуумной камере, причем держатель образца выполнен произвольной формы с возможностью подачи на него переменного напряжения и дополнительного постоянного смещения и возможностью размещения его в постоянном или переменном магнитном поле. Изобретение позволяет уменьшить шероховатость поверхности за счет проведения ионно-плазменной полировки. 2 с. и 3 з.п. ф-лы, 4 ил. | 2141005 патент выдан: опубликован: 10.11.1999 |
|