Подготовка оригиналов для фотомеханического изготовления рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком: .маски или бланки масок для формирования изображения с помощью излучения с длиной волны 100 нм или меньше, например рентгеновские маски, маски далекого ультрафиолетового диапазона (EUV), их изготовление – G03F 1/22
Раздел G ФИЗИКА
G03 Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
G03F Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
G03F 1/00 Подготовка оригиналов для фотомеханического изготовления рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком
G03F 1/22 .маски или бланки масок для формирования изображения с помощью излучения с длиной волны 100 нм или меньше, например рентгеновские маски, маски далекого ультрафиолетового диапазона (EUV); их изготовление