Получение плазмы, управление плазмой: .....с использованием внешних магнитных полей, например для фокусирования или вращения дуги – H05H 1/40
Раздел H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
H05 Специальные области электротехники, не отнесенные к другим классам
H05H Плазменная техника; получение или ускорение электрически заряженных частиц или нейтронов; получение или ускорение пучков нейтральных молекул или атомов
H05H 1/00 Получение плазмы; управление плазмой
H05H 1/40 .....с использованием внешних магнитных полей, например для фокусирования или вращения дуги
Патенты в данной категории
| СПОСОБ ГЕНЕРАЦИИ ОБЪЕМНОЙ ПЛАЗМЫ
Изобретение относится к плазменной технике и может быть использовано в плазмохимии, в порошковой металлургии, в энергетике, а также найти применение в других областях техники. Способ генерации объемной плазмы включает приложение напряжения к электродам в газе и возбуждение разряда. Дуговой разряд зажигают и формируют плазменный дуговой канал. Канал перемещают в пространстве с помощью магнитного поля. В его следе возбуждают объемную СВЧ плазму путем подведения электромагнитной волны к каналу. СВЧ мощность целесообразно подводить в импульсном режиме. Изобретение позволяет повысить производительность устройств, использующих плотную объемную плазму. 1 з.п. ф-лы, 4 ил. |
2361376 патент выдан: опубликован: 10.07.2009 |
|
| СПОСОБ УПРАВЛЕНИЯ ПЛАЗМЕННЫМ ПОТОКОМ И ПЛАЗМЕННОЕ УСТРОЙСТВО Использование: в электронной промышленности, в машиностроении, приборостроении и других областях промышленности, где используется плазменная обработка поверхностей изделий. Сущность изобретения: для получения плазменного потока с заданными характеристиками на каждую из плазменных струй, образующих плазменный поток, воздействуют магнитным полем, составляющая вектора магнитной индукции которого перпендикулярна направлению истечения соответствующей струи. Помимо магнитного поля, воздействие можно осуществлять изменением энергии, вложенной в плазменный поток, расхода плазмообразующего газа в каждой из струй или изменением его состава. В результате появляется возможность управления, воспроизведения и поддержания постоянными во времени таких параметров плазменного потока, как распределение яркости и температуры, распределение спектрального коэффициента излучения плазмы и распределение концентрации ионов в плазменном потоке. Устройство для осуществления способа содержит две или более плазменные горелки, соединенные с источником питания плазменной дуги и источниками плазмообразующего газа. Каждая из горелок снабжена магнитом в виде разомкнутого сердечника с соленоидом. Устройство снабжено узлом регистрации параметров плазменного потока, связанным с блоком обработки, выходы которого соединены с источниками электропитания магнитов, источниками плазмообразующего газа и с источником электропитания плазменной дуги. 2 с. и 12 з.п.ф-лы, 9 ил. | 2032280 патент выдан: опубликован: 27.03.1995 |
|