Подготовка оригиналов для фотомеханического изготовления рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком: .оригиналы, имеющие неорганические слои для формирования изображения, например хромовые маски – G03F 1/08

Изобретение относится к микроэлектронике, а именно к фотошаблонным заготовкам, предназначенным для получения шаблонов с последующей передачей рисунка микроизображения на полупроводниковую пластину при изготовлении интегральных схем. Предлагается в процессе нанесения маскирующего слоя окиси железа окислительным пиролизом пентакарбонила железа в газ-носитель вводить окислитель в виде газообразного галогена, что стабилизирует процесс окисления и делает его более полным. Технический результат - получение менее дефектных маскирующих пленок и снижение температуры процесса. 3 з.п. ф-лы, 1 табл.