Разрядные приборы с устройствами для ввода объектов или материалов, подлежащих воздействию разряда, например с целью их исследования или обработки: ..для очистки поверхностей в процессе покрытия материалов ионами, вводимыми в разрядное пространство, например путем испарения – H01J 37/36

Изобретение относится к области очистки поверхностей газонаполненных разрядных приборов в процессе покрытия материалов ионами, вводимыми в разрядное пространство. Технический результат - увеличение производительности установки. В ионизационную камеру подают рабочее вещество на основе карборана и сильные окислители, которые вступают в химическую реакцию с продуктами, загрязняющими систему экстракции ионов и/или внутреннюю поверхность ионизационной камеры и/или ее компонент, с образованием летучих соединений. В качестве рабочего вещества используют карборандикарбоновую кислоту (C₄H₁₂B₁₀O₄ ), в которой атомы сильных окислителей включены в молекулу рабочего вещества. Сильные окислители, при электрическом разряде, высвобождаясь из молекулы рабочего вещества, вступают в химическую реакцию с продуктами, загрязняющими систему экстракции ионов и/или внутреннюю поверхность ионизационной камеры и/или ее компонент, с образованием летучих соединений, образующиеся летучие соединения удаляют вакуумной откачкой. 3 ил.

Изобретение относится к области магнетронного распыления материалов. Узел магнетронного распыления содержит распыляемую мишень и по меньшей мере одну плоскую магнитную систему. Плоская магнитная система установлена на водиле с приводом его вращения вокруг оси, перпендикулярной поверхности распыляемой мишени. По меньшей мере один носитель по меньшей мере одной плоской магнитной системы имеет привод его вращения вокруг дополнительной оси, параллельной оси вращения водила. По меньшей мере одна плоская магнитная система установлена на носителе магнитной системы со смещением относительно дополнительной оси. Скорости вращения магнитной системы вокруг первой и вокруг второй осей изменяют по заданной программе. В результате достигается равномерность распыления мишени, увеличение степени использования материала мишени и увеличение скорости распыления. 7 з.п. ф-лы, 3 ил.

Изобретение относится к изготовлению по меньшей мере одной очищенной подложки, особенно, очищенных таким образом режущих частей инструментов, очищенные подложки которых могут быть подвергнуты дополнительной технологической обработке до и/или после очистки, например, посредством нагрева и/или нанесением на них покрытия. Технический результат - обеспечение повышенной плотности плазменного травления непосредственно у очищаемой области поверхности подложки и достижение улучшенной равномерной очистки как внутри рельефов, так и выступающих частей на рассматриваемой области поверхности, особенно, например, на режущих кромках подложек инструментальных частей. Достигается тем, что очистка подложек плазменным травлением выполняется на установке плазменного разряда, содержащей катодный источник электронов (5) и анодную конструкцию (7). Анодная конструкция (7) содержит, с одной стороны, анодный электрод (9) и, с другой стороны, электрически изолированный от него ограничитель (11). Ограничитель (11) имеет отверстие (13), направленное к подвергаемой очистке области (S) подложки (21). Электропитание к катодному источнику электронов (5) и анодному электроду (9) подается по схеме питания от источника питания (19). Схема управляется в электрическом буферном режиме. 2 н. и 42 з.п. ф-лы, 10 ил.

Изобретение относится к плазменной обработке с применением "плазмы тлеющего разряда" и используется для поверхностной обработки на большой площади заготовок или бесконечных материалов. Установка для плазменной обработки бесконечного материала (1) содержит, по меньшей мере, одну вакуумируемую разрядную камеру (3а), через которую бесконечный материал может непрерывно транспортироваться. Снабжающее энергией устройство (30) подает электрическую разрядную энергию к разрядным промежуткам (G) между внешним электродом (5, 51-57) соответствующей разрядной камеры и бесконечным материалом в качестве внутреннего электрода. Снабжающее энергией устройство представляет собой выполненный с возможностью импульсной подачи разрядной энергии собственный источник тока, который имеет, по меньшей мере, один элемент (32) индуктивности в качестве аккумулятора энергии, совместно включающийся с согласованным с ним разрядным промежутком (G) или последовательно с несколькими согласованными с ним разрядными промежутками. Технический результат - повышение вводимой мощности и однородности обработки, возможность последовательного включения нескольких разрядных камер без промежуточного контактирования бесконечного материала. 23 з.п. ф-лы, 14 ил.

Изобретение относится к устройствам для очистки наружных и внутренних поверхностей изделий в вакууме и может быть использовано в различных отраслях промышленности для очистки внутренних и внешних поверхностей изделий. Техническим результатом является очистка наружных и внутренних поверхностей тел вращения, как открытых, так и закрытых с одной стороны. Установка для очистки содержит вакуумную камеру с анодом, с размещенным в нем обрабатываемым изделием, являющимся катодом, экран и систему управления установкой. Установка снабжена магнитной системой управления перемещением катодных пятен, состоящей из внутренней и внешней цилиндрических многосекционных катушек, установленным внутри катода дополнительным анодом в виде цилиндра. Анод выполнен в виде цилиндрической обечайки, система управления установкой содержит источник постоянного тока, программируемое устройство, блок обратной связи, коммутатор и многоканальный регулируемый источник тока. 2 з.п. ф-лы, 2 ил.

Изобретение относится к области электротехники, в частности к травильным камерам с плазмой высокой плотности. Камера содержит электростатический держатель, предназначенный для удержания пластины, и расходуемые части, которые являются в высокой степени устойчивыми к травлению и в меньшей степени восприимчивы к образованию загрязнений и температуру которых можно регулировать, что является техническим результатом изобретения. Расходуемые части содержат вкладыш камеры, имеющий нижнюю секцию крепления, и стенку, которая сконфигурирована таким образом, что она окружает электростатический держатель. Расходуемые части также включают держатель вкладыша, имеющий нижний выступ, гибкую стенку и верхний выступ. Гибкая стенка сконфигурирована таким образом, что она окружает внешнюю поверхность стенки вкладыша камеры, при этом гибкая стенка держателя вкладыша расположена на некотором расстоянии от стенки вкладыша камеры. Нижний выступ держателя вкладыша сконфигурирован так, что он находится в прямом тепловом контакте с нижней секцией держателя вкладыша камеры. Кроме того, отражательное кольцо представляет собой расходуемую часть и может устанавливаться с обеспечением теплового контакта со вкладышем камеры и держателем вкладыша. 2 с. и 22 з.п.ф-лы, 8 ил.