Получение плазмы, управление плазмой: ....с использованием более чем одной горелки – H05H 1/44

МПКРаздел HH05H05HH05H 1/00H05H 1/44
Раздел H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
H05 Специальные области электротехники, не отнесенные к другим классам
H05H Плазменная техника; получение или ускорение электрически заряженных частиц или нейтронов; получение или ускорение пучков нейтральных молекул или атомов
H05H 1/00 Получение плазмы; управление плазмой
H05H 1/44 ....с использованием более чем одной горелки

Патенты в данной категории

ПЛАЗМЕННЫЕ УСТРОЙСТВО И СИСТЕМА

Сдвоенное плазменное устройство содержит анодную плазменную головку и катодную плазменную головку. Каждая из плазменных головок включает в себя электрод и канал для потока плазмы, и элемент для впуска основного газа между, по меньшей мере, частью электрода и каналом для потока плазмы. Анодная плазменная головка и катодная плазменная головка ориентированы под некоторым углом по направлению друг к другу. По меньшей мере, один из каналов для потока плазмы включает в себя три по существу цилиндрических участка. Три по существу цилиндрических участка каналов для потока плазмы обеспечивают уменьшение возникновения побочных дуг. 2 н. и 12 з.п. ф-лы, 12 ил.

2459010
патент выдан:
опубликован: 20.08.2012
УСТРОЙСТВО СДВОЕННОЙ ПЛАЗМЕННОЙ ГОРЕЛКИ

Изобретение относится к устройству сдвоенной плазменной горелки. Изобретение может применяться для производства порошков нанометрового размера, для придания частицам порошков сферической формы или для обработки органических отходов. Устройство сдвоенной плазменной горелки содержит два узла сдвоенной плазменной горелки, поддерживаемых в корпусе. Каждый узел имеет первый и второй разнесенные электроды. Обволакивающий газ вводится, чтобы окружать плазменный газ. Предусмотрена загрузочная трубка для подачи загружаемого материала в устройство обработки. 3 н. и 24 з.п. ф-лы, 7 ил.

2267239
патент выдан:
опубликован: 27.12.2005
СПОСОБ УПРАВЛЕНИЯ ПЛАЗМЕННЫМ ПОТОКОМ И ПЛАЗМЕННОЕ УСТРОЙСТВО

Использование: в электронной промышленности, в машиностроении, приборостроении и других областях промышленности, где используется плазменная обработка поверхностей изделий. Сущность изобретения: для получения плазменного потока с заданными характеристиками на каждую из плазменных струй, образующих плазменный поток, воздействуют магнитным полем, составляющая вектора магнитной индукции которого перпендикулярна направлению истечения соответствующей струи. Помимо магнитного поля, воздействие можно осуществлять изменением энергии, вложенной в плазменный поток, расхода плазмообразующего газа в каждой из струй или изменением его состава. В результате появляется возможность управления, воспроизведения и поддержания постоянными во времени таких параметров плазменного потока, как распределение яркости и температуры, распределение спектрального коэффициента излучения плазмы и распределение концентрации ионов в плазменном потоке. Устройство для осуществления способа содержит две или более плазменные горелки, соединенные с источником питания плазменной дуги и источниками плазмообразующего газа. Каждая из горелок снабжена магнитом в виде разомкнутого сердечника с соленоидом. Устройство снабжено узлом регистрации параметров плазменного потока, связанным с блоком обработки, выходы которого соединены с источниками электропитания магнитов, источниками плазмообразующего газа и с источником электропитания плазменной дуги. 2 с. и 12 з.п.ф-лы, 9 ил.
2032280
патент выдан:
опубликован: 27.03.1995
Наверх