Подготовка оригиналов для фотомеханического изготовления рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком: .оригиналы, отличающиеся конструктивными элементами, например подложками, покровными слоями, пленочными кольцами – G03F 1/14
Раздел G ФИЗИКА
G03 Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
G03F Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
G03F 1/00 Подготовка оригиналов для фотомеханического изготовления рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком
G03F 1/14 .оригиналы, отличающиеся конструктивными элементами, например подложками, покровными слоями, пленочными кольцами
Патенты в данной категории
ФОТОШАБЛОННАЯ ЗАГОТОВКА
Фотошаблонная заготовка содержит на стеклянном основании покрытие и пленку резиста. В качестве материала покрытия использовано соединение общей формулы МmЭn, где М - хром, железо; Э - азот, кислород; m и n - атомное соотношение М и Э, причем m>3, n<4. В качестве пленки резиста использован фоторезист или электронорезист. Соотношение толщин основание : покрытие : пленка резиста составляет (1-3) 103:1:(3-6). Технический результат: повышение стабильности литографических характеристик вследствие установленного соотношения толщин основание-покрытие-пленка резиста. 1 з.п. ф-лы, 1 табл.
|
2206115 патент выдан: опубликован: 10.06.2003 |
|