Получение плазмы, управление плазмой: ...с использованием внешних электромагнитных полей, например высокой и сверхвысокой частоты – H05H 1/30

Устройство для получения высокочастотного емкостного газового разряда относится к плазменной технике и может быть использовано для возбуждения высокочастотного емкостного газового разряда, применяемого для обработки различных изделий высокочастотной низкотемпературной плазмой пониженного давления и в качестве активного элемента газового лазера. Заявленное устройство представляет собой диэлектрическую газонаполненную камеру, вблизи или внутри которой размещены, по меньшей мере, две пары параллельных проволочных электродов, часть которых подключена к ВЧ-генератору, оставшиеся заземлены, при этом подключение электродов к ВЧ-генератору и подключение оставшихся электродов к заземлению осуществлено параллельным способом, причем подключенные к ВЧ-генератору электроды чередуются через один с заземленными электродами. Каждый проволочный электрод выполнен в виде петли и размещен по периметру на внешней стороне диэлектрической газонаполненной камеры. Внутри диэлектрической газонаполненной камеры коаксиально установлен дополнительный проволочный электрод на диэлектрических опорах. Техническим результатом является обеспечение пространственной однородности и устойчивости горения высокочастотного емкостного газового разряда во всем объеме диэлектрической газонаполненной камеры. 3 ил.

Изобретение относится к СВЧ плазменному реактору и может найти применение при формировании пленки большого размера, соизмеримого по диаметру с длиной СВЧ волны. Реактор содержит герметичную осесимметричную камеру с каналами для газа и установленные в ней радиальный волновод, центральная часть которого является СВЧ резонатором, держатель подложки, коллектор, газовый теплообменник и тороидальную мембрану. Газовый теплообменник содержит цилиндрическую камеру, установленную коаксиально с держателем подложки. Тороидальная мембрана образует в сечении U-образный полуволновой шлейф и расположена между радиальным волноводом и держателем подложки. Держатель подложки выполнен цилиндрическим, осесимметричным, массивным из термостойкого и теплопроводного металла. Один из каналов для газа выполнен осевым и соединен с цилиндрической камерой теплообменника, а другой канал для газа - с коллектором. Цилиндрическая камера соединена с обратной по отношению к подложке и СВЧ разряду стороной упомянутого держателя, контактирует с ней по площади от 30 до 90% площади обратной стороны держателя и соединена с коллектором посредством зазора. Держатель подложки соединен с радиальным волноводом через тороидальную мембрану. Технический результат изобретения состоит в обеспечении поддержания однородной температуры на подложке увеличенной площади. 4 з.п. ф-лы, 1 ил.

Изобретение относится к способам получения трубок, прутков для применений оптического волокна и заготовок для ультрафиолетпропускающих оптических компонентов из диоксида кремния методом плазменного напыления. Техническим результатом изобретения является снижение загрязнений изделий. Плазменная горелка содержит наружную трубку из кварцевого стекла, окруженную индукционной катушкой, внутреннюю трубку из кварцевого стекла, среднюю трубку из кварцевого стекла, по меньшей мере, одну форсунку введения химических реагентов, находящуюся между первым и вторым кольцевыми дисками. Один конец трубок соединен с основанием. Второй конец наружной трубки соединен с первым кольцевым диском из кварцевого стекла, второй конец средней трубки соединен со вторым кольцевым диском из кварцевого стекла, а второй конец внутренней трубки ориентирован к подложке. 2 н. и 38 з.п. ф-лы, 1 табл., 7 ил.

Изобретение относится к области электротехники, в частности к генераторам регулируемого импульсного тока, и может быть использовано в медицине при активации гидрофильных и гидрофобных материалов. Предложенное устройство для генерации регулируемого импульсного постоянного тока содержит спираль соленоида, выполненную диаметром витков от 10 до 25 мм из медной или серебряной ленты с сечением: при толщине от 0,1 до 0,5 мм и ширине от 5 до 15 мм, с зазором между витками от 2 до 5 мм и установленную в диэлектрическом корпусе, экранированном медной или алюминиевой фольгой толщиной от 0,05 до 0,1 мм, заполненном веществом, содержащим мас.%: кремниевый песок 30÷60, графит технический 5÷10, шунгит 5÷10, хлорид натрия 5÷10, гидрофосфат калия 5÷10, хлорид магния 5÷10, кальцит 5÷10, пчелиный воск - остальное; причем между витками соленоида размещены, без прямого контакта с витками, от 2 до 6 серебряных пластинок, и от 1/5 до 1/3 части витков спирали соленоида размещены в воздушной среде, отожжены и выпрямлены с возможностью нанесения на эту часть витков вещества, содержащего активаторы возбуждения или торможения нервных клеток человека. Устройство обеспечивает избирательную активацию гидрофильных и гидрофобных материалов и позволяет проводить диагностику и лечение пациентов. 1 ил., 1 табл.

Изобретение относится к индукционным плазменным горелкам. Индукционная плазменная горелка содержит трубчатый корпус, имеющий ближний и дальний концы и окружающий осевую камеру; газораспределительную головку, расположенную на ближнем конце корпуса горелки, для подачи, по меньшей мере одного газообразного вещества в камеру; ряд индукционных катушек, прикрепленных к корпусу горелки, содержащих первую индукционную катушку, подсоединяемую к выходу с более высокой частотой первого источника питания, и несколько вторых индукционных катушек между первой индукционной катушкой и дальним концом корпуса горелки, причем вторые индукционные катушки имеют соответствующие выводы и соединительную схему, расположенную между первым и вторым выводами выхода с более низкой частотой второго источника питания, и выводами вторых индукционных катушек. Изобретение позволяет осуществить существенное согласование входного полного сопротивления индукционных катушек с выходным полным сопротивлением источника питания. 1 н. и 12 з.п. ф-лы, 1 ил.

Изобретение относится к плазменным реакторам с увеличенными объемом плазмы и величиной вводимой в разряд электрической энергии и может быть использовано для прямого восстановления металлов из руд, розжига электроплавильных печей, синтеза порошковых материалов, сфероидизации порошков, осаждения пленок и др. Технический результат - устранение известных ограничений на вводимую в плазменный разряд СВЧ энергию и в существенном ее увеличении при сохранении свойственных СВЧ плазменным устройствам отсутствия расходуемых материалов и простоты управления процессом. СВЧ плазмохимический реактор содержит средства для подачи исходного материала сбора конечного продукта, подачи и отбора рабочего газа, средства создания продольного магнитного поля и ввода СВЧ энергии. Во внутренней трубе узла ввода СВЧ энергии у торца ее, обращенного в разрядную камеру, размещена электропроводящая полая вставка, подключенная через трубу, плавный переход и центральный проводник коаксиально-волноводного перехода к отрицательному полюсу источника напряжения, а центральный проводник выполнен в виде трубы и подключен к дозатору исходного материала, при этом средство для начального размещения исходного материала и сбора конечного продукта выполнено в виде платформы, установленной в подвижной трубе, выполняющей роль анода дугового разряда. 1 з.п. ф-лы, 2 ил.

Предлагаемая группа изобретений относится к технике и технологии низкотемпературной плазменной обработки материалов и может быть использована при производстве из термопластичных материалов микросфер, имеющих достаточно широкое применение в различных отраслях техники. Изобретение позволяет оптимизировать процесс обработки термопластичных материалов, обеспечивает высокую производительность при высоком качестве сфероидизации. В способе обработки дисперсных термопластичных материалов индукционно связанной плазмой, включающем формирование по сечению плазмотрона стабильного по давлению и расходу потока рабочего газа и подачу материала в примыкающую к внешней стороне выхода плазмотрона область равновесной плазмы, подают равномерный по массовому расходу поток материала перпендикулярно потоку плазмы со скоростью, близкой к скорости свободного падения тела, при ширине потока материала не более ширины зоны плазменного потока и при толщине не более трех среднестатистических диаметров частиц. В способе формирования потока мелкодисперсного сыпучего материала, включающем дозирование исходного материала, подачу его самотеком, предварительное и финишное смешение, при дозировании сглаживают пульсацию потока, на стадии предварительного смешения поток, поступающий из дозатора, делят на равные по массовому расходу потоки, затем с каждым из них осуществляют, по меньшей мере, два последовательных цикла, в каждом из которых поток материала вначале дополнительно делят на два подпотока, движущиеся с различными скоростями по зигзагообразным асимметричным траекториям, а потом эти подпотоки объединяют, по окончании последнего цикла меняют направление объединенного потока, а на стадии финишного смешения обеспечивают взаимодействие первоначально разделенных потоков так, что горизонтальные составляющие векторов их движения взаимно компенсированы. 2 н.п. ф-лы, 2 ил., 3 табл.

Изобретение относится к области машиностроения, в частности к сверхвысокочастотным плазмотронам для получения низкотемпературной плазмы для обработки материалов при давлении ниже атмосферного. На внутренней проводящей поверхности разрядной камеры выполнены один или несколько кольцевых радиальных пазов, пазы могут быть выполнены в виде короткозамкнутых отрезков коаксиальной линии с проводящими стенками глубиной, равной четверти длины волны электромагнитных колебаний генератора. Изобретение позволяет повысить эффективность взаимодействия электромагнитной энергии с плазмообразующим газом. 1 з.п. ф-лы, 4 ил.